公开(公告)号：KR1020080097402A

公开(公告)日：2008-11-05

申请号：KR1020087016891

申请日：2007-11-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/304 ,  H01L21/00 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67126 ,  G03F7/42 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/6719 ,  G03F7/70808

Abstract: A lid member of treatment vessel is held by simple structure, and leakage of the atmosphere of treatment space to the outside of the treatment vessel is prevented. Low-pressure space (84) is provided outside treatment space (83) provided inside treatment vessel (30). Further, there are provided first seal portion (101) for sealing the gap between treatment vessel main body (80) and lid member (81) and blocking the low-pressure space (84) from the treatment space (83) and second seal portion (102) for, outside the first seal portion (101), blocking the low-pressure space (84) from the outside of the treatment vessel (30). In this construction, the internal pressure of the treatment space (83) is regulated to a level equal to or lower than the pressure outside the treatment vessel (30) in the event of inside leakage condition in which leakage occurs at the first seal portion (101) while seal is effected at the second seal portion (102) by lowering the internal pressure of the low-pressure space (84) in the state of normal seal in which seal is effected at the first seal portion (101) and the second seal portion (102).

Abstract translation: 处理容器的盖构件以简单的结构保持，并且防止处理空间的空气泄漏到处理容器的外部。 在设置在处理容器（30）内部的处理空间（83）的外侧设置有低压空间（84）。 此外，设置有用于密封处理容器主体（80）和盖构件（81）之间的间隙并从处理空间（83）阻挡低压空间（84）的第一密封部分（101）和第二密封部分 （102），用于在所述第一密封部（101）的外部阻挡所述低压空间（84）从所述处理容器（30）的外部。 在这种结构中，处理空间（83）的内部压力在第一密封部分发生泄漏的情况下被调节到等于或低于处理容器（30）外部的压力的水平（ 101），同时通过在第一密封部分（101）处进行密封的正常密封状态下降低低压空间（84）的内部压力，在第二密封部分（102）进行密封，而第二密封部分 密封部分（102）。

公开(公告)号：KR1020070115788A

公开(公告)日：2007-12-06

申请号：KR1020070053950

申请日：2007-06-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  오카무라나오유키 ,  마에다고우스케

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67196 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67253

Abstract: A processing apparatus and a processing method are provided to prevent a pressure failure of control valve due to an electrostatic discharge and to control certainly the pressure of a process chamber. A process object is processed with a process gas in a process chamber(24). A plurality of gas flow lines include a process gas supply line(30) for supplying the process gas into the process chamber and a process gas discharge line(31) for discharging the process gas from the process chamber. A diaphragm valve is provided on one of the gas flow lines. An antistatic agent source(43) is connected to the one gas flow line at a position upstream of the diaphragm valve to supply an antistatic agent.

Abstract translation: 提供了一种处理装置和处理方法，以防止由于静电放电引起的控制阀的压力故障，并且可以肯定地控制处理室的压力。 在处理室（24）中用处理气体处理过程对象。 多个气体流路线包括用于将处理气体供给到处理室的处理气体供给管线（30）和用于从处理室排出处理气体的处理气体排出管线（31）。 其中一条气体流路上设有隔膜阀。 抗静电剂源（43）在隔膜阀上游的一个位置与一条气体流路连接，以提供抗静电剂。

公开(公告)号：KR101899169B1

公开(公告)日：2018-09-14

申请号：KR1020130125120

申请日：2013-10-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  아마노요시후미 ,  오카모토에이치로 ,  이토유키

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: 본발명은컵체를흡인하는배기장치의부담을저감하면서, 기판에공급된처리액이기판으로부터비산한후에재차기판에부착하는것을효과적으로방지하는것을목적으로한다. 기판(W)의처리중, 링형의커버부재(5)는기판유지부(3)에유지된기판(W) 상면의둘레가장자리부를덮고, 이둘레가장자리부보다반경방향내측에있는기판의중앙부는커버부재에덮이지않고노출되어있다. 커버부재의하면(52)은, 기판유지부에유지된기판의상면의둘레가장자리부와의사이에간극(G)을형성한다. 컵체(2)의내부공간이배기구(245)를통해흡인되면, 커버부재의위쪽에있는기체가, 커버부재의내주면(51)에둘러싸인공간및 간극(G)을통해, 컵체의내부공간에도입된다.

