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公开(公告)号：KR101015849B1
公开(公告)日：2011-02-23
申请号：KR1020090018201
申请日：2009-03-03
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
Inventor： 박병건 , 양태훈 , 서진욱 , 이기용 , 리사첸코,막심 , 최보경 , 이대우 , 이길원 , 이동현 , 박종력 , 안지수 , 김영대 , 나흥열 , 정민재 , 정윤모 , 홍종원 , 강유진 , 장석락 , 정재완 , 윤상연
IPC: H01L29/786 , H05B33/02
CPC classification number: H01L29/6675 , H01L21/02422 , H01L21/02488 , H01L21/02532 , H01L21/02667 , H01L21/02672 , H01L27/1277 , H01L29/66757 , H01L29/66765 , H01L29/78696
Abstract: 본 발명은 박막트랜지스터, 그의 제조방법 및 그를 구비하는 유기전계발광표시장치에 관한 것으로, 기판; 상기 기판 상에 위치하는 버퍼층; 상기 상기 버퍼층 상에 위치하는 반도체층; 상기 반도체층과 절연되는 게이트 전극; 상기 반도체층과 상기 게이트 전극을 절연시키는 게이트 절연막; 및 상기 상기 게이트 전극과 절연되며, 상기 반도체층과 일부가 연결되는 소오스/드레인 전극을 포함하며, 상기 반도체층은 하나 또는 다수개의 홈부를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막트랜지스터 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
또한, 기판; 상기 기판 상에 위치하는 버퍼층; 상기 상기 버퍼층 상에 위치하는 반도체층; 상기 반도체층과 절연되는 게이트 전극; 상기 반도체층과 상기 게이트 전극을 절연시키는 게이트 절연막; 상기 상기 게이트 전극과 절연되며, 상기 반도체층과 일부가 연결되는 소오스/드레인 전극; 상기 기판 전면에 걸쳐 위치하는 절연막; 및 상기 절연막 상에 상기 소오스/드레인과 전기적으로 연결되는 제 1 전극, 유기막층 및 제 2 전극을 포함하며, 상기 반도체층은 하나 또는 다수개의 홈부를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치에 관한 것이다.
다결정 실리콘, 게터링, 박막트랜지스터-
公开(公告)号：KR100931481B1
公开(公告)日：2009-12-11
申请号：KR1020070118785
申请日：2007-11-20
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
IPC: H01L21/20 , H01L21/027
Abstract: 본 발명의 실시예에 의한 수직 증착형 마스크 제조장치는, 마스크 시트를 인장시켜 고정하는 인장 유닛과; 상기 마스크 시트 및 상기 마스크 시트의 둘레 영역에 밀착되는 마스크 프레임을 접합하는 접합수단이 포함되며, 상기 인장 유닛은,
상기 마스크 시트를 지지하는 다수의 클램프와; 상기 다수의 클램프와 각각 연결되고, 상기 연결된 다수의 클램프에 인장력을 가하여 상기 클램프에 의해 고정된 마스크 시트를 평평하게 고정시키는 다수의 인장수단과; 상기 각각의 클램프와 인장수단 사이에 구비되어 상기 클램프의 인장력을 측정하는 인장력 측정수단과; 상기 다수의 클램프 중 일부 클램부를 회전시키도록 상기 일부 클램프와 연결된 벤딩 수단이 포함됨을 특징으로 한다.-
公开(公告)号：KR1020090052203A
公开(公告)日：2009-05-25
申请号：KR1020070118787
申请日：2007-11-20
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/12 , C23C14/042 , G03F1/64 , G03F1/42 , G03F1/68
Abstract: A method and apparatus for fabricating a vertical deposition mask capable of welding a mask sheet and a mask frame for preventing a large area mask from drooping due to the weight of the mask. The apparatus includes a tensioning device for tensioning a mask sheet and a welder for attaching a mask frame to a circumference of the mask sheet. The tensioning device includes clamps for supporting the mask sheet and tensioners coupled to the clamps for applying tensile force to the clamps and to evenly fix in place the mask sheet by the clamps.
