Abstract:
본 발명은 박막트랜지스터 제조방법에 관한 것으로, 특히 소스/드레인 어닐링 공정 시 다결정 실리콘 박막트랜지스터의 소스/드레인 접합부에 발생하는 결정결함을 방지하는 박막트랜지스터 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 다결정 실리콘 박막트랜지스터의 소스/드레인 어닐링 시, 레이저광을 비스듬하게 기울여서 조사하는 OI-ELA(Oblique Incidence Excimer Laser Annealing) 방법을 제시함으로써 소스/드레인 접합부에도 레이저 에너지를 충분히 전달하여 접합부 결정 결함이 없는 다결정 실리콘 박막트랜지스터의 제작이 가능하다. 따라서, 박막트랜지스터의 ON/OFF 스위칭 특성이 우수하며, 장시간 구동에 대해서도 추가의 트랩 상태 생성이 적기 때문에 특성이 안정적으로 나타나는 장점이 있다.
Abstract:
본 발명은 전극이 칩 전면에 위치하는 수평형 절연게이트 바이폴라 트랜지스터에 관한 것이다. 본 발명의 수평형 절연게이트 바이폴라 트랜지스터는 소스 영역 내에 트렌치를 형성하여 소스 영역이 부분적으로 중단되도록 함으로써 소스 영역을 감싸고 있는 베이스 영역의 저항을 부분적으로 낮추어 주어 기생 사이리스트의 래치-업을 낮추도록 한다. 또한, 게이트 전극을 트렌치 내에 연장되도록 형성함으로써 유효 채널 폭을 증가시켜 순방향 전압 강하의 증가 없이 기생 사이리스터 래치-업을 억제 할 수 있도록 한다.
Abstract:
본 발명은 게이트 절연막으로 사용되는 산화막의 특성을 향상시키기 위한 저온 화학기상증착법에 의한 게이트 산화막 형성방법 및 이를 이용한 다결정 실리콘 박막 트랜지스터 제조방법에 관한 것으로, 본 발명은 기판 위에 다결정 실리콘 박막을 형성하는 과정과; 상기 다결정 실리콘 박막 위에 저온 화학기상증착법에 의한 게이트 산화막을 형성하는 과정과; 엑시머 레이저 어닐링 공정을 통해 상기 게이트 산화막을 열처리하는 과정을 포함하며, 상기 게이트 산화막 열처리 과정은 상기 다결정 실리콘 박막이 녹지 않는 온도 범위 내에서 이루어짐을 특징으로 한다.
Abstract:
본 발명은 표시 장치 및 그 구동 방법에 관한 것으로, 이 표시 장치는, 발광 소자, 그리고 구동 전압과 발광 소자 사이에 연결되어 발광 소자에 구동 전류를 공급하는 제1 및 제2 구동 트랜지스터를 포함한다. 이때, 제1 및 제2 구동 트랜지스터의 제어 단자에 동일한 제어 전압 또는 서로 다른 극성의 제어 전압이 인가되며, 제1 구동 트랜지스터의 제어 단자 전극은 반도체 하부에 배치되어 있으며, 제2 구동 트랜지스터의 제어 단자 전극은 반도체 상부에 배치되어 있다. 본 발명에 의하면, 2개의 구동 트랜지스터를 형성하면서도 이들이 화소에서 차지하는 면적을 줄일 수 있으며, 또한 서로 다른 극성의 제어 전압을 각 구동 트랜지스터에 인가함으로써 구동 트랜지스터의 열화를 방지할 수 있다. 표시 장치, 유기 발광 소자, 박막 트랜지스터, 축전기, 열화
Abstract:
본 발명은 표시 장치 및 그 구동 방법에 관한 것으로, 이 표시 장치는, 발광 소자, 구동 전압과 발광 소자 사이에 연결되어 발광 소자에 구동 전류를 공급하는 제1 및 제2 구동 트랜지스터, 데이터 전압을 제1 및 제2 구동 트랜지스터에 각각 전달하는 제1 및 제2 스위칭 트랜지스터, 그리고 데이터 전압을 받아 데이터 전압의 극성과 반대인 반전 전압을 생성하여 제1 및 제2 구동 트랜지스터에 각각 인가하는 제1 및 제2 반전부를 각각 포함하는 복수의 화소를 포함한다. 본 발명에 의하면 두 개의 반전부 및 두 개의 구동 트랜지스터를 구비함으로써 구동 트랜지스터의 문턱 전압의 천이를 방지할 수 있으며, 이에 따라 유기 발광 표시 장치의 수명을 증가시킬 수 있다. 표시 장치, 유기 발광 다이오드, 박막 트랜지스터, 축전기, 데이터 전압, 반전부, 역바이어스
Abstract:
PURPOSE: An organic light emitting display device and a driving method thereof are provided to display the images with various colors by the gray scale of various steps by inserting at least one additional bit signal for an additional sub frame. CONSTITUTION: A driving transistor(T2) switches the current supply to an OLED by an image signal. A current controller includes a plurality of current control transistors(T3,T4) controlling an amount of currents to the OLED. A driving transistor operates in a linear region. Current control transistors operate at a saturation region. A storage capacitor stores an image signal. A switching transistor stores the image signal in a storage capacitor.
