公开(公告)号：KR100224462B1

公开(公告)日：1999-10-15

申请号：KR1019960001149

申请日：1996-01-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요네미즈아키라 ,  아키모토마사미

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67092 ,  B08B1/007 ,  B08B1/04 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/67051 ,  Y10S134/902

Abstract: 기판으로서의 반도체 웨이퍼(W)물 세정하는 세정장치(20)는, 웨이퍼(W)의 주연부를 보호하는 보호기구(30)와, 이 보호기구(30)에 의해 보호된 웨이퍼(W)를 회전시키는 회전수단으로서의 모터(40)와, 보호기구(30)로 보호된 웨이퍼(W)의 적어도 일면측에 설치된 세정부(31)를 구비한다. 이 세정부(31)는, 웨이퍼(W)에 대해 당접가능하게 설치된 적어도 하나의 세정부재(51)를 가지며, 이 세정부재(51)는, 웨이퍼(W)에 당접한 상태에서 모터(40)에 의해 회전하는 기판의 회전을 따라 회전가능하다.

公开(公告)号：KR1019980042276A

公开(公告)日：1998-08-17

申请号：KR1019970059220

申请日：1997-11-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 데구치요이치 ,  아키모토마사미

IPC: H01L21/304

Abstract: (1) 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
레지스트 처리방법 및 레지스트 처리장치
(2) 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
레지스트도포나 현상등의 스핀회전계 처리후에, 기판을 일부러 다른 장소로 반송하여 위치를 맞출 필요가 없는 레지스트 처리방법 및 레지스트 처리장치를 제공함.
(3) 발명의 해결방법의 요지
기판을 반송아암기구보다 복수의 처리실에서 차례로 출납하여, 기판을 차례차례 처리하는 레지스트 처리방법은, (a)처리실에 대하여 위치가 맞추어진 기준영역을 가지는 기판을 처리실내로 반입하고, 이 기판을 드레인컵으로 주위를 둘러싸인 스핀척 위에 실질적으로 수평으로 유지하고, (b)기판의 회전을 개시하고, 회전중의 기판에 처리액을 뿌려 처리하고, (c)처리액의 공급을 정지시킴과 동시에, 기판의 회전을 정지시켜, (d)정지했을 때의 기판의 기준영역이 수평면내에서의 위치를 스핀척으로 검출하고, (e)상기 공정 (d)에서 검출한 기판의 기준영역의 위치를, 처리실내로 기판을 반입했을 때의 초기 기준영역의 위치와 비교하여, 양자가 일치하도록 기판을 스핀척과 함께 회전시켜, (f)상기 공정 (d)에서 검출한 기준영역의 위치가, 처리실내로 기판을 반입했을 때의 초기 기준영역의 위치와 일치한 후, 기판을 처리실로부터 반출한다.
(4) 발명의 중요한 용도
반도체 웨이퍼나 LCD기판과 같은 피처리체기판을 스핀회전시키고, 이것에 대하여 레지스트를 도포하여 현상하기 위한 레지스트 처리방법 및 레지스트 처리장치에 사용됨.

公开(公告)号：KR1019980041991A

公开(公告)日：1998-08-17

申请号：KR1019970056977

申请日：1997-10-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  데구치요이치

IPC: H01L21/027

Abstract: 피처리기판에 대하여 복수공정으로 이루어지는 처리를 실시하는 기판처리장치로서, 연직방향으로 연장되는 반송영역과, 각각의 기판을 처리하기 위하여 반송영역의 주위에 배치되어, 상하 다단으로 겹쳐쌓인 복수의 처리유니트를 갖는 복수의 처리그룹과, 상기 각각의 처리유니트는 기판을 출입시키기 위하여 반송영역으로 연이어 통하는 개구부를 가지고 있으며, 반송영역 내로 이동가능하게 설치되어, 개구부를 통하여 처리유니트로 기판을 출입시키는 주아암기구와, 반송영역 내로 청정공기의 하강기류를 형성하는 다운플로우 형성수단을 구비하며,
복수의 처리그룹중 적어도 하나는, 기판을 가열 또는 냉각시키기 위한 복수의 열계유니트와, 기판을 상기 반송로로 출입시키기 위한 반송유니트와, 기판을 처리가스로 처리하기 위한 가스처리 유니트를 구비하고, 또한 이 가스처리유니트의 개구부는, 열계유니트의 개구부 및 반송유니트 개구부의 각각보다 아래쪽에 위치한다.

