在透射电子显微镜中使用相位片的方法

    公开(公告)号:CN104217910B

    公开(公告)日:2017-09-12

    申请号:CN201410170093.2

    申请日:2014-04-25

    CPC classification number: H01J37/263 H01J37/285 H01J2237/2614

    Abstract: 本发明涉及在透射电子显微镜(100)中使用相位片(118)的方法,所述相位片包括薄膜,所述方法包括:在所述透射电子显微镜中引入所述相位片;通过用聚焦的电子束照射所述薄膜来准备所述相位片;在所述透射电子显微镜中引入样品(108);以及通过使用所准备的相位片来形成所述样品的图像,其特征在于:准备所述相位片涉及通过用聚焦的电子束照射所述相位片来局部地构建由所述薄膜的所述电子结构中的改变引起的真空势,所述真空势导致具有比在所述未照射的薄膜处更小的值的绝对相移。优选地加热所述相位片以避免污染。用该相位片实现的所述相移可以通过使所述照射的斑点的所述直径变化来调谐。

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