Abstract:
Ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements umfasst Schritte zum Bereitstellen eines optoelektronischen Halbleiterchips mit einer Vorderseite und einer Rückseite, zum Aufbringen einer Opferschicht auf der Rückseite, zum Ausbilden eines Formkörpers, wobei der optoelektronische Halbleiterchip zumindest teilweise in den Formkörper eingebettet wird, und zum Entfernen der Opferschicht.
Abstract:
Ein optoelektronisches Halbleiterbauteil umfasst einen optoelektronischen Dünnfilmchip und ein thermisch leitendes und elektrisch isolierendes Element. Dabei sind der Dünnfilmchip und das Element gemeinsam in einen Formkörper eingebettet.
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine Halbleiterlaservorrichtung mit einem Laserbarren (2), einem flexiblen Leitungsträger (10), einem Trägerkörper (3) aus einem Metall oder einer Metalllegierung und einer Wärmesenke (4), welche zwischen dem Trägerkörper (3) und dem Laserbarren (2) angeordnet ist, wobei der Laserbarren (2) durch den flexiblen Leitungsträger (10) elektrisch kontaktiert wird und der Trägerkörper (3) in einer Dicke von mindestens 2 mm ausgebildet ist. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zur Herstellung der beschriebenen Halbleiterlaservorrichtung, wobei der Laserbarren (2) mittels einer Hartlotschicht (30) an die Wärmesenke (4) und die Wärmesenke (4) mittels einer weiteren Hartlotschicht (31) an den Trägerkörper (3) durch einen synchronen Lötprozess gelötet werden.
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine optoelektronische Vorrichtung mit einer Laserquelle (3), einer Detektoreinrichtung (5) und einer Prismenoptik (6), welche ausgebildet ist ein emittiertes Licht der Laserquelle (3) einem optischen Speichermedium (8) zuzuführen und Licht, welches von dem optischen Speichermedium (8) reflektiert wird der Detektoreinrichtung (5) zuzuführen. Die optoelektronische Vorrichtung ist dadurch gekennzeichnet, dass eine Trägerplatte (1) vorgesehen ist, auf welcher zumindest ein Pad (2) aus thermisch leitfähigem Material angeordnet ist, und die Laserquelle (3) und/oder die Prismenoptik (6) auf dem zumindest einen Pad (2) angeordnet sind bzw. ist.
Abstract:
Es wird ein Bauteil (100) mit einem Träger (10) und einer Mehrzahl von Halbleiterchips (2) angegeben, bei dem der Träger eine einlagig ausgeführte und elektrisch leitfähige Trägerschicht (1) aufweist, wobei die Trägerschicht (1) strukturiert ausgebildet ist und eine Mehrzahl von Teilschichten (1A, 1B) aufweist. Die Trägerschicht weist eine Montagefläche (1M) auf, auf der die Halbleiterchips (2) angeordnet sind, wobei die Halbleiterchips (2) von der Trägerschicht (1) mechanisch getragen und mit den Teilschichten (1A, 1B) elektrisch leitend verbunden sind. Der Träger (10) weist eine gemeinsame Elektrode für Halbleiterchips (2) einer Gruppe aus mehreren Halbleiterchips (2) auf, wobei die gemeinsame Elektrode durch eine der Teilschichten (1A, 1B) oder durch mehrere miteinander im elektrischen Kontakt stehende Teilschichten (1A, 1B) der Trägerschicht (1) gebildet ist. Des Weiteren wird ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Bauteils (100) angegeben.
Abstract:
An optoelectronic device, in particular a display device, comprises: at least one optoelectronic light source (101), an at least partially transparent front layer (133), an at least partially transparent support layer (103), wherein the light source (101) is arranged between the front layer (133) and the support layer (103), wherein a front side of the light source (101) faces the front layer (133) and a rear side of the light source (101) faces the support layer (103), and wherein a limiting device (107) is provided in a circumferential direction around the light source (101), wherein the limiting device (107) limits a spatial region, in which the light source (101) emits light such that total internal reflection of the emitted light, in particular at an interface (143) between the front layer (133) and the outside, is avoided or at least reduced.
Abstract:
Die Erfindung betrifft verschiedene Aspekte zu einer µ-LED oder einer µ-LED Anordnung für Augmented Reality oder Licht Anwendungen, hier insbesondere im Automotive Bereich. Dabei zeichnet sich die µ-LED durch besonders kleine Abmessungen im Bereich weniger µm aus.
Abstract:
Lichtemittierendes Bauteil (10) mit einem IC-Chip (100) und einem LED-Chip (200), bei dem - der LED-Chip (200) auf einer Deckfläche (100a) des IC-Chips (100) angeordnet und mit diesem elektrisch gekoppelt ist, - der LED-Chip (200) mittels des IC-Chips (100) elektrisch ansteuerbar ist, - der IC-Chip (100) an einer von dem LED-Chip (200) abgewandten Bodenfläche (100b) zumindest zwei elektrische Anschlussflächen (101, 102) aufweist, und - das lichtemittierende Bauteil (10) über die Anschlussflächen (201, 202) elektrisch kontaktierbar und betreibbar ist.
Abstract:
Das Verfahren umfasst einen Schritt A), in dem ein Anschlussträger (1) bereitgestellt wird, der an einer Oberseite (13) eine Einfangstruktur (10) sowie ein oder mehrere neben der Einfangstruktur (10) angeordnete Anschlusselemente (11, 12) aufweist. In einem Schritt B) wird ein Bauteil (2) bereitgestellt, das an einer Montageseite (23) eine Ausrichtstruktur (20) sowie ein oder mehrere neben der Ausrichtstruktur (20) angeordnete Kontaktelemente (21, 22) aufweist. In einem Schritt C) wird das Bauteil (2) mit dem Anschlussträger (1) über eine Benetzungsflüssigkeit (3) verbunden, wobei die Einfangstruktur (10) und die Ausrichtstruktur (20) von der Benetzungsflüssigkeit (3) benetzt werden und das Bauteil (2) automatisch ausgerichtet wird.
Abstract:
Das Verfahren ist zur Herstellung von optoelektronischen Halbleiterchips eingerichtet und umfasst die Schritte: A) Bereitstellen von Quellsubstraten (21, 22, 23), wobei jedes der Quellsubstrate (21, 22, 23) mit einer bestimmten Art von Strahlung emittierenden Halbleiterchips (41,42, 43) bestückt ist, B) Bereitstellen eines Zielsubstrats (3) mit einer Montageebene (30), C) Erzeugen von Podesten (52, 53) an dem Zielsubstrat (3) oder an zumindest einem der Quellsubstrate (21, 22, 23), und D) Übertragen mindestens eines Teils der Halbleiterchips (41, 42, 43) mit einem Scheibe-zu-Scheibe-Prozess von den Quellsubstraten (21, 22, 23) auf das Zielsubstrat (3), sodass die auf das Zielsubstrat (3) übertragenen Halbleiterchips (41, 42, 43) innerhalb einer Art ihre relative Position zueinander beibehalten undjede Art von Halbleiterchips (41, 42, 43) auf dem Zielsubstrat (3) aufgrund der Podeste (52, 53) eine andere Höhe (H1, H2, H3) über der Montageebene (30) aufweist.