公开(公告)号：KR1019980024284A

公开(公告)日：1998-07-06

申请号：KR1019970045568

申请日：1997-09-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  사카모토가즈오 ,  요시오카가즈토시 ,  셈바노리오

IPC: H01L21/312

Abstract: 본 발명은 제 1 규정된 위치에서 액체-도포 부재로부터 객체에 코팅액을 도포함으로써 객체상에 막을 형성하는 장치 및 방법을 제공한다. 제 1 위치에서 코팅액을 도포하기 전에 제 2 규정된 위치에서 코팅액이 도포된다. 불순물-검출 장치는 제 2 위치에서 도포된 코팅액내에 함유된 불순물을 검출한다. 입자-카운팅 장치가 제공되며, 스위칭 장치가 코팅액의 소스로부터 액체-도포 부재로 연장되는 액체-공급 파이프상에 제공된다. 이 스위칭 장치는 액체-도포 부재와 불순물-검출 장치 사이에서 코팅액의 공급을 스위칭한다. 이와 같이 하여 코팅액내의 불순물이 모니터될 수 있다.

公开(公告)号：KR1019980019185A

公开(公告)日：1998-06-05

申请号：KR1019970043251

申请日：1997-08-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 우에다잇세이 ,  아키모토마사미 ,  이토가즈히코 ,  마쓰시타미치아키 ,  가네다마사토시 ,  마쓰야마유지

IPC: H05K13/00

Abstract: 기판처리장치는, 기판을 넣고 빼고 하기 위한 개구부(43)를 갖고, 이 개구부(43)에 붙이고 떼기 가능하게 부착된 덮개(44)를 가진 카세트가 재치되는 카세트 재치대(20)와, 이 카세트 재치대(20)의 카세트내에 수용된 기판을 처리하기 위한 처리부(G1)∼(G5)와, 카세트 재치대(20)의 카세트로부터 기판을 꺼내고, 처리부(G1)∼(G5)에 기판을 반송하고, 처리후의 기판을 카세트 재치대(20)의 카세트에 되돌리는 반송암기구(21)와, 이 반송암기구(21)와 카세트 재치대(20)와의 사이에 설치되고, 반송암기구(21)쪽의 분위기를 카세트 재치대(20)쪽의 분위기로부터 간막이하는 간막이부재(32),(60,)(49)와, 카세트 재치대상의 카세트의 개구부(43)와 마주보도록 간막이부재(60)에 형성되고, 반송암기구(21)에 의하여 카세트 재치대상의 카세트로부터 꺼내진 기판이 통과하고, 또한, 카 세트 재치대상의 카세트로 되돌려지는 기판이 통과하는 통로(33a)와, 이 통로(33a)에 대하여 카세트 재치대상의 카세트의 개구부(43)를 접근시키거나 멀리하거나 하는 카세트 이동기구(80),(82)와, 카세트의 개구부(43)로부터 덮개(44)를 벗기거나 카세트의 개구부(43)에 덮개(44)를 부착하거나 하는 덮개 벗김기구(47)을 구비한다.

公开(公告)号：KR1019960001173B1

公开(公告)日：1996-01-19

申请号：KR1019890017642

申请日：1989-11-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  테루큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  기무라요시오 ,  히라카와오사무 ,  아나리노리유키 ,  타테야마마사노리 ,  사카모토야스히로

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/68707 ,  G03F7/26 ,  H01L21/67778 ,  Y10S414/135 ,  Y10S414/137

Abstract: 내용 없음.

公开(公告)号：KR101125340B1

公开(公告)日：2012-03-28

申请号：KR1020110014021

申请日：2011-02-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키 ,  키무라요시오 ,  우에다이세이 ,  이토히카루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67184 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67745

Abstract: 본 발명은 도포 현상장치에 관한 것으로서 복수의 단위 블럭의 집합체로부터 되는 도포?현상 장치가 제공된다. 제 1의 단위 블럭 적층체와 제 2의 단위 블럭 적층체가 전후방향이 다른 위치에 배치된다. 노광 후의 현상 처리를 실시하는 현상 유니트를 포함한 복수의 처리 유니트 및 이들 유니트간의 기판의 반송을 실시하는 반송 수단을 구비한 현상용 단위 블럭이 최하단에 배치된다. 노광전의 도포 처리를 실시하는 도포 유니트를 포함한 복수의 처리 유니트 및 이들 유니트간의 기판의 반송을 실시하는 반송 수단을 구비한 도포용 단위 블럭은 현상용 단위 블럭 위에 배치된다. 도포용 단위 블럭은 제 1의 단위 블럭 적층체 및 제 2의 단위 블럭 적층체의 양쪽 모두에 배치된다. 반사 방지막과 레지스트막의 적층 위치 관계에 따라 도포?현상 장치내에 있어서 노광전의 웨이퍼나 경유하는 도포용 단위 블럭을 결정한다. 노광 후의 웨이퍼는 도포용 단위 블럭을 통과하는 일 없이 현상용 단위 블럭만을 통과하는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR101126865B1