公开(公告)号：KR101678231B1

公开(公告)日：2016-11-21

申请号：KR1020110135101

申请日：2011-12-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  가가와고지 ,  미조타쇼고

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  H01L21/687

CPC classification number: H01L21/68742 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/68728 ,  Y10S134/902

Abstract: 본발명은컵에부착된오물에의하여처리실내의기판이오염되는것을방지할수 있는액 처리장치및 액처리방법을제공한다. 본발명의액 처리장치(10)는, 기판(W)을유지하는기판유지부(21) 및기판유지부(21)의주위에배치되는컵(42)이내부에설치된처리실(20)과, 기판유지부(21)에유지된기판(W)에대하여처리액을공급하기위한노즐(82a)과, 컵(42)의상부에세정액을공급함으로써해당컵(42)을세정하는컵 세정부(49, 49a)를구비하고있다. 컵(42)의상부에는오목부(42a)가형성되어있고, 컵세정부(49, 49a)는, 컵(42)의상부의오목부(42a)에세정액을공급하도록되어있다.

公开(公告)号：KR1020160061263A

公开(公告)日：2016-05-31

申请号：KR1020150161189

申请日：2015-11-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 와키야마데루푸미 ,  이토노리히로 ,  히가시지마지로 ,  비와사토시

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683 ,  H01L21/687

CPC classification number: H01L21/68728 ,  H01L21/67051

Abstract: 본발명은기판에공급된후의처리액이건조후의기판에부착되는것을억제하여기판의오손(汚損)을방지하는것을목적으로한다. 본발명에서는, 기판을처리하는기판처리시스템에있어서, 연직축주위로회전가능하게설치된유지플레이트와, 상기유지플레이트에설치되고, 상기기판을유지하는기판유지부재와, 상기기판유지부재에유지된기판을미리정해진방향으로회전시키는회전구동부와, 상기기판유지부재에유지된기판에처리액을공급하는처리유체공급부를구비하고, 상기기판유지부재는, 기판과대향하는위치에형성된제1 측면부와상기제1 측면부에인접하는제2 측면부및 제3 측면부를가지며, 상기제1 측면부는, 기판의단부면을파지(把持)하는파지부를갖고, 상기제2 측면부는, 상기제1 측면부와의사이에서첨단부(尖端部)를형성하며, 기판에공급된후의처리액을기판의하방으로안내하는액류(液流) 안내부를구비하는것으로하였다.

Abstract translation: 本发明的目的是通过在干燥处理液之后，通过抑制供给到基板的处理液被附着到基板来防止基板被污染。 根据本发明的用于处理基板的基板处理系统包括：安装成能够围绕垂直轴线旋转的维护板; 基板保持部件，其安装在维护板上并维持基板; 旋转驱动部，其将保持在所述基板保持部件上的所述基板沿预定方向旋转; 以及用于向保持在基板保持部件上的基板供给处理液的加工液供给部。 基板保持部件具有：形成在面向基板的位置的第一侧面部; 以及与第一侧面部相邻的第二侧面部和第三侧面部。 第一侧面部具有用于抓住基板的端面的抓取部，第二侧面部在第一侧面部和第二侧面部之间形成切削刃部，准备液体引导部， 引导在基板下方供给到基板的处理液。

公开(公告)号：KR101608105B1

公开(公告)日：2016-03-31

申请号：KR1020110127651

申请日：2011-12-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  하치야요스케 ,  아이우라가즈히로 ,  이토노리히로 ,  신도나오키 ,  이토유키

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/68728 ,  B08B3/04 ,  B08B3/041 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/68742

Abstract: 본발명은, 노즐을지지하는노즐지지아암에부착된오물에의하여처리실내의기판이오염되는것을방지할수 있는액 처리장치및 액처리방법을제공한다. 본발명의액 처리장치(10)는, 기판(W)을유지하는기판유지부(21) 및해당기판유지부(21)의주위에배치되는컵(40)이내부에설치된처리실(20)과, 기판유지부(21)에유지된기판(W)에대하여유체를공급하기위한노즐(82a)과, 노즐(82a)을지지하는노즐지지아암(82)을구비하고있다. 액처리장치(10)에는, 노즐지지아암(82)을세정하기위한아암세정부(88)가설치된다.

