公开(公告)号：KR1020130118236A

公开(公告)日：2013-10-29

申请号：KR1020130028548

申请日：2013-03-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이이다나루아키 ,  데라모토아키히로 ,  마에지마히로미츠

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67733 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/67778

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus, a substrate processing method, and a storage medium are provided to obtain a high throughput and to prevent a coating device and a developing device from being enlarged by preventing the input interval of the substrate to a carrier block and the output interval of the substrate from the carrier block to a carrier from being increased. CONSTITUTION: A first wafer moving and mounting device (51) outputs a wafer from a carrier of a load port (3A). A second wafer moving and mounting device returns the wafer to the carrier of the load port. A first buffer module temporarily loads the wafer before the wafer is transferred from the carrier to a processing block. A second buffer module temporarily loads the wafer before the wafer is returned to the carrier of the load port. The first wafer moving and mounting device transfers the wafer from the first buffer module to the processing block.

Abstract translation: 目的：提供基板处理装置，基板处理方法和存储介质以获得高生产量，并且通过防止基板到载体块的输入间隔和防止涂覆装置和显影装置的放大， 衬底从载体块到载体的输出间隔增加。 构成：第一晶片移动和安装装置（51）从负载端口（3A）的载体输出晶片。 第二晶片移动和安装装置将晶片返回到负载端口的载体。 在晶片从载体转移到处理块之前，第一缓冲模块临时加载晶片。 第二缓冲器模块在晶片返回到负载端口的载体之前临时加载晶片。 第一晶片移动和安装装置将晶片从第一缓冲模块传送到处理块。

公开(公告)号：KR1020130116021A

公开(公告)日：2013-10-22

申请号：KR1020130038071

申请日：2013-04-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이이다나루아키 ,  테라모토아키히로

IPC: H01L21/677 ,  B65G49/07 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/677 ,  H01L21/67265 ,  H01L21/67772 ,  H01L21/67775 ,  H01L21/67778

Abstract: PURPOSE: A substrate transfer device, a substrate transfer method, and a storage medium are provided to reduce the generation of particles by improving the airtightness of a driving tool for opening a door. CONSTITUTION: A door (3) opens and closes an opening part. A detachable tool is installed at the door. The detachable tool detaches a cover body (42). A reciprocation part moves the door forward or backward. A rotation tool rotates around a rotation axis according to the movement direction of the door.

Abstract translation: 目的：提供基板转印装置，基板转印方法和存储介质，以通过改善用于打开门的打入工具的气密性来减少颗粒的产生。 构成：门（3）打开和关闭开口部分。 门上安装有可拆卸工具。 可拆卸工具分离盖体（42）。 往复运动部件向前或向后移动门。 旋转工具根据门的移动方向围绕旋转轴线旋转。

公开(公告)号：KR100988707B1

公开(公告)日：2010-10-18

申请号：KR1020040044273

申请日：2004-06-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이이다나루아키 ,  이토카즈히코 ,  키노시타미치오

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67754 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/681 ,  Y10S414/139 ,  Y10S414/141

Abstract: 본 발명은 기판 처리 장치 및 기판 반송 장치의 위치 맞춤 방법에 관한 것으로서, 반송 장치가 출입하는 처리 유니트의 반송구에 대해서 좌우 방향의 위치 좌표가 미리 결정되어 있는 제 1의 광학적 검출용 마크와 반송구에 대해서 상하 방향의 위치 좌표가 미리 결정되어 있는 제2의 광학적 검출용 마크와, 기판 반송(5) 장치에 설치되어 제1 또는 제2의 광학적 검출용 마크를 검출하기 위한 광 센서를 가지고 있다. 광 센서가 제 1의 광학적 검출용 마크를 검출했을 때의 기판 반송 장치의 위치로부터 미리 결정 된 각도만 기판 반송 장치를 회전시키고, 또 제 2의 광학적 검출용 마크를 검출했을 때의 기판 반송 장치의 위치로부터 미리 결정 된 이동량만 기판 반송 장치를 상하 방향으로 이동시킨다. 기판 반송 장치를 처리 유니트(10)의 반송구에 대향시킨 후, 기판 반송 장치를 처리 유니트내에 진입시켜서 처리유니트내의 재치대의 소정 위치에 기판을 주고 받을 때의 정확한 수수 위치의 데이터를 미리 취득하는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR1020100109439A