公开(公告)日：2012-03-23

申请号：KR1020060005910

申请日：2006-01-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키 ,  키무라요시오 ,  우에다이세이 ,  이토히카루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/00 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/6719

Abstract: 본 발명은 도포 현상장치 및 그 방법에 관한 것으로서 처리 블럭 (S2)에 도포막 형성용의 단위 블럭인 TCT층 (B3) ; COT층 (B4); BCT층 (B5)와 현상 처리용의 단위 블럭인 DEV층 (B1; B2)를 서로 적층하여 설치한다. 반사 방지막을 형성하는 경우 하지 않는 경우의 어느 경우에 있어서도 TCT층 (B3); COT층 (B4) ; BCT층 (B5) 중 사용하는 단위 블럭을 선택함으로써 대응할 수 있고 이 때 반송 프로그램의 복잡화를 억제하여 소프트웨어의 간이화를 도모 할 수 있다.
레지스트막 형성용의 단위 블럭과 반사 방지막 형성용의 단위 블럭을 적층해 설치하는 것으로 레지스트막의 상하에 반사 방지막을 형성하는 것에 있어 공간절약화를 도모하는 것과 또 반사 방지막을 형성하는 경우 하지 않는 경우의 어느 것에도 대응하는 것이 가능하고 이 때 소프트웨어의 간이화를 도모하는 기술을 제공한다.

Abstract translation: 本发明涉及一种涂布显影装置及其方法，其包括作为用于在处理块（S2）上形成涂膜的单位块的TCT层（B3）; COT层B4; 作为用于显影处理的单位块的BCT层B5和DEV层B1（B2）彼此堆叠。 在TCT层B3中也包括形成防反射膜的情况和未形成防反射膜的情况; COT层B4; 通过选择在BCT层（B5）中使用的单位块响应，并且抑制传输程序的复杂性时，它能够实现软件的简化。

公开(公告)号：KR101108372B1

公开(公告)日：2012-01-30

申请号：KR1020060073074

申请日：2006-08-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 키타노타카히로 ,  아키모토마사미 ,  니시키도슈우이치 ,  쿠마가이다이

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 현상처리장치 및 현상처리방법에 관한 것으로서 처리 용기내에 처리 용기부의 사이에 기판 수수가 행해지는 기판 수수부와 기판의 현상이 행해지는 현상 처리부가 나열하여 설치되고 또한 기판 수수부와 현상 처리부의 사이를 기판의 외측면을 양측으로부터 파지한 상태로 기판을 반송하는 반송 기구가 설치되고 있다. 기판 수수부와 상기 현상 처리부의 사이로서 기판을 반송하는 반송로의 윗쪽에는 기판에 현상액을 공급하는 현상액 공급 노즐과 기판에 기체를 분사하는 기체분사 노즐이 설치되고 현상 처리부에는 기판에 세정액을 공급하는 세정액공급 노즐이 설치되고 있다. 본 발명에 의하면 기판의 외측면을 파지한 상태로 기판이 반송되므로 더러움이 퍼지는 경우가 없고 처리 용기내의 파티클의 발생을 억제할 수 있는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR101019445B1

公开(公告)日：2011-03-07

申请号：KR1020070037458

申请日：2007-04-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네코사토시 ,  마츠모토가즈히사 ,  이토노리히로 ,  아키모토마사미 ,  도시마다카유키 ,  난바히로미츠

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728 ,  Y10S134/902

Abstract: 액 처리 장치는 기판을 수평으로 유지하고, 기판과 함께 회전 가능한 기판 유지부와, 기판 유지부에 유지된 기판을 둘러싸며, 기판과 함께 회전 가능한 회전 컵과, 회전 컵 및 기판 유지부를 일체적으로 회전시키는 회전 기구와, 적어도 기판의 표면에 처리액을 공급하는 액 공급 기구와, 회전 컵으로부터 외부로 배기 및 배액하는 배기·배액부와, 표면이 기판 표면과 대략 연속하도록 기판의 외측에 설치되고, 기판 유지부 및 회전 컵과 함께 회전하며, 기판 표면에 공급되어 기판으로부터 털어진 처리액을 그 표면을 통해 회전 컵으로부터 배기·배액부에 안내하는 안내 부재를 구비한다.