公开(公告)号：KR20100114851A

公开(公告)日：2010-10-26

申请号：KR20100034946

申请日：2010-04-15

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： DE WINTER LAURENTIUS CORNELIUS ,  FINDERS JOZEF MARIA

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70308 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/70283 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/0337

Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a device and a lithography apparatus are provided to reduce the unbalance of the intensity of radiated ray by regulating the phases of diffracted radiation ray. CONSTITUTION: Radiation ray beam is used for illuminating the mask pattern of an alternating phase shift mask in order to obtain diffracted radiation ray beam(DB). The mask pattern is formed on a substrate using a projection system. The phases of the diffracted radiation ray beam are regulated using an optical phase regulator.

Abstract translation: 目的：提供一种用于制造器件和光刻设备的方法，以通过调节衍射辐射射线的相位来减少辐射强度的不平衡。 构成：辐射射线束用于照射交替相移掩模的掩模图案，以获得衍射辐射束（DB）。 掩模图案使用投影系统形成在基板上。 使用光学相位调节器来调节衍射辐射束的相位。

公开(公告)号：KR20100113043A

公开(公告)日：2010-10-20

申请号：KR20100032831

申请日：2010-04-09

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： EUMMELEN ERIK HENRICUS EGIDIUS CATHARINA ,  STEFFENS KOEN ,  KANEKO TAKESHI ,  CORCORAN GREGORY MARTIN MASON

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70916 ,  H01L21/0274

Abstract: PURPOSE: An immersion lithography device and a manufacturing method thereof are provided to effectively and efficiently remove undesirable droplets from the surface of a substrate or a substrate table. CONSTITUTION: An immersion lithography device comprises the following: a projection system having an optical axis; a substrate table formed to maintain a substrate, defining the facing surface of the substrate and the substrate table itself; and a fluid handling structure for supplying an immersion liquid to an immersion space located on the surface facing the projection system. The fluid handling structure includes a fluid removal device(400), and a droplet removal device to remove droplets(200) form the immersion liquid.

Abstract translation: 目的：提供一种浸没式光刻设备及其制造方法，以有效且有效地从基板或基板台的表面除去不需要的液滴。 构成：浸没光刻设备包括以下：具有光轴的投影系统; 形成为保持衬底的衬底台，限定衬底的面对表面和衬底台本身; 以及用于将浸没液体供应到位于面向投影系统的表面上的浸没空间的流体处理结构。 流体处理结构包括流体去除装置（400）和用于去除液滴（200）形成浸液的液滴去除装置。

公开(公告)号：KR20100098479A

公开(公告)日：2010-09-07

申请号：KR20100067520

申请日：2010-07-13

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： BERKVENS PAUL PETRUS JOANNES ,  DE GRAAF ROELOF FREDERIK ,  LEIBREGTS PAULUS MARTINUS MARIA ,  VAN DER HAM RONALD ,  SIMONS WILHELMUS FRANCISCUS JOHANNES ,  DIRECKS DANIEL JOZEF MARIA ,  JANSSEN FRANCISCUS JOHANNES JOSEPH ,  SCHOLTES PAUL WILLIAM ,  BRANDS GERT JAN GERARDUS JOHANNES THOMAS ,  STEFFENS KOEN ,  LEMPENS HAN HENRICUS ALDEGONDA ,  VAN LIEROP MATHIEUS ANNA KAREL ,  DE METSENAERE CHRISTOPHE ,  MIRANDA MARCIO ALEXANDRE CANO ,  SPRUYTENBURG PATRICK JOHANNES WILHELMUS ,  VERSTRAETE JORIS JOHAN ANNE MARIE

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/2041 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/0275

Abstract: PURPOSE: A lithography apparatus and a method for manufacturing a device are provided to control the flow of fluid through a fluid inlet by varying the flux of the fluid. CONSTITUTION: An illuminator(IL) receives a radiation beam(B) from a radiation source(SO). The illuminator includes an adjusting unit(AD) which adjusts the angular intensity distribution of the radiation beam. The radiation beam passes through a projection system(PS) and is focused on the target parts(C) on a substrate(W). A first location setting unit(PM) accurately locates a pattern device(MA). A substrate table(WT) moves to locate the target parts in the path of the radiation beam.

