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    Verfahren zum Herstellen eines diffraktiven optischen Elements
    31.
    发明专利
    Verfahren zum Herstellen eines diffraktiven optischen Elements 未知

    公开(公告)号：DE102021105773A1

    公开(公告)日：2021-09-30

    申请号：DE102021105773

    申请日：2021-03-10

    Applicant: ASML NETHERLANDS BV ,  ZEISS CARL SMT GMBH

    Inventor： SCHMITT JAN ,  LOOPSTRA ERIK

    IPC: G02B5/18 ,  B81C1/00 ,  C03C17/27 ,  G03F7/20

    Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines diffraktiven optischen Elements (110, 320) mit einem Bereitstellen eines Substrats (104), wobei das Substrat (104) eine Basisschicht (100) und mindestens eine auf der Basisschicht (100) angeordnete Zusatzschicht (102) aufweist, wobei die Zusatzschicht (102) aus einem vorgebbaren Schichtmaterial gebildet ist, sowie einem Erzeugen von diffraktiven Strukturen (108) in mindestens in einer Zusatzschicht (102) des Substrats (108) durch abschnittsweise chemische Veränderung des Schichtmaterials. Die chemische Veränderung erfolgt derart, dass die Brechzahl des chemisch veränderten Schichtmaterials sich von der Brechzahl des chemisch unveränderten Schichtmaterials unterscheidet. Weiterhin betrifft die Erfindung ein diffraktives optisches Element (110, 320).

    Aktuatoreinrichtung und Projektionsbelichtungsanlage
    32.
    发明专利
    Aktuatoreinrichtung und Projektionsbelichtungsanlage 未知

    公开(公告)号：DE102018130290A1

    公开(公告)日：2020-06-04

    申请号：DE102018130290

    申请日：2018-11-29

    Applicant: ASML NETHERLANDS BV ,  ZEISS CARL SMT GMBH

    Inventor： HOL SVEN ,  LOOPSTRA ERIK ,  KAMMINGA JELMER ,  MERRY ROEL ,  SCHÖNHOFF ULRICH ,  HAUF MARKUS

    IPC: H02K1/06 ,  G02B7/198 ,  G02B26/08 ,  G03F7/20

    Abstract: Die Erfindung betrifft eine Aktuatoreinrichtung (1), umfassend einen Elektromotor (15) und eine Stromgebereinheit (16), wobei der Elektromotor (15) einen Stator (17) und einen relativ zu dem Stator (17) auslenkbaren Läufer (10) aufweist. Der Stator (17) oder der Läufer (10) umfasst wenigstens eine erste Spulenanordnung (18), die ausgebildet und angeordnet ist, um eine Auslenkung des Läufers (10) aufgrund von elektromagnetischer Wechselwirkung zu erzeugen. Es ist vorgesehen, dass die erste Spulenanordnung (18) eine erste Spule (22) und eine zweite Spule (23) aufweist, wobei die erste Spule (22) mittels der Stromgebereinheit (16) mit einem ersten elektrischen Strom (i) und die zweite Spule (23) mittels der Stromgebereinheit (16) mit einem zweiten elektrischen Strom (i) beaufschlagbar ist. Die Stromgebereinheit (16) ist eingerichtet, um den ersten elektrischen Strom (i) und den zweiten elektrischen Strom (i) in Betrag und Richtung derart einzustellen, dass die in den Elektromotor (15) eingebrachte elektrische Leistung (P) über den auslenkbaren Bereich des Läufers (10) konstant ist.

    LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD
    39.
    发明专利
    LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD 未知

    公开(公告)号：SG186072A1

    公开(公告)日：2013-01-30

    申请号：SG2012086955

    申请日：2011-03-17

    Applicant: ASML NETHERLANDS BV

    Inventor： YAKUNIN ANDREI ,  BANINE VADIM ,  LOOPSTRA ERIK ,  VAN DER SCHOOT HARMEN ,  STEVENS LUCAS ,  VAN KAMPEN MAARTEN

    IPC: G03F1/24 ,  G03F1/62

    Abstract: A lithographic apparatus includes a radiation source configured to produce a radiation beam, and a support configured to support a patterning device. The patterning device is configured to impart the radiation beam with a pattern to form a patterned radiation beam. A chamber is located between the radiation source and patterning device. The chamber contains at least one optical component configured to reflect the radiation beam, and is configured to permit radiation from the radiation source to pass therethrough. A membrane (44) is configured to permit the passage of the radiation beam, and to prevent the passage of contamination particles (54) through the membrane. A particle trapping structure (52) is configured to permit gas to flow along an indirect path from inside the chamber to outside the chamber. The indirect path is configured to substantially prevent the passage of contamination particles (58) from inside the chamber to outside the chamber.

    ILLUMINATION SYSTEM, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND ILLUMINATION METHOD.
    40.
    发明专利
    ILLUMINATION SYSTEM, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND ILLUMINATION METHOD. 未知

    公开(公告)号：NL2005771A

    公开(公告)日：2011-06-30

    申请号：NL2005771

    申请日：2010-11-29

    Applicant: ASML NETHERLANDS BV

    Inventor： BOEIJ WILHELMUS ,  LOOPSTRA ERIK ,  MICKAN UWE ,  SCHOOT JAN ,  VRIES GOSSE

    IPC: G03F7/20

    Abstract: An illumination system includes a field-facet mirror-device and a pupil mirror configured to condition a beam of radiation incident on the field-facet mirror-device. The field-facet mirror-device includes reflective field facets movable between first and second orientations relative to the incident beam. The field facets in their first orientations are effective to reflect the incident radiation towards respective reflective pupil facets so as to form part of a conditioned beam reflected from the pupil-facet mirror-device. The field facets in their second orientations are effective to reflect the incident radiation onto respective areas of the pupil-facet mirror-device designated as beam dump areas. The areas are arranged to prevent radiation incident on the areas from forming part of the conditioned beam and are arranged between the limits of an annular area on the pupil-facet mirror-device effective to define the inner and outer regions of the conditioned beam reflected from the pupil-facet mirror-device.

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