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    엑시머 레이저용 펄스 에너지 제어
    12.
    发明公开
    엑시머 레이저용 펄스 에너지 제어 有权
    准分子激光器的脉冲能量控制

    公开(公告)号：KR1020010031028A

    公开(公告)日：2001-04-16

    申请号：KR1020007003843

    申请日：1998-09-01

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 샌드스트롬리차드엘. ,  베샤우셀레헤르베에이. ,  포멘코프이고르브이. ,  다스팔라시피.

    IPC: H01S3/225

    Abstract: 엑시머 레이저에 의해 발생된 펄스의 버스트에서 펄스 에너지를 제어하는 프로세스. 각 버스트에 있는 각 펄스의 에너지가 측정된다. 펄스 에너지와 충전전압의 변화율이 결정된다. 펄스 에너지 에러는 현재 버스트의 이전 펄스에 대하여 결정된다. 집적된 선량 에러는 또한 현재 버스트에 있는 모든 이전 펄스에 대하여 결정된다. 다음 펄스에 대한 충전전압은 펄스 에너지 에러, 집적된 선량 에러, 충전전압과 기준전압과의 에너지의 변화율을 사용하여 결정된다. 바람직한 실시예에서, 전압과 에너지의 변화율은 한번은 낮고 한번은 높은 각 버스트의 두개의 펄스동안 전압을 디더링함으로써 결정된다. 기준전압은 이전 전압과 에너지 데이터를 사용하여 계산된 전압이다. 이 실시예에서 펄스의 제 1 부분동안 기준 전압을 결정하는 방법은 버스트의 나중 부분동안 사용된 방법과는 다르다. 각 펄스에 대하여 펄스의 제 1 세트(이 실시예에서는 40)동안 이전 버스트에 있는 대응 펄스로부터 에너지 데이터와 전압을 사용하여 계산된 특정 전압은 목표 펄스 에너지를 수렴하는 펄스 에너지를 발생시키기 위해 필요한 예견 전압으로 사용된다. 펄스(41)동안 및 그후 각 펄스에 대한 기준전압은 이전 펄스에 대한 특정전압이다.

    가스 방전 레이저용 연장가능한 전극
    16.
    发明公开
    가스 방전 레이저용 연장가능한 전극 有权
    用于气体放电激光器的可扩展电极

    公开(公告)号：KR1020090129492A

    公开(公告)日：2009-12-16

    申请号：KR1020097022448

    申请日：2008-03-25

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 샌드스트롬리차드엘. ,  정태에이치. ,  우자즈도우스키리차드씨.

    IPC: H01S3/097

    CPC classification number: H01S3/038 ,  H01S3/0381 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2366

    Abstract: Disclosed herein are systems and methods for extending one or both of the discharge electrodes in a transverse discharge gas laser chamber in which one or both the electrodes are subject to a dimensional change due to erosion. Electrode extension can be performed to increase the chamber life, increase laser performance over the life of the chamber, or both. Operationally, the inter-electrode spacing may be adjusted to maintain a specific target gap distance between the electrodes or to optimize a specific parameter of the laser output beam such as bandwidth, pulse-to-pulse energy stability, beam size, etc.

    Abstract translation: 本文公开了用于在横向放电气体激光室中延伸一个或两个放电电极的系统和方法，其中一个或两个电极由于侵蚀而经受尺寸变化。 可以执行电极延伸以增加室的寿命，在室的寿命或两者都增加激光器性能。 可操作地，可以调整电极间间隔以保持电极之间的特定目标间隙距离或者优化激光输出光束的特定参数，例如带宽，脉冲到脉冲能量稳定性，光束尺寸等。

    고 반복율 레이저 발생 플라즈마 ＥＵＶ 광원
    20.
    发明公开
    고 반복율 레이저 발생 플라즈마 ＥＵＶ 광원 有权
    高重复率激光器生产等离子体光源

    公开(公告)号：KR1020060125903A

    公开(公告)日：2006-12-06

    申请号：KR1020067019050

    申请日：2005-03-03

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 아킨스로버트피. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  파르틀로윌리암엔. ,  포멘코프이고르브이. ,  스타이거토마스디. ,  알고츠마틴제이. ,  보워링노버트알 ,  자크스로버트엔. ,  팔렌샤트프레데릭에이. ,  송준

    IPC: G01J1/00 ,  G03F7/20 ,  H01J35/20 ,  H01J65/04

    CPC classification number: B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  H05G2/003 ,  H05G2/008

    Abstract: An EUV light source apparatus (20) comprises a pulse laser (22) providing laser pulses (55) at a selected pulse repetition rate focused at a desired target ignition site (28); a target formation system (92) providing discrete targets (94); a target steering system (350) intermediate the target formation system (92) and the ignition site (28); a target tracking system (42) providing information about movement of the target (94) between the target formation system (92) and the target steering system (350); an electrostatic plasma containment apparatus (314) providing an electric plasma confinement field (316) at or near the ignition site (28) at the time of ignition; a vessel (30) having an intermediate wall (282) for passing EUV light; and a magnetic plasma confinement mechanism (329) creating a magnetic field (320) in the vicinity of the ignition site (28).

    Abstract translation: EUV光源装置（20）包括脉冲激光器（22），所述脉冲激光器以聚焦在期望的目标点火现场（28）的选定的脉冲重复频率提供激光脉冲（55）; 提供离散目标（94）的目标形成系统（92）; 在目标形成系统（92）和点火位置（28）之间的目标转向系统（350）; 目标跟踪系统（42）提供关于目标形成系统（92）和目标转向系统（350）之间的目标（94）的移动的信息; 静电等离子体容纳装置（314），其在点火时在点火现场（28）处或附近提供电等离子体限制场（316）; 具有用于使EUV光通过的中间壁（282）的容器（30） 以及在点火现场（28）附近产生磁场（320）的磁等离子体限制机构（329）。

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