Abstract:
Die Erfindung betrifft eine Displayanordnung mit einer Vielzahl von in Reihen und Spalten angeordnete Pixel, von denen jedes drei Subpixel umfasst, und jedem Subpixel ein programmierbarer Strompfad mit wenigstens einem dazu in Reihe geschalteten optoelektronischen Bauelement zur Erzeugung elektromagnetischer Strahlung zugeordnet ist. Eine Ansteuerschaltung ist ausgeführt, während eines ersten Zeitraums einen Strom durch den programmierbaren Strompfad zu programmieren und während eines nachfolgenden zweiten Zeitraumes den programmierbaren Strompfad anzusteuern zur Versorgung des wenigstens einen optoelektronischen Bauelement mit dem programmierten Strom. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass wenigstens einige erste Subpixel der Vielzahl von in Reihen und Spalten angeordnete Pixel einen zwischen Strompfad und optoelektronischen Bauelement angeordneten schaltbaren Ausleseanschluss aufweisen; und die Ansteuerschaltung ausgeführt ist, während des ersten Zeitraumes ein durch die optoelektronischen Bauelemente der wenigstens einigen ersten Subpixel der Vielzahl von in Reihen und Spalten angeordnete Pixel erzeugtes Photosignal am schaltbaren Ausleseanschluss zu erfassen.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Halbleiterbauelement (16) angegeben umfassend einen Schichtenstapel (9) umfassend zumindest eine Seitenfläche (9A), eine erste Hauptfläche (9B) und eine zweite Hauptfläche (90), ein erstes, an der ersten Hauptfläche (9B) angeordnetes Kontaktmittel (12), das zur elektrischen Kontaktierung eines ersten Halbleiterbereichs (4) des Schichtenstapels (9) vorgesehen ist, - ein zweites, an der zweiten Hauptfläche (90) angeordnete Kontaktmittel (17), das zur elektrischen Kontaktierung eines zweiten Halbleiterbereichs (5) des Schichtenstapel (9) vorgesehen und strahlungsdurchlässig ist, und eine auf dem Schichtenstapel (9) angeordnete, elektrisch leitfähige Randschicht (11), die sich von dem zweiten Kontaktmittel (17) über die Seitenfläche (9A) bis an die erste Hauptfläche (9B) erstreckt, und - eine erste, zwischen der Randschicht (11) und dem Schichtenstapel (9) angeordnete dielektrische Schicht (10), wobei die zweite Hauptfläche (90) von der ersten dielektrischen Schicht (10) unbedeckt ist. Ferner wird ein Verfahren zur Herstellung zumindest eines optoelektronischen Halbleiterbauelements angegeben.
Abstract:
Die Erfindung betrifft verschiedene Aspekte zu einer µ-LED oder einer µ-LED Anordnung für Augmented Reality oder Licht Anwendungen, hier insbesondere im Automotive Bereich. Dabei zeichnet sich die µ-LED durch besonders kleine Abmessungen im Bereich weniger µm aus.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Bauelement (10) mit einer ersten Schichtenfolge (30) und einer zweiten Schichtenfolge (32) beschrieben. Die erste Schichtenfolge (30) ist dazu eingerichtet, elektromagnetische Strahlung zu emittieren oder zu detektