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公开(公告)号：KR20180066147A
公开(公告)日：2018-06-18
申请号：KR20187012827
申请日：2016-09-21
Applicant: ASML NETHERLANDS BV
Inventor： YPMA ALEXANDER , DECKERS DAVID FRANS SIMON , BIJNEN FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER , VAN HAREN RICHARD JOHANNES FRANCISCUS , KOU WEITIAN
IPC: G05B19/418 , G03F7/20 , G03F9/00
CPC classification number: G05B19/41875 , G03F7/70508 , G03F7/70525 , G03F7/70616 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , G03F7/70641 , G03F9/7092 , G05B2219/45031 , Y02P90/22
Abstract: 일련의웨이퍼들(W(i))이상이한상황들에서처리되는리소그래피공정에서, 객체데이터(ODAT/PDAT)가수신되고, 이는예를들어앞서처리된웨이퍼들의세트에서측정된오버레이를나타내는성능데이터(PDAT)일수 있다. 상황데이터(CDAT)는세트내의웨이퍼들사이에서변동하는리소그래피공정의파라미터들을나타낸다. 성능데이터(410)의주성분분석또는다른통계적분석에의해, 웨이퍼들의세트가 2 이상의서브세트들(412)로분할된다. 웨이퍼들의제 1 분할및 상황데이터가제 1 분할과가장강하게상관하는것으로관찰되는리소그래피공정의파라미터들인 1 이상의관련상황파라미터들(418)을식별하는데 사용된다(414). 리소그래피장치는식별된관련상황파라미터들을참조하여새로운웨이퍼들에대해제어된다(400). 피드백제어및 피드포워드제어를이용한실시예들이설명된다.
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公开(公告)号：KR20180038468A
公开(公告)日：2018-04-16
申请号：KR20187005456
申请日：2016-08-10
Applicant: ASML NETHERLANDS BV
Inventor： RIGGS DANIEL JASON , RAFAC ROBERT JAY
Abstract: 레이저생성플라즈마(LPP) 극자외(EUV) 시스템내에서, 액적은레이저펄스에의해조사되어챔버내에플라즈마를생성한다. 그러면플라즈마가안정상태에서해제되게하고후속액적들이플라즈마에접근할때 그들의진행궤적및 속도가변경되게하는힘이생긴다. 이러한비안정화는생성된 EUV 에너지의양에존재하는발진으로부터검출될수 있다. 플라즈마와액적의이동을안정화하여발진을감소시키기위하여, 후속레이저펄스의에너지를챔버내에생성된 EUV 에너지에기초하여변경하기위해비례-적분(PI) 제어기알고리즘이사용된다. 후속레이저펄스의에너지를변경하면, 플라즈마가안정화되고, 그러면액적진행에대한영향이감소되고생성되는 EUV 에너지의양이안정화되기때문에, 플라즈마챔버가더 오랜동안동작할수 있게되고레이저소스에의해유지되는예비파워의양이감소된다.
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公开(公告)号：KR20180030197A
公开(公告)日：2018-03-21
申请号：KR20187004719
申请日：2016-07-05
Applicant: ASML NETHERLANDS BV
Inventor： VAN DER POST SIETSE THIJMEN , ZIJP FERRY , ROOBOL SANDER BAS
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70633 , G03F7/705 , G03F7/70625
Abstract: 타겟으로부터의갭에서광학구성요소를이용하여측정되는타겟에대한방사선세기분포를수반하는방법이개시되며, 상기방법은: 측정된방사선세기분포및 타겟을설명하는수학적모델을이용하여관심파라미터의값을결정하는단계를포함하고, 상기모델은광학구성요소의표면또는그 일부분의거칠기에대한유효매질근사를포함한다.