Abstract translation: 本发明提供一种液体处理装置和液体处理方法，其能够防止由于附着到支撑喷嘴的喷嘴支撑臂上的污物而污染处理室中的基板。 本发明的液体处理装置10包括用于保持基板W的基板保持部21和配置在基板保持部21周围的杯40内的处理室20， 喷嘴82a用于向由基板支架21保持的基板W供给流体，喷嘴支撑臂82用于保持喷嘴82a。 液处理装置10具备用于清扫喷嘴支承臂82的臂清扫部88。

公开(公告)号：KR101580708B1

公开(公告)日：2015-12-28

申请号：KR1020110124277

申请日：2011-11-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  오가타노부히로 ,  가네코사토시 ,  나가미네슈이치 ,  가이요시히로

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/68785 ,  H01L21/68792

Abstract: 본발명은, 기판의하면에효율적으로액체세정및 2 유체세정을행할수 있는액 처리장치를제공한다. 기판세정장치(10)는, 기판유지부에유지된기판(W)의아래쪽에위치하여기판의하면에액체와기체를혼합하여이루어지는 2 유체를토출할수 있도록구성된노즐(60)을구비한다. 노즐은, 액체를토출하기위한복수의액체토출로(67a)와, 기체를토출하기위한복수의기체토출로(67b)를갖고있다. 노즐은, 복수의액체토출로에각각대응하는복수의액체토출구(61)를갖고있다. 액체토출구는, 기판유지부에유지된기판의주연부로부터안쪽을향하도록기판의아래쪽으로연장하는수평선상에형성되어있다. 액체토출구는, 기체토출로에기체가공급되지않고액체토출로에액체가공급되고있을때에, 액체토출구로부터기판의하면을향해서토출되는액체의토출방향이, 기판의하면을포함하는평면에대하여회전구동부에의해회전되는기판의회전방향으로어떤각도를이루어경사지도록형성되어있다.

Abstract translation: 本发明提供一种能够在基板上有效地进行液体清洗和双流体清洗的液体处理装置。 基板清洗装置10设置在被基板保持单元保持的基板W的下方，并且包括喷嘴60，该喷嘴60配置为排出通过在基板上混合液体和气体而形成的两种流体。 喷嘴具有用于排出液体的多个液体排出路径67a和用于排出气体的多个气体排出路径67b。 每个喷嘴具有与多个液体排出路径对应的多个液体排出口61。 液体排出口形成在从基板向下延伸的水平线上，以便从由基板保持部分保持的基板的周边边缘向内面向内。 液体排出口被布置成使得当气体不被供应到气体排出路径并且液体被供应到液体排出路径时从液体排出口朝向基板的表面排出的液体的排出方向被布置， 并且在由基板旋转的基板的旋转方向上倾斜一定角度。

公开(公告)号：KR101548754B1

公开(公告)日：2015-08-31

申请号：KR1020100054409

申请日：2010-06-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  난바히로미츠

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/6708

Abstract: 본발명은, 처리액이공급되는기판의하면측분위기로부터, 처리액이공급되지않는기판의상면측으로분위기가둘러들어가는것을방지하고, 상하양면측의분위기를분리하기위해서공급되는퍼지가스의소비량을억제하는것이가능한액처리장치를제공하는것을목적으로한다. 수평으로유지한기판의하면에처리액을공급하는본 발명의액처리장치(2)에있어서, 포위부재(4)는기판(W)으로부터비산된처리액을받아내며, 상판부(5)는수평으로유지된기판(W)의상면에대향하도록배치되고, 가스공급부(53, 531)는상판부(5)와기판(W) 사이에형성되는공간에가압된가스를공급한다. 그리고, 기체유입구(52)는, 상판부(5)와기판(W) 사이에형성되는공간내부가부압이되는것에의해, 이공간의외부의분위기의기체를이 공간내로유입시킨다.