Abstract translation: 目的：提供一种光刻设备和用于制造器件的方法，以通过改变流体的通量来控制通过流体入口的流体流动。 构成：照射器（IL）从辐射源（SO）接收辐射束（B）。 照明器包括调节单元（AD），该调节单元调节辐射束的角度强度分布。 辐射束通过投影系统（PS）并聚焦在基底（W）上的目标部分（C）上。 第一位置设置单元（PM）精确地定位图案设备（MA）。 衬底台（WT）移动以将目标部件定位在辐射束的路径中。

公开(公告)号：KR20070095805A

公开(公告)日：2007-10-01

申请号：KR20070027566

申请日：2007-03-21

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： KLAVER RENATUS GERARDUS ,  LOOPSTRA ERIK ROELOF ,  VAN DER PASCH ENGELBERTUS ANTO

IPC: G01B11/02 ,  G01B9/02 ,  G03F7/20

CPC classification number: G01D5/38 ,  G03F7/70775

Abstract: A displacement measuring system, a lithography device, and a manufacturing method thereof are provided to reduce sensitivity against an error and to decrease an installation space thereof. A displacement measuring system comprises first and second diffraction lattices, a sensor(216), and at least one linear polarizer(217,218). The first diffraction lattice is used to divide a first beam of inputted radiation into first positive and negative diffraction radiation beams(212,213). The first positive and negative diffraction radiation beams are diffracted more by the second diffraction lattice. The sensor is used to decide a relative displacement between the first and second diffraction lattices from a decision of a phase difference between a first component of the second beam deduced from the first positive diffraction radiation beam, and a second component of the second beam deduced from the first negative diffraction radiation beam. The linear polarizer is formed to diffract the first and second components of the second beam linearly and to position and cross the first and second components mutually. A lithography device is used to detect the displacement of the first component thereof against the second component thereof.

Abstract translation: 提供了位移测量系统，光刻设备及其制造方法，以降低对错误的灵敏度并减小其安装空间。 位移测量系统包括第一和第二衍射栅格，传感器（216）和至少一个线性偏振器（217,218）。 第一衍射栅格用于将第一射入的辐射束分成第一正和负衍射辐射束（212,213）。 第一正和负衍射辐射束被第二衍射晶格衍射更多。 该传感器用于根据从第一正衍射辐射束推断的第二光束的第一分量与从第一正衍射辐射束推导出的第二光束的第二分量之间的相位差的判定来确定第一和第二衍射光栅之间的相对位移 第一个负衍射辐射束。 线性偏振器被形成为线性地衍射第二光束的第一和第二分量并相互定位和交叉第一和第二分量。 光刻装置用于检测其第一部件相对于其第二部件的位移。

公开(公告)号：KR20070092130A

公开(公告)日：2007-09-12

申请号：KR20070022072

申请日：2007-03-06

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： LALBAHADOERSING SANJAY ,  MUSA SAMI

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70466 ,  G03F7/70025

Abstract: A method and a system for enhanced lithographic patterning are provided to print a pattern having a feature interval less than a printable minimum interval within a hard mask by using a single exposure method. A patterned radiation beam is applied to a hard mask layer provided on a substrate. First parts of the hard mask layer are exposed by using a first dose of radiation necessary for enhancing etch characteristics of the first parts from the patterned radiation beam. Second parts different from the first parts of the hard mask layer are exposed by using a second dose of radiation necessary for enhancing etch characteristics of the second parts from the patterned radiation beam. An etch process for the hard mask layer is performed. The first parts and the second parts are removed. Parts of the hard mask layer except the first and second parts are not damaged.