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公开(公告)号：KR101155905B1
公开(公告)日：2012-07-03
申请号：KR1020090018490
申请日：2009-03-04
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
Inventor： 나흥열 , 이기용 , 정민재 , 홍종원 , 정윤모 , 강유진 , 장석락 , 서진욱 , 안지수 , 양태훈 , 김영대 , 박병건 , 이동현 , 이길원 , 정재완 , 박종력 , 최보경 , 윤상현
IPC: C23C16/44 , H01L21/205
CPC classification number: C23C16/45544 , C23C16/042 , C30B25/165 , C30B35/00
Abstract: 본 발명은 원자층 증착 장비 및 이를 이용한 원자층 증착 방법에 관한 것으로, 원자층 증착 공정 시 기판이 챔버의 내부 온도에 의해 기판이 변형되는 것을 방지하며, 상기 기판 상에 균일하게 원자층을 형성할 수 있는 원자층 증착 장비 및 이를 이용한 원자층 증착 방법에 관한 것이다.
본 발명은 챔버; 상기 챔버의 내부 압력을 제어하기 위한 진공 펌프; 상기 진공 펌프와 대향되도록 위치하며, 상기 챔버 내부로 반응 가스를 공급하기 위한 가스 공급 수단; 상기 진공 펌프와 가스 공급 수단 사이에 위치하며, 가열 수단이 내장된 기판 홀더; 상기 기판 홀더와 가스 공급 수단 사이에 위치하며, 가장 자리에 냉각액이 이동하기 위한 냉각 통로가 내장된 마스크 조립체; 및 상기 마스크 조립체의 냉각 통로에 냉각액을 공급하기 위한 냉각원을 포함하는 원자층 증착 장비에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 가열 수단이 내장된 기판 홀더에 기판을 안착하고, 상기 기판과 제 1 거리만큼 이격되도록 냉각 통로가 내장된 마스크 조립체를 위치시키고, 상기 마스크 조립체의 냉각 통로에 냉각액을 공급하고, 상기 기판 홀더의 가열 수단을 이용하여 상기 기판을 가열하고, 진공 펌프를 이용하여 챔버 내부를 일정 압력으로 제어하고, 가스 공급 수단을 통해 제 1 반응 가스 및 제 2 반응 가스를 순차 공급하는 것을 포함하는 원자층 증착 방법에 관한 것이다.
원자층 증착 장비, 마스크 조립체-
公开(公告)号：KR101155906B1
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：KR1020090123185
申请日：2009-12-11
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
IPC: C23C14/34 , H01L21/203
CPC classification number: C23C14/3407 , C23C14/35 , H01J37/3244 , H01J37/32458 , H01J37/32477 , H01J37/3411 , H01J37/3417 , H01J37/345
Abstract: 본 발명은 비정질 실리콘을 결정화시키기 위하여, 상기 비정질 실리콘 상에 극저농도의 금속 촉매를 증착시키기 위한 스퍼터링 장치에 관한 것으로, 프리-스퍼터링(Pre-sputtering) 공정이 짧은 시간에 충분히 수행될 수 있도록 함으로써, 전체적인 증착 공정의 효율성 저하 없이, 상기 비정질 실리콘 상에 극저농도의 금속 촉매를 균일하고 안정적으로 증착시킬 수 있는 스퍼터링 장치에 관한 것이다.
본 발명은 제 1 영역 및 제 2 영역을 포함하는 공정 챔버; 상기 공정 챔버의 내측에 위치하는 금속 타겟; 상기 금속 타겟을 상기 제 1 영역 및 제 2 영역으로 이동시키기 위한 타겟 이송부; 상기 제 2 영역에 상기 금속 타겟에 대향되도록 위치하는 기판 홀더; 및 상기 제 1 영역의 타겟 이송부와 공정 챔버 사이에 위치하는 마그네틱 조립체를 포함하는 스퍼터링 장치에 관한 것이다.
