Halbleiterbauelement
    22.
    发明专利

    公开(公告)号:DE102014102118A1

    公开(公告)日:2014-08-28

    申请号:DE102014102118

    申请日:2014-02-19

    Abstract: Diverse Halbleiterchips enthalten je eine erste Hauptfläche und eine zweite Hauptfläche gegenüber der ersten Hauptfläche. Eine erste Verkappungsschicht wird über den zweiten Hauptflächen der Halbleiterchips appliziert. Eine Elektroverdrahtungsschicht wird über den ersten Hauptflächen der ersten Halbleiterchips appliziert. Eine zweite Verkappungsschicht wird über der Elektroverdrahtungsschicht appliziert. Die Dikke der ersten Verkappungsschicht und die Dicken der ersten Halbleiterchips werden reduziert. Die Struktur kann vereinzelt werden, um mehrere Halbleiterbauelemente zu erhalten.

    TEMPORÄRE MECHANISCHE STABILISIERUNG VON HALBLEITERHOHLRÄUMEN

    公开(公告)号:DE102016117990A1

    公开(公告)日:2018-03-29

    申请号:DE102016117990

    申请日:2016-09-23

    Abstract: Ein Verfahren zum Herstellen einer elektronischen Vorrichtung umfasst Bereitstellen eines Halbleiterwafers, Bilden von mehreren Hohlräumen in den Halbleiterwafer, Füllen eines Stabilisierungsmaterials in die Hohlräume, Herstellen einer temporären Platte durch Aufbringen einer Kappenschicht auf den Halbleiterwafer, wobei die Kappenschicht die Hohlräume bedeckt, Vereinzeln der temporären Platte in mehrere Halbleitervorrichtungen, Herstellen eines eingebetteten Wafers durch Einbetten der Halbleitervorrichtungen in ein Verkapselungsmittel, Entfernen der Kappenschicht von jeder der Halbleitervorrichtungen und Vereinzeln des eingebetteten Wafers in mehrere elektronische Vorrichtungen.

    Einrichtung zum Bestimmen einer Eigenschaft eines Fluids

    公开(公告)号:DE102017204944A1

    公开(公告)日:2017-09-28

    申请号:DE102017204944

    申请日:2017-03-23

    Abstract: Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung stellen eine Einrichtung zum Bestimmen einer Eigenschaft eines Fluids bereit. Die Einrichtung kann eine Vorrichtung beinhalten, die dazu konfiguriert ist, einen hydrodynamischen Druck des Fluids zu bestimmen. Die Einrichtung kann ferner einen Sensor beinhalten, der dazu konfiguriert ist, einen hydrostatischen Druck des Fluids oder wenigstens einer Komponente des Fluids zu bestimmen. Die Einrichtung kann auch ein gemeinsames Substrat, auf dem der Sensor und die Vorrichtung, die dazu konfiguriert ist, einen hydrodynamischen Druck des Fluids zu bestimmen, gemeinsam angeordnet sein können, und einen ASIC (Application Specific Integrated Circuit – anwendungsspezifischer integrierter Schaltkreis), der elektrisch mit der Vorrichtung und/oder dem Sensor gekoppelt sein kann, beinhalten. Der ASIC kann wenigstens teilweise in dem gemeinsamen Substrat eingebettet sein.

    Halbleiterbauelement mit einem Hohlraumdeckel

    公开(公告)号:DE102016106603A1

    公开(公告)日:2016-10-13

    申请号:DE102016106603

    申请日:2016-04-11

    Abstract: Es werden ein Halbleiterbauelement mit einem Deckel sowie ein Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelements mit einem Deckel offenbart. Das Halbleiterbauelement enthält ein Substrat. Ein Bauelement wird auf dem Substrat positioniert. Ein Deckel, der aus einem Halbleitermaterial besteht, wird über dem Bauelement positioniert, um einen Schutzhohlraum um das Bauelement zu bilden. Der Deckel wird mittels eines Halbleiterprozesses ausgebildet. In anderen Beispielen kann der Deckel aus einem nicht-leitfähigen Material hergestellt sein, wie zum Beispiel einem Polymermaterial. Die Deckel können im Rahmen eines diskontinuierlichen Prozesses ausgebildet werden.

    Bauelement mit einem eingekapselten Halbleiterchip und Herstellungsverfahren

    公开(公告)号:DE102011000836B4

    公开(公告)日:2015-05-13

    申请号:DE102011000836

    申请日:2011-02-21

    Abstract: Bauelement (100), umfassend: einen Halbleiterchip (10), der auf einer ersten Hauptseite (12) des Halbleiterchips (10) angeordnete Kontaktstellen (11) umfasst, ein Material (13) mit einer Bruchdehnung von mehr als 35%, wobei das Material (13) die erste Hauptseite (12) des Halbleiterchips (10) bedeckt, einen Einkapselungskörper (14), der den Halbleiterchip (10) bedeckt, und eine Metallschicht (15), die elektrisch mit den Kontaktstellen (11) des Halbleiterchips (10) gekoppelt ist und sich über den Einkapselungskörper (14) erstreckt, wobei das Material (13) mit einer Bruchdehnung von mehr als 35% in einem Array oder einer anderen Anordnung von Pads (31) auf dem Halbleiterchip (10) angeordnet ist, über jedem der aus dem Material (13) mit einer Bruchdehnung von mehr als 35% bestehenden Pads (31) eine jeweilige externe Kontaktstelle (27) angeordnet ist, über mindestens einer der externen Kontaktstellen (27) eine jeweilige Lotabscheidung (28) angeordnet ist, und die externen Kontaktstellen (27) und die Lotabscheidungen (28) in demselben Array oder in derselben Anordnung wie die Pads (31) angeordnet sind.

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