-
公开(公告)号：KR100344967B1
公开(公告)日：2002-10-25
申请号：KR1019950009309
申请日：1995-04-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 도모야스마사유키 , 고시시아키라 , 니시가와히로시 , 다케나카히로토 , 사카모토요시오 , 다하라가즈히로 , 고미노미쯔아키 , 이마후쿠고스케 , 엔도쇼스코 , 나이토유키오 , 나가세키가즈야 , 히로세게이죠
IPC: H01L21/306
Abstract: 플라즈마 처리방법은, 프로세스 챔버내를 감압이 되도록 배기하고, 웨이퍼를 서셉터 위에 얹어놓고, 샤워전극 쪽으로부터 웨이퍼를 향하여 처리가스를 공급하며, 처리가스 고유의 아래끝단 이온 천이주파수보다도 낮은 제 1 주파수 f
1 의 고주파전력을 서셉터에 인가하고, 처리가스 고유의 윗끝단 이온 천이주파수보다도 높은 제 2 주파수 f
2 의 고주파전력을 샤워전극에 인가한다.-
Patent Agency Ranking12.发明授权플라즈마 처리 용기의 재생 방법, 플라즈마 처리 용기내부 부재, 플라즈마 처리 용기 내부 부재의 제조 방법,및 플라즈마 처리 장치 有权用于再生等离子体处理容器的方法，用于等离子体处理的容器内的成员，用于制备用于等离子体处理的容器内的成员的方法和用于等离子体处理的装置
公开(公告)号：KR100945315B1
公开(公告)日：2010-03-05
申请号：KR1020037007810
申请日：2001-12-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 이마후쿠고스케
IPC: C23C4/00
CPC classification number: H01J37/32862 , C23C4/00 , C23C4/01 , C23C4/11 , C23C4/12 , C23C16/4404
Abstract: A method for regenerating a container for plasma treatment, characterized in that, to a thermally sprayed coating comprising one of alumina, a rare earth metal oxide, a polyimide and polybenzimidazole, which has been deteriorated by the use in plasma, on the surface of a member inside a container for plasma treatment having a substrate and, applied thereon, the thermally sprayed coating, a material being the same as that for the deteriorated sprayed coating is re-sprayed. The method allows a container for plasma treatment having a surface deteriorated by the use in plasma to be generated into the one as good as new.
-
13.发明公开플라즈마 처리 장치용 석영부재의 가공 방법, 플라즈마처리 장치용 석영부재 및 플라즈마 처리 장치용석영부재가 실장된 플라즈마 처리 장치 有权플라즈마처리장치용석영부재의가공방법，플라즈마처리장치용석영재재및플라즈마처리장치용석영부재가실장된플라즈마처리장
公开(公告)号：KR1020040035884A
公开(公告)日：2004-04-29
申请号：KR1020047004313
申请日：2002-09-12
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: C03C15/02 , C03B29/025 , C03C19/00 , Y02P40/57
Abstract: 사용 초기의 파티클 발생 및 그 후의 치핑 발생을 억제한 플라즈마 처리 장치용 석영부재의 가공 방법, 플라즈마 처리 장치용 석영부재 및 그 석영부재가 실장된 플라즈마 처리 장치를 제공한다. 쉴드 링, 포커스 링 등에 이용되는 플라즈마 처리 장치용 석영부재(151)에 발생하고 있는 다이아몬드 연삭 후의 다수의 크랙(155)을 예컨대 입도가 #320 내지 400인 연마 입자에 의한 표면 가공을 실행하여 제거한다. 그 후, 더욱 작은 입자 직경의 연마 입자를 이용하여 표면 가공을 실행하여, 퇴적물을 부착 및 유지 가능한 요철을 유지하면서 파쇄층(163)을 제거한다.
Abstract translation: 本发明提供一种等离子体处理装置用石英材料的加工用部件，其能够在开始使用时抑制粒子的产生，其后用于制造芯片，等离子体处理装置用石英材料以及具有石英的等离子体处理装置 该方法包括以下步骤：通过用研磨剂进行表面处理，去除在用于屏蔽环和聚焦环的等离子体处理装置的石英部件151中在金刚石研磨之后产生的大量裂纹155 例如晶粒尺寸为＃320至400的晶粒，并通过使用较小晶粒尺寸的磨粒进行表面处理以除去破裂层163，同时保持能够粘附和保持沉积于其上的不规则性。
-
14.发明公开플라즈마 처리 용기의 재생 방법, 플라즈마 처리 용기내부 부재, 플라즈마 처리 용기 내부 부재의 제조 방법,및 플라즈마 처리 장치 有权플라즈마처리용기의재생방법，플라즈마처리용리내부부재，플라즈마처리용기내부부재의제조방법，및플라즈마처리장치
公开(公告)号：KR1020030063415A
公开(公告)日：2003-07-28
申请号：KR1020037007810
申请日：2001-12-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 이마후쿠고스케
IPC: C23C4/00
CPC classification number: H01J37/32862 , C23C4/00 , C23C4/01 , C23C4/11 , C23C4/12 , C23C16/4404
Abstract: 기재의 표면이 알루미나, 희토류 산화물, 폴리이미드 또는 폴리벤조이미다졸 중 어느 용사막에 의해 피복된 플라즈마 처리 용기의 내부 부재의, 플라즈마 중에서의 사용에 의해 열화된 용사막에, 상기 용사막과 동일한 재료를 재용사한다. 이로써, 플라즈마 중에서의 사용에 의해 표면이 열화된 플라즈마 처리 용기를 신품과 같이 재생하는 것이 가능해진다.
Abstract translation: 一种等离子体处理用容器的再生方法，其特征在于，在等离子体处理容器的再生用方法中，对于在等离子体处理中使用的氧化铝，稀土金属氧化物，聚酰亚胺和聚苯并咪唑中的一种已经因等离子体的使用而劣化的喷镀膜， 在具有基板的等离子体处理用容器内部涂布上述喷镀膜，对与劣化喷镀膜相同的材料进行再喷雾。 该方法允许用于等离子体处理的容器具有通过在等离子体中使用而劣化的表面，以生成新的。
-
公开(公告)号：KR1019950034496A
公开(公告)日：1995-12-28
申请号：KR1019950009309
申请日：1995-04-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 도모야스마사유키 , 고시시아키라 , 니시가와히로시 , 다케나카히로토 , 사카모토요시오 , 다하라가즈히로 , 고미노미쯔아키 , 이마후쿠고스케 , 엔도쇼스코 , 나이토유키오 , 나가세키가즈야 , 히로세게이죠
IPC: H01L21/306
Abstract: 플리즈마 처리방법은, 프로세스 챔버내를 감압이 되도록 배기하고, 웨이퍼를 서셉터 위에 얹어놓고, 샤워전극 쪽으로부터 웨이퍼를 향하여 처리가스를 공급하며, 처리가스 고유의 아래끝단 이온 천이주파수보다도 낮은 제1주파수 f
1 의 고주파전력을 서셉터에 인가하고, 처리가스 고유의 윗끝단 이온 천이주파수보다도 높은 제2주 파수 f
2 의 고주파전력을 샤워전극에 인가하다. -
-
-
-
-
Search Results
16
records
(took 0.019 seconds)