스퍼터링 장치, 프리-스퍼터링 장치-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020110102686A
公开(公告)日：2011-09-19
申请号：KR1020100021835
申请日：2010-03-11
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
IPC: C23C14/24
CPC classification number: C23C16/52 , C23C14/042 , C23C14/243 , C23C14/54 , C23C14/568 , C23C16/042 , H01L51/5253 , H01L51/56
Abstract: 본 발명은, 대형 기판 양산 공정에 용이하게 적용될 수 있고, 제조 수율이 향상된 박막 증착 장치를 제공하기 위하여, 기판상에 박막을 형성하기 위한 박막 증착 장치에 있어서, 증착 물질을 방사하는 증착원; 상기 증착원의 일 측에 배치되며, 제1 방향을 따라 복수 개의 증착원 노즐들이 형성된 증착원 노즐부; 상기 증착원 노즐부와 대향되게 배치되고, 상기 제1 방향을 따라 복수 개의 패터닝 슬릿들이 배치되는 패터닝 슬릿 시트; 상기 증착원 노즐부와 상기 패터닝 슬릿 시트 사이에 상기 제1 방향을 따라 배치되어, 상기 증착원 노즐부와 상기 패터닝 슬릿 시트 사이의 공간을 복수 개의 증착 공간들로 구획하는 복수 개의 차단판들을 구비하는 차단판 어셈블리; 상기 패터닝 슬릿 시트에 대한 상기 기판의 상대적인 위치를 검출하는 위치 검출 부재; 및 상기 위치 검출 부재에서 검출된 상기 상대적인 위치를 이용하여, 상기 기판에 대한 상기 패터닝 슬릿 시트의 상대적인 위치를 변화시키는 얼라인 제어 부재;를 포함하고, 상기 박막 증착 장치와 상기 기판이 서로 이격되도록 배치되며, 상기 박막 증착 장치와 상기 기판은 서로 상대적으로 이동되는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치를 제공한다.
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公开(公告)号：KR101049801B1
公开(公告)日：2011-07-15
申请号：KR1020090018927
申请日：2009-03-05
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
Inventor： 정윤모 , 이기용 , 정민재 , 서진욱 , 홍종원 , 나흥열 , 강유진 , 장석락 , 양태훈 , 안지수 , 김영대 , 박병건 , 이길원 , 이동현 , 윤상연 , 박종력 , 최보경 , 리사첸코,막심
IPC: H01L21/205 , H01L21/263
CPC classification number: H01L21/02532 , C23C14/04 , H01L21/02422 , H01L21/02488 , H01L21/02672
Abstract: 본 발명은 다결정 실리콘층의 제조방법 및 이에 이용되는 원자층 증착 장치에 관한 것이다.
본 발명은 기판 상에 비정질 실리콘층을 형성하고, 상기 비정질 실리콘층이 형성된 상기 기판을 친수성 가스 또는 소수성 가스 분위기에 위치시키고, 상기 비정질 실리콘층 상에 개구부 및 폐쇄부를 구비하는 마스크를 위치시키고, 상기 마스크를 통하여 UV 램프를 상기 비정질 실리콘층 상에 조사하고, 상기 비정질 실리콘층 상에 결정화 유도 금속을 형성하고, 상기 기판을 열처리하여 상기 비정질 실리콘층을 다결정 실리콘층으로 결정화하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 다결정 실리콘층의 제조방법 및 이에 이용되는 원자층 증착 장치를 제공한다.
결정화, 친수성, 소수성Abstract translation: 本发明涉及制造多晶硅层的方法和为此使用的原子层沉积设备。
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公开(公告)号：KR1020110066502A
公开(公告)日：2011-06-17
申请号：KR1020090123185
申请日：2009-12-11
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
IPC: C23C14/34 , H01L21/203
CPC classification number: C23C14/3407 , C23C14/35 , H01J37/3244 , H01J37/32458 , H01J37/32477 , H01J37/3411 , H01J37/3417 , H01J37/345
Abstract: PURPOSE: A sputtering apparatus is provided to uniformly and stably deposit metallic catalysts with extremely low density in amorphous silicon by positioning a magnetic assembly only in an area where a free-sputtering process is performed. CONSTITUTION: A sputtering apparatus comprises a process chamber(110), a metal target(120), a target transfer unit(130), a substrate holder(140), and a magnetic assembly. The process chamber comprises first and second areas. The metal target is located inside the process chamber. The target transfer unit moves the metal target from the first area to the second area. The substrate holder is located at the second area to face with the metal target. The magnetic assembly is located between the target transfer unit in the first area and the process chamber.