Abstract:
A manufacturing method of a thin film transistor, a thin film transistor, and a flat panel display device including the same are provided to prevent growth of a native oxide film and pollution due to an air exposure by in-situ manufacturing a silicon layer and a gate insulation layer inside the same vacuum chamber. A substrate is prepared(S1). A buffer layer is formed on the substrate(S2). A silicon layer is formed on the buffer layer(S3). A gate insulation layer is formed on the silicon layer(S4). A gate metal layer is formed on the gate insulation layer(S5). A gate electrode is formed by patterning the gate metal layer(S6). A source, a drain, and a channel are defined by successively patterning the gate insulation layer and the silicon layer(S8). An interlayer insulation layer is formed on the gate electrode and the silicon layer(S9). A source electrode and a drain electrode connected to the source and the drain are formed by forming a contact hole on the interlayer insulation layer(S10).
Abstract:
A thin film transistor and a manufacturing method thereof are provided to change doping level for respective semiconductor layer regions by adjusting thickness and location of first, second, and third insulation layers. A thin film transistor comprises a lower structure(11), a semiconductor layer(12), first and second insulation layers(14a,14b), and a third insulation layer(16), and a gate electrode layer(17). The semiconductor layer includes a plurality of doped regions(12b,12c,12d) on the lower structure. The first and second insulation layers are formed on the semiconductor layer, separated from each other. The third insulation layer is formed on the first and second insulation layers. The gate electrode layer is formed on the third insulation layer between the first and second insulation layers. The width of the third insulation layer is longer than that between the first and second insulation layers and shorter than that between the left part of the first insulation layer and the right part of the second insulation layer.
Abstract:
A pixel circuit of an OELD(Organic Electro-Luminescence Display) device is provided to rapidly execute the operation of circuit by rapidly charging a value applied the threshold voltage of a transistor in a storage component. An OELD(Organic Electro-Luminescence Display) device includes a first source voltage line(VDD), a first signal input unit(CLK), first and second transistors(T1,T2), and a first storage component(C1). The first source voltage line supplies a first source voltage. The first signal input unit supplies a clock signal. The first and second transistors are connected to the first source voltage line and the first signal input unit, respectively. The first storage component, electrically connected between a control electrode of the first transistor and a first electrode, stores data voltages. The second transistor is connected between the control electrode of the first transistor and a second electrode.
Abstract:
A pixel structure for an active matrix display device is provided to suppress an image degradation such as brightness variation, stripe patterns, and crosstalk, by compensating for a leakage current in a switching TFT(Thin Film Transistor). A first switching transistor(MSW1) selects a unit pixel which is defined by data and scan lines. A driving TFT(MDRV) receives a data voltage from the first switching transistor at a gate terminal and supplies a corresponding current to an OLED(Organic Light Emitting Diode). A capacitor stores the data voltage which is applied to the gate of the driving TFT. A second switching transistor(MSW2) is controlled by a scan signal and cascoded to a drain-source region of the first switching transistor. A shield capacitor is connected between a junction between the first and second switching transistors and a voltage supply and supplies the charges leaked by a leakage current of the first and second switching transistors.