公开(公告)日：2010-10-08

申请号：KR1020100027568

申请日：2010-03-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카노세이지 ,  마츠시타미치아키 ,  이이다나루아키 ,  에노키다스구루 ,  모리카와가츠히로

IPC: H01L21/677 ,  B65G49/07 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67742 ,  H01L21/68707 ,  B25J11/0095 ,  B25J19/0066 ,  H01L21/68757 ,  Y10S414/141

Abstract: PURPOSE: The substrate support device and method for supporting a substrate. The deterioration of the circuit layout part can be controlled. The deterioration of the circuit layout part by the processing liquid can be controlled. CONSTITUTION: The substrate support device(11) and method for supporting a substrate. The supporting member, position regulation part, and protective film is included. The supporting member has the rear side supporting part supporting the rear side of substrate. The position regulation part regulates the location of substrate.

Abstract translation: 目的：用于支撑基板的基板支撑装置和方法。 可以控制电路布局部分的劣化。 可以控制由处理液体导致的电路布局部分的劣化。 构成：衬底支撑装置（11）和支撑衬底的方法。 包括支撑构件，位置调节部分和保护膜。 支撑构件具有支撑基板的后侧的后侧支撑部。 位置调节部分调节衬底的位置。

公开(公告)号：KR1020070074494A

公开(公告)日：2007-07-12

申请号：KR1020070001565

申请日：2007-01-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  이이다나루아키 ,  이나도미히로아키

IPC: H01L21/027

CPC classification number: F27B17/0025 ,  F27B5/04 ,  F27D5/0037 ,  F27D15/02 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/67784 ,  Y10S414/139 ,  G03F7/168

Abstract: A heating apparatus and a method are provided to reduce the size of the heating apparatus itself by floating a substrate and transferring the floated substrate between a cooling plate and a heating plate. A heating apparatus includes a heating chamber(4) for heating a substrate in a process chamber, a heating plate(6) in the heating chamber, a cooling plate(3) adjacent to an opening side of the heating chamber in the process chamber, a gas projecting hole, a pressing member, and a driving mechanism. The gas projecting hole(6a) is formed at the cooling plate and the heating plate along a substrate moving path. The gas projecting hole is capable of floating the substrate. The pressing member(5) is used for pressing a front side or a rear side of the floated substrate. The driving mechanism is used for controlling the motion of the pressing member.

Abstract translation: 提供一种加热装置和方法，通过漂浮基板并将浮动的基板转移到冷却板和加热板之间来减小加热装置本身的尺寸。 加热装置包括用于加热处理室中的基板的加热室（4），加热室中的加热板（6），与处理室中的加热室的开口侧相邻的冷却板（3） 气体突出孔，按压构件和驱动机构。 气体突出孔6a沿着基板移动路径形成在冷却板和加热板上。 气体突出孔能够漂浮基板。 按压构件（5）用于按压浮动基板的前侧或后侧。 驱动机构用于控制按压部件的运动。

公开(公告)号：KR1020060090212A

公开(公告)日：2006-08-10

申请号：KR1020060068647

申请日：2006-07-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 키타노준이치 ,  마츠야마유지 ,  키타노타카히로 ,  카타노타카유키 ,  마츠이히데후미 ,  스즈키요 ,  야마시타마사미 ,  아오야마토루 ,  이와키히로유키 ,  시무라사토루 ,  데구치마사토시 ,  요시하라코우스케 ,  이이다나루아키

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67178 ,  G03F7/70991 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67778 ,  Y10T29/41 ,  G03F7/70875 ,  H01L21/67098

Abstract: 도포현상 처리시스템에 있어서 경계판에 의해 나누어진 각 영역, 즉 카세트 스테이션, 처리 스테이션 및 인터페이스부의 상부에 각 영역 내로 불활성 기체를 공급하는 기체 공급부를 각각 설치한다. 상기 각 영역의 하부에는 각 영역 내의 분위기를 배기하기 위한 배기관을 설치한다. 각 기체 공급장치로 산소 등의 불순물이나 미립자를 포함하지 않는 불활성 기체를 각 영역 내로 공급하고 각 영역 내의 분위기를 배기관으로 배기함으로써 각 영역 내의 분위기를 청정한 상태로 유지한다.