Abstract translation: 目的：提供一种溅射装置，通过仅在进行自由溅射处理的区域中定位磁性组件，在非晶硅中均匀且稳定地沉积极低密度的金属催化剂。 构成：溅射装置包括处理室（110），金属靶（120），靶转印单元（130），基底保持器（140）和磁性组件。 处理室包括第一和第二区域。 金属靶位于处理室内。 目标传送单元将金属目标从第一区域移动到第二区域。 衬底保持器位于第二区域以与金属靶相对。 磁性组件位于第一区域中的目标转移单元和处理室之间。
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公开(公告)号：KR101041143B1
公开(公告)日：2011-06-13
申请号：KR1020090033235
申请日：2009-04-16
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
Inventor： 나흥열 , 이기용 , 서진욱 , 정민재 , 홍종원 , 강유진 , 장석락 , 정윤모 , 양태훈 , 소병수 , 박병건 , 이동현 , 이길원 , 박종력 , 최보경 , 마이단축이반 , 백원봉 , 정재완
CPC classification number: H01L21/67109
Abstract: 본 발명은 다수의 기판에 동시에 열처리 또는 박막을 형성하기 위한 기판 가공 장치에 관한 것으로, 가공 공정이 진행되는 가공 챔버 내부가 균일하게 가열되도록 함으로써, 상기 가공 챔버에 반입되며, 상기 보트에 적층되는 다수의 기판에 균일한 박막을 형성하거나, 균일하게 열처리할 수 있는 기판 가공 장치에 관한 것이다.
본 발명은 가공 챔버; 다수의 기판이 적층된 보트; 상기 가공 챔버의 외측에 위치하는 외부 가열 수단; 및 상기 보트를 상기 가공 챔버 내부로 반입 및 반출시키며, 하부 가열 수단을 포함하는 이송부를 포함하며, 상기 보트는 기판이 적층된 방향으로 중심부에 중앙 가열 수단이 위치하는 것을 특징으로 하는 기판 가공 장치에 관한 것이다.
기판 가공 장치, 중앙 가열 수단-
公开(公告)号：KR1020110019965A
公开(公告)日：2011-03-02
申请号：KR1020090077605
申请日：2009-08-21
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
Inventor： 나흥열 , 이기용 , 서진욱 , 정민재 , 홍종원 , 강유진 , 장석락 , 정윤모 , 양태훈 , 박병건 , 이동현 , 이길원 , 박종력 , 최보경 , 정재완 , 소병수 , 백원봉 , 마이단축이반
IPC: H01L21/20
CPC classification number: B01D8/00 , C23C16/4412 , C23C16/45544 , Y02C20/30
Abstract: PURPOSE: A metal intercepting device and an atomic layer deposition device with the same are provided to discharge a discharging gas discharged from a processing chamber to the outside without a scrubber, thereby saving costs for installing the scrubber. CONSTITUTION: An intercepting chamber(310) provides an intercepting space. An intercepting plate(320) is located on one side of the intercepting chamber. The intercepting plate includes a body attached or detached to or from the intercepting chamber and an intercepting finger(324) inserted into the intercepting chamber. A coolant source(330) supplies a coolant. An attaching/detaching unit attaches/detaches the intercepting chamber to/from the intercepting plate.
Abstract translation: 目的：提供一种金属截留装置及其原子层沉积装置，以便将没有洗涤器的处理室排出的排放气体排出到外部，从而节省安装洗涤器的成本。 构成：拦截室（310）提供拦截空间。 拦截板（320）位于拦截室的一侧。 拦截板包括与拦截室连接或分离的主体以及插入拦截室的拦截手指（324）。 冷却剂源（330）供应冷却剂。 安装/拆卸单元将拦截室与拦截板相连/分离。
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