感测晶片封装体及其制造方法

    公开(公告)号:CN106449672A

    公开(公告)日:2017-02-22

    申请号:CN201610619651.8

    申请日:2016-08-01

    Abstract: 一种感测晶片封装体及其制造方法,该封装体包括:第一基板,其上表面形成有包括第一、二导电垫的第一介电层;第二基板,其下表面形成有包括第三导电垫的第二介电层,第二基板通过第二介电层与第一介电层接合;第一贯通孔,贯穿第二基板、第二介电层及部分第一介电层,并裸露第一导电垫的上表面;第二贯通孔,贯穿第二基板及部分第二介电层,并裸露第三导电垫的上表面;绝缘层,位于第二基板的上表面及贯通孔的侧壁,且贯通孔底部的绝缘层具有孔洞,以裸露第一、三导电垫的上表面;重布线层,形成于第一绝缘层上,并沟填于贯通孔内,且经由孔洞分别与第一、三导电垫电性连接;及钝化保护层,形成于第二基板的上表面,并覆盖重布线层和绝缘层。

    晶片封装体
    54.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105118819A

    公开(公告)日:2015-12-02

    申请号:CN201510390579.1

    申请日:2010-08-13

    Abstract: 本发明提供一种晶片封装体,其可在实施封装层的切割制程前,先通过晶片保护层或增设的蚀刻阻挡层覆盖在导电垫上,避免导电垫被切割残余物损害及刮伤。本发明还可选择以晶片保护层、晶片保护层上增设的蚀刻阻挡层或与导电垫同一位阶高度的金属蚀刻阻挡层或其组合,来对结构蚀刻区的层间介电层和硅基板进行蚀刻,以形成开口,便于后续半导体结构的制作,同时提高晶片封装体的良率。

Patent Agency Ranking