公开(公告)号：KR100386130B1

公开(公告)日：2003-08-25

申请号：KR1019970001966

申请日：1997-01-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야에가시히데타미 ,  도시마다카유키 ,  아키모토마사미 ,  야마구치에이지 ,  가타노준이치 ,  기타노다카유키 ,  신야히로시 ,  이이다나루아키

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67178 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/67742 ,  Y10T29/41

Abstract: A processing apparatus comprising a plurality of process unit groups (G1 to G5) each including a plurality of process units to subject an object (w) to a series of processes, said process units being arranged vertically in multiple stages, an object transfer space (22) being defined among the process unit groups (G1 to G5); transfer means (21) for transferring the object (w), said transfer means (21) having a transfer member (73, 78a, 78b, 78c) vertically movable in the object transfer space (22), said transfer member (73, 78a, 78b, 78c) being capable of transferring the object (w) to each of said process units; and means (20b, 50 to 62, 84, 95, 95a, 96, 114, 114a, 115, 115a) for reducing a variation in condition of the object transfer space (22), the processing apparatus further comprising at least one first process unit group (G1, G2) in which process units including a resist coating unit for coating a resist and a developing unit for developing a pattern of the resist are vertically stacked; and at least one second process unit group (G3, G4, G5) in which at least one or all of an alignment unit for aligning an object to be processed, a baking unit for baking the object, a cooling unit for cooling the object, an adhesion unit for subjecting the object to an adhesion process, and an extension unit are vertically stacked, wherein said first process unit group (G1, G2) has such an arrangement that the coating unit is placed below the developing unit.

Abstract translation: 1。一种处理装置，其特征在于，具有：多个处理单元组（G1〜G5），其分别具有对被处理体（w）进行一系列处理的多个处理单元，该多个处理单元以多个阶段进行垂直配置， 22）被定义在处理单元组（G1到G5）中; 用于传送物体（w）的传送装置（21），所述传送装置（21）具有可在物体传送空间（22）中垂直移动的传送构件（73,78a，78b，78c），所述传送构件（73,78a ，78b，78c）能够将物体（w）转移到每个所述处理单元; 和用于减少所述物体转移空间（22）的状态变化的装置（20b，50至62,84,95,95a，96,114,114a，115,115a），所述处理装置还包括至少一个第一处理 单元组（G1，G2），其中包括用于涂覆抗蚀剂的抗蚀剂涂布单元和用于显影抗蚀剂图案的显影单元的处理单元垂直堆叠; 以及至少一个第二处理单元组（G3，G4，G5），其中用于对准待处理对象的对准单元，用于烘烤对象的烘烤单元，用于冷却所述对象的冷却单元， 用于对物体进行粘合处理的粘合单元和延伸单元垂直地堆叠，其中所述第一处理单元组（G1，G2）具有这样的布置，即涂覆单元位于显影单元下方。

公开(公告)号：KR1020020061515A

公开(公告)日：2002-07-24

申请号：KR1020020001963

申请日：2002-01-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이이다나루아키

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67706 ,  H01L21/67017 ,  Y10S414/135 ,  Y10S414/139

Abstract: PURPOSE: To reduce an effect exerted upon a substrate on carrying by particles produced during the operation of a lifting mechanism of a carrying means, in the carrying means for the substrate installed inside a substrate-processing device. CONSTITUTION: A partition wall having a slit-shaped opening is made in a box forming an exterior of the lifting mechanism to separate a first chamber and a second chamber. A carrying body for holding a wafer is fixed by a bar- shaped support and the end of the support is supported by a guide shaft. A drive mechanism for vertically moving the guide shaft and the support are provided in the first chamber and the support is vertically moved along the guide shaft. A fan is provided in the second chamber and an exhaust port is made in a bottom surface. When the fan is operated, atmosphere in the first chamber is sucked via the opening in the partition wall to discharge the particles produced when the carrying body is vertically moved through the second chamber from the exhaust port.