Abstract translation: 提供了用于增强平版印刷图案的方法和系统，以通过使用单一曝光方法来打印具有小于硬掩模内的可打印最小间隔的特征间隔的图案。 将图案化的辐射束施加到设置在基板上的硬掩模层。 通过使用用于从图案化的辐射束增强第一部分的蚀刻特性所需的第一剂量的辐射来暴露硬掩模层的第一部分。 与硬掩模层的第一部分不同的第二部分通过使用从图案化的辐射束增强第二部分的蚀刻特性所需的第二剂量的辐射来暴露。 执行用于硬掩模层的蚀刻工艺。 第一部分和第二部分被去除。 除了第一和第二部分之外的硬掩模层的部分不被损坏。

公开(公告)号：JP2017083911A

公开(公告)日：2017-05-18

申请号：JP2017021802

申请日：2017-02-09

Applicant: エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. ,  Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： BUTLER HANS

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/68

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70783 ,  G03F7/70825

Abstract: 【課題】可動支持体によって支持される交換可能なオブジェクトの位置決めの精度を増加させる。【解決手段】リソグラフィ装置は、オブジェクトに対して移動自在に配置された可動構造、可動構造に対して移動自在に配置されるパターニングデバイスホルダ、オブジェクトに対して可動構造を移動させるアクチュエータ、及び、可動構造に対してパターニングデバイスホルダを移動させるウルトラショートストロークアクチュエータを有するパターニングデバイス支持体と、基板を保持する基板支持体と、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、基準オブジェクトに対する基板の所望の位置と実際の位置との差である基板位置の誤差を測定する位置測定システムと、基板位置の誤差に少なくとも部分的に基づいてアクチュエータとウルトラショートストロークアクチュエータとを移動させるコントローラと、を備える。【選択図】図6

公开(公告)号：JP2014241411A

公开(公告)日：2014-12-25

申请号：JP2014125644

申请日：2014-06-18

Applicant: エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. ,  Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： HENRICUS GERARDUS TEGENBOSCH ,  ALEXANDER MATTHIJS STRUYCKEN ,  KLEIJN JACOB ,  BEERENS RUUD ANTONIUS CATHARINA MARIA ,  IVO VANDERHALLEN

IPC: H01L21/027 ,  G02B7/192 ,  G02B19/00

CPC classification number: G03F7/70891 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70783 ,  G03F7/70825

Abstract: 【課題】精度と再現性を改善するとともに、支持する光学素子の公称形状からの異常に対する感度を低下させるマウントを提供する。【解決手段】リソグラフィ装置のモジュール内に光学素子を取り付けるように構成されたマウントであって、光学素子を円周方向で支持するように構築され配置された複数の弾性部材を備える。各弾性部材2は、光学素子の外周で光学素子と係合するように構成された複数の弾性区画4’、4”、4'''を備える。各弾性区画は別の弾性区画と独立して屈曲するように構成される。【選択図】図5

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种安装座，其具有提高的准确性和再现性，并且降低对由安装座支撑的光学元件的标称几何形状的不规则性的敏感性。解决方案：安装件被配置为将光学元件安装在用于光刻的模块中 仪器。 安装件包括构造和布置成周向地支撑光学元件的多个弹性构件。 每个弹性构件2包括多个弹性部分4'，4“，4”，4'，4“，4”，4“，4”，4“，4”，4“，4”，4“被配置成与光学元件的周边接合光学元件。

公开(公告)号：JP2014170957A

公开(公告)日：2014-09-18

申请号：JP2014093766

申请日：2014-04-30

Applicant: Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： BUTLER HANS ,  JAN VAN EIJK ,  HOL SVEN ANTOINE JOHANN ,  JOHANNES PETRUS MARTINUS BERNARDUS ,  YAN-SHAN HUANG

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01L21/68

CPC classification number: G03F7/70783 ,  G03F7/70758

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic apparatus that enables accurate focus positioning of a substrate.SOLUTION: A lithographic apparatus includes: an illumination system configured to adjust a radiation beam; and a support medium constructed to support a patterning device capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam. The lithographic apparatus further includes: a substrate table constructed to hold a substrate; a positioner constructed to position the substrate table; a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate; a substrate surface actuator arranged to engage a part of a surface of the substrate facing the projection system; and a position controller configured to control a position of the substrate table and arranged to drive the positioner and the substrate surface actuator.