公开(公告)号：KR1020150077351A

公开(公告)日：2015-07-07

申请号：KR1020140188281

申请日：2014-12-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 와키야마데루후미 ,  이토노리히로 ,  히가시지마지로

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728

Abstract: 본발명은복수의처리액을미리결정된배액유로로배출하는것이가능한기판액 처리장치를제공하는것을목적으로한다. 기판처리장치(16)는, 기판유지부(31)에유지된기판(W)에, 처리액공급부로부터복수의처리액을전환하여공급하고, 승강가능하게구성된내측컵(50a, 50b)은, 기판유지부(31)를측방으로부터둘러싸며, 기판(W)에공급된제1 처리액을하방으로안내하여배액하는제1 배액유로를형성하고, 외측컵(50c)은, 내측컵(50a, 50b)을둘러싸며, 기판(W)에공급된후의제2 처리액을하방으로안내하여배액하는제2 배액유로를형성한다. 커버부(54)는, 외측컵(50c)을외방측으로부터덮고, 원통부(543)의상부측으로부터내측을향하여연장된차양부(541)를구비하며, 외측컵(50c)과의사이에서, 배기유로를형성한다. 배기유로는, 상기제1 배액유로및 상기제2 배액유로의입구의상방측에서상기제1 배액유로및 상기제2 배액유로와접속된다.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种能够将多种处理液体排出到规定的排出流路的基板液体处理装置。 基板处理装置（16）从处理液供给单元转换多个处理液，并将多个处理液供给到保持在基板保持单元（31）中的基板（W）。 能够升高的内杯（50a，50b）从一侧围绕基板保持单元（31）; 通过将供给到基板（W）的第一处理液引导到下侧，形成用于排水的第一排水流路径; 并且通过在供给到基板（W）之后引导第二处理液体而形成用于排水的第二排水流路。 盖单元（54）从外侧覆盖外杯（50c），并且包括从上侧朝向气缸单元（543）的内侧延伸的遮蔽单元（541），并且形成排气流路 与外部杯（50c）的位置。 排气流路在第一和第二排水流路的入口的上侧与第一和第二排水流路连接。

公开(公告)号：KR101524903B1

公开(公告)日：2015-06-01

申请号：KR1020110119540

申请日：2011-11-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  이토노리히로

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/68728

Abstract: 본발명은기판의처리대상면을하향으로하여기판을처리할때에, 기판하면에부착된순수를 IPA로효율적으로치환하는것을목적으로한다. 기판처리방법은, 처리대상면이하면이되도록기판(W)을유지하여회전시키는공정과, 기판의하면에 DIW(순수)를공급하여기판에린스처리를실시하는공정과, 그후, 기판의하면에 IPA(이소프로필알코올)과 N가스를포함하는미스트를공급하여 DIW를 IPA로치환하는공정을포함한다. 미스트의공급은, 기판의중심부에대향하는위치와기판의주연부에대향하는위치사이에배열된복수의토출구(62)를갖고, 기판의아래쪽에설치된노즐(60)에의해이루어진다.

Abstract translation: 本发明的一个目的是有效地替换安装于纯水中，当在基板的处理，以在基板向下进入IPA的处理目标表面的衬底。 的基板处理方法包括：处理所述目标衬底的步骤（W），使得当表面由供给处理eulyu这个和，DIW根据基板旋转根据底物（纯）在冲洗处理到衬底上，并且此后，IPA （异丙醇）和N 2气体将DIW转化为IPA。 雾的供给，多个排放口（62）相对配置的位置的周缘和与衬底相反的中心的基板，由在所述衬底下的喷嘴（60）由一个位置之间。