Abstract translation: 目的：为了减少在承载装置的提升机构的操作过程中产生的颗粒在衬底处理装置内安装的衬底的承载装置中对衬底施加的影响。 构成：在形成提升机构的外部的箱体中形成具有狭缝状开口的隔壁，以分离第一室和第二室。 用于保持晶片的承载体通过条形支撑件固定，并且支撑件的端部由导向轴支撑。 在第一室中设置有用于垂直移动导向轴和支撑件的驱动机构，并且支撑件沿着引导轴垂直移动。 风扇设置在第二室中，排气口形成在底面。 当操作风扇时，第一室中的气氛经由隔壁中的开口被吸入，以便当携带体从排气口垂直移动通过​​第二室时产生的颗粒排出。

公开(公告)号：KR1020020010442A

公开(公告)日：2002-02-04

申请号：KR1020010004660

申请日：2001-01-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 키타노준이치 ,  마츠야마유지 ,  키타노타카히로 ,  카타노타카유키 ,  마츠이히데후미 ,  스즈키요 ,  야마시타마사미 ,  아오야마토루 ,  이와키히로유키 ,  시무라사토루 ,  데구치마사토시 ,  요시하라코우스케 ,  이이다나루아키

IPC: H01L21/30

CPC classification number: H01L21/67178 ,  G03F7/70991 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67778 ,  Y10T29/41

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus and method are provided to prevent an adhesion of fine impurities or particles on a substrate and to improve a uniformity of line-width between substrates. CONSTITUTION: On top of respective areas divided by partition plates, that is, a cassette station(2), a processing station(3), and an interface section(4) in a coating and developing processing system, gas supply sections(70,71,72) for supplying an inert gas into the respective areas are provided. Exhaust pipes(75,76,77) for exhausting atmospheres in the respective areas are provided at the bottom of the respective areas. The atmospheres in the respective areas are maintained in a clean condition by supplying the inert gas not containing impurities such as oxygen and fine particles from the respective gas supply sections into the respective areas and exhausting the atmospheres in the respective areas from the exhaust pipes(75,76,77).

Abstract translation: 目的：提供基板处理装置和方法，以防止细小的杂质或颗粒附着在基板上并提高基板之间的线宽的均匀性。 构成：在涂覆和显影处理系统中，由分隔板（即，盒式磁带站（2）），处理站（3）和接口区段（4）分隔的各个区域之上， 71,72）用于将惰性气体供应到各个区域。 在各个区域的底部设置用于排出各区域的气氛的排气管（75,76,77）。 通过将不含杂质的惰性气体（例如氧气和细颗粒）从各个气体供应区域供应到各个区域并且从排气管（75）排出各个区域中的气氛，将各个区域中的气氛保持在清洁状态 ，76,77）。

公开(公告)号：KR100288067B1

公开(公告)日：2001-06-01

申请号：KR1019980030267

申请日：1998-07-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이이다나루아키 ,  코자와세이지

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은, 예를들면 웨이퍼 상에 레지스트를 도포하고, 현상하는 도포현상처리시스템에 적용되는 반송장치 및 이 반송장치를 갖는 처리장치에 관한 것이다. 종래 반송장치에는 타이밍 벨트보다도 감속용 벨트쪽이 열화의 진행이 빠르게 되기 때문에, 쉽게 끊어지고, 감속용 벨트가 1본이기 때문에, 이 감속용 벨트가 끊어지게 되면 보지부가 떨어지는 문제점이 있었다.
본 발명은 기판을 보지하는 보지부와, 구동풀리와 종동풀리와의 사이에 상기 제 1무단벨트가 놓여지고, 상기 보지부가 상기 제 1무단벨트에 설치된 제 1반송기구와, 회전출력축을 갖는 구동원, 상기 구동풀리에 고정된 감속용 풀리 및 복수의 제 2무단팰트를 갖으며, 상기 회전출력축과 상기 감속용 풀리와의 사이에 복수의 상기 제 2무단벨트가 놓여진 제 2반송기구와, 상기 제 2무단벨트의 상태를 검출하는 제 1검출수단을 구비하는 반송장치 및 상기의 반송장치가 구비된 처리장치를 제공하여 , 상기 복수의 제 2무단벨트 중, 하나가 절단이나 신장되어도 보지부가 떨어지는 것을 방지할 수 있고, 상태가 악화된 제 2무단벨트를 검출하기 위한 수단을 갖고 있기 때문에, 상태가 악화된 상기 제 2무단벨트에 대해 신속한 조치를 취할 수 있는 효과가 있는 복� ��의 반송벨트를 갖는 반송장치 및 처리장치를 제시하고 있다.