Abstract translation: 要解决的问题：提供能够准确地对基板进行聚焦定位的光刻设备。解决方案：光刻设备包括：照明系统，被配置为调节辐射束; 以及支撑介质，其构造成支撑能够在其横截面中赋予辐射束图案以形成图案化的辐射束的图案形成装置。 所述光刻设备还包括：衬底台，其构造成保持衬底; 定位器，其被构造成定位所述衬底台; 投影系统，被配置为将所述图案化的辐射束投影到所述基板的目标部分上; 衬底表面致动器，被布置成接合面向所述投影系统的所述衬底的表面的一部分; 以及位置控制器，被配置为控制所述基板台的位置并被布置成驱动所述定位器和所述基板表面致动器。

公开(公告)号：JP2014150289A

公开(公告)日：2014-08-21

申请号：JP2014101124

申请日：2014-05-15

Applicant: Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： NICOLAAS TEN KATE ,  JOOST JEROEN OTTENS ,  KNARREN BASTIAAN ANDREAS WILHELMUS HUBERTUS ,  ROBERT YAN VOGT ,  NINO GIOVANNI FRANCISCO ,  REMIE MARINUS JAN ,  JOHANNES HENRICUS WILHELMUS JACOBS ,  LAURENT THIBAUD SIMON MATTHEW ,  KUNEN JOHANN GERTRUDIX CORNELIS

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/683

CPC classification number: G03F7/70875 ,  G03F7/7085

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus in which the occurrence of thermal expansion/contraction effects is reduced, and more specifically, provide a system configured to reduce thermal expansion/contraction effects in an immersion system which uses a supply system which provides immersion fluid to a localized area of a substrate and/or substrate table.SOLUTION: The lithographic apparatus comprises a substrate table configured to support a substrate on a substrate supporting area and to support a heater and/or temperature sensor on a surface adjacent to the substrate supporting area.

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种减少热膨胀/收缩效果的发生的装置，更具体地说，提供一种系统，其被配置为降低使用提供浸液的供给系统的浸没系统中的热膨胀/收缩效果 到基板和/或基板台的局部区域。解决方案：光刻设备包括：基板台，其配置成将基板支撑在基板支撑区域上，并且在与基板支撑相邻的表面上支撑加热器和/或温度传感器 区。

公开(公告)号：JP2014132694A

公开(公告)日：2014-07-17

申请号：JP2014076940

申请日：2014-04-03

Applicant: Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： ROGER SCHMITZ ,  VAN EMPEL TJARKO ,  MARCEL MUITJENS ,  CHENG LUN ,  FRANK JANSSEN ,  WILLIAM VAN HELDEN ,  RICHARD VERSLUIS ,  PAUL SCHAAREMAN ,  AXEL LEXMOND ,  EVERT NIEUWKOOP ,  BILL POTTS ,  MARTIN LEMMEN ,  RIK VAN DER GRAAF ,  MACHTELD DE KROON ,  HAN VELTHUIS

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70891 ,  G02B7/008 ,  G03F7/70875 ,  G03F7/709 ,  G03F7/70983 ,  G21K2201/067

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an efficient method to thermally condition an optical element that can be subjected to high heat loads during its operation, without impairing accuracy of the operation of the element.SOLUTION: A method for thermally conditioning an optical element includes irradiating the optical element with radiation, not irradiating the optical element with the radiation, allowing a heat flow between the optical element and a conditioning fluid that is held in a conditioning fluid reservoir, and providing a fluid flow of the conditioning fluid, to supply thermally conditioned fluid to the reservoir. A flow rate of the fluid during the irradiation of the optical element is lower than a flow rate of the fluid when the optical element is not irradiated.

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种有效的方法来热处理在其操作期间可承受高热负荷的光学元件，而不损害元件的操作精度。解决方案：一种用于热调节光学元件的方法包括照射 具有辐射的光学元件不用辐射照射光学元件，允许光学元件和保持在调节流体储存器中的调节流体之间的热流，并且提供调节流体的流体流，以供应热调节 流体到储存器。 在光学元件的照射期间，流体的流量比不照射光学元件时的流体的流量低。