Abstract translation: 公开了一种方法，该方法涉及使用在距目标的间隙中的光学部件测量的目标的辐射强度分布，该方法包括：使用描述测量的辐射强度分布和目标的数学模型， 其中该模型包括对光学部件或其一部分的表面的粗糙度的有效介质近似。
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公开(公告)号：KR20180008756A
公开(公告)日：2018-01-24
申请号：KR20177036449
申请日：2016-05-23
Applicant: ASML NETHERLANDS BV
Inventor： SOETHOUDT ABRAHAM ALEXANDER , POIESZ THOMAS
IPC: G03F7/20 , B01D53/34 , B01D53/56 , B01D53/79 , B05B5/08 , B05B13/02 , B05B13/04 , B05B13/06 , F23J15/00
CPC classification number: B01D53/56 , B01D53/346 , B01D53/79 , B01D2251/2062 , B01D2251/2067 , B01D2257/402 , B01D2257/404 , B01D2258/0283 , B01D2259/124 , B05B13/0278 , B05B13/041 , B05B13/0627 , B05B15/656 , B05B15/68 , F23J15/003 , F23J2219/20 , G03F7/707 , G03F7/70783 , Y02C20/10
Abstract: 리소그래피장치는지지테이블및 가스추출시스템을포함한다. 가스추출시스템은, 기판이지지테이블상에하강되고있을때 지지테이블의베이스면과기판사이의갭으로부터적어도하나의가스추출구를통해가스를추출하도록구성된다. 리소그래피장치는, 기판과지지평면사이의거리가임계거리보다긴 경우가스가갭으로부터제 1 로딩유량으로추출되고, 기판과지지평면사이의거리가임계거리보다짧은경우가스가갭으로부터제 2 로딩유량으로추출되도록구성되는데, 제 2 로딩유량은제 1 로딩유량보다적다.
Abstract translation: 光刻设备包括支撑台和气体抽取系统。 气体排出系统被配置为通过从所述底表面之间的间隙的气体排出口，当该表被降低到支撑台和基片以提取至少基板支撑气体。 的光刻设备，该基板与支撑，当平面大于临界距离时，和气体之间的距离与从所述缝隙的第一装载流速萃取，当所述基板和所述支承面之间的距离是从该气体间隙第二装载流动速率大于阈值距离更短的 其中第二加载流量小于第一加载流量。
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公开(公告)号：KR20100136940A
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：KR20100058143
申请日：2010-06-18
Applicant: ASML NETHERLANDS BV
Inventor： VAN BUEL HENRICUS WILHELMUS MARIA , BROEKHUIJSE JEROEN THOMAS , PROSYENTSOV VITALIY , VAN DER GRAAF SANDRA , DZIOMKINA NINA VLADIMIROVNA
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/7085 , G03F7/70341 , G03F7/70616 , H01L21/0274
Abstract: PURPOSE: A sensor for an immersion system, a table, and a lithography apparatus are provided to obtain resistance against immersion, exposed radiation, and quantum. CONSTITUTION: A sensing device(SD) senses the property of a radiation beam. A transparent layer(TL) covers a sensor. The transparent layer allows radiation beams to pass. An opaque patterning layer is positioned between the transparent layer and the sensing device.
Abstract translation: 目的：提供一种用于浸没系统，桌子和光刻设备的传感器，以获得抵抗浸没，暴露的辐射和量子的抵抗能力。 构成：感测装置（SD）感测辐射束的性质。 透明层（TL）覆盖传感器。 透明层允许辐射束通过。 不透明图案层位于透明层和感测装置之间。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR20210009437A
公开(公告)日：2021-01-26
申请号：KR20217001411
申请日：2017-06-01
Applicant: ASML NETHERLANDS BV
Inventor： KUMAR NITISH , HUISMAN SIMON REINALD
Abstract: 정렬마크측정시스템을위한초연속방사선소스는: 방사선소스; 조명광학기; 복수의도파관들; 및수집광학기를포함한다. 방사선소스는펄스화된방사선빔을생성하도록작동가능하다. 조명광학기는펄스화된펌프방사선빔을수용하고, 복수의펄스화된서브-빔들을형성하도록배치되며, 각각의펄스화된서브-빔은펄스화된펌프방사선빔의일부분을포함한다. 복수의도파관들각각은복수의펄스화된서브-빔들중 적어도하나를수용하고, 그펄스화된서브-빔의스펙트럼을확장하여초연속서브-빔을생성하도록배치된다. 수집광학기는복수의도파관들각각으로부터초연속서브-빔을수용하고, 이들을조합하여초연속방사선빔을형성하도록배치된다.
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公开(公告)号：KR20200140361A
公开(公告)日：2020-12-15
申请号：KR20207032118
申请日：2019-04-16
Applicant: ASML NETHERLANDS BV
Inventor： PENG XINGYUE , LIU JINGJING
IPC: G03F7/20
Abstract: 본명세서에는패터닝프로세스의마스크모델과관련된전자계를결정하는방법이기재되어있다. 본방법은관심마스크스택영역및 관심마스크스택영역에대응하는상호작용차수를획득하는단계를포함한다. 관심마스크스택영역은하위영역들로분할된다. 관심마스크스택영역은관심마스크스택영역을통한전자파의전파와관련된하나이상의특성을갖는다. 본방법은맥스웰방정식및 양자슈레딩거방정식에기초한하나이상의전자계결정식을생성하는단계를포함한다. 본방법은하나이상의전자계결정식을사용하여, 관심마스크스택영역의하위영역들및 관심마스크스택영역을통한전자파의전파와관련된특성에기초하여관심마스크스택영역과관련된전자계를결정하는단계를포함한다.
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公开(公告)号：KR20200140317A
公开(公告)日：2020-12-15
申请号：KR20207031476
申请日：2019-04-05
Applicant: ASML NETHERLANDS BV
Inventor： QUINTANILHA RICHARD , MIDDLEBROOKS SCOTT ANDERSON , KOOPMAN ADRIANUS CORNELIS MATHEUS , MANGNUS ALBERTUS VICTOR GERARDUS
IPC: G03F7/20
Abstract: 리소그래피시스템에의해수행되는리소그래피공정에의해생성되는구조체를검사하는검사툴에대한측정시퀀스를결정하는방법이제시되며, 상기방법은리소그래피시스템에의해수행되는리소그래피공정에대한모델을도출하는단계 -상기모델은리소그래피시스템을설명하는시스템변수들의세트와리소그래피공정으로발생하는구조체를나타내는출력변수간의관계를포함함- ; 출력변수에서의 1 이상의시스템변수의관찰가능성을결정하는단계; 및관찰가능성에기초하여검사툴에대한측정시퀀스를결정하는단계를포함한다.
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公开(公告)号：KR20200135878A
公开(公告)日：2020-12-03
申请号：KR20207031525
申请日：2019-04-23
Applicant: ASML NETHERLANDS BV
Inventor： HEMPENIUS PETER PAUL , HOL SVEN ANTOIN JOHAN , KREMERS MAARTEN FRANS JANUS , VAN DE GROES HENRICUS MARTINUS JOHANNES , BOSCH NIELS JOHANNES MARIA , BAGGEN MARCEL KOENRAAD MARIE
IPC: H01J37/20 , H01J37/09 , H01J37/317
Abstract: e-빔장치가개시되고, 상기장치는대상물상으로 e-빔을투영하도록구성되는전자광학기시스템(500), 대상물을유지하는대상물테이블, 및전자광학기시스템에대해대상물테이블(520)을이동시키도록구성되는위치설정디바이스(510)를포함한다. 위치설정디바이스는전자광학기시스템에대해대상물테이블을이동시키도록구성되는단행정스테이지(512) 및전자광학기시스템에대해단행정스테이지를이동시키도록구성되는장행정스테이지(511)를포함한다. e-빔장치는위치설정디바이스에의해발생되는자기교란으로부터전자광학기시스템을차폐하기위한자기차폐부(540)를더 포함한다. 자기차폐부는위치설정디바이스와전자광학기시스템사이에배치될수 있다.
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公开(公告)号：KR20200135798A
公开(公告)日：2020-12-03
申请号：KR20207028044
申请日：2019-03-15
Applicant: ASML NETHERLANDS BV
Inventor： DRIESSEN THEODORUS WILHELMUS , ERSHOV ALEXANDER IGOREVICH , ROLLINGER BOB , VASCHENKO GEORGIY OLEGOVICH , WINKELS KOEN GERHARDUS , TREES DIETMAR UWE HERBERT
IPC: H05G2/00
Abstract: 조사영역및 액적공급원으로향하는레이저빔을생성하는장치를포함하는 EUV 방사선을생성하는데 사용되는액적형성을제어하기위한장치및 방법. 액적공급원은노즐을나오는유체및 이유체에교란을생성하는전기작동가능요소를갖는서브시스템을포함한다. 액적공급원은액적으로분할되는스트림을생성하며, 이액적들은조사영역을향해진행함에따라더 큰액적으로합체된다. 이프로세스는스트림내의액적이완전히합체되지않은일 지점에서스트림을관찰함으로써제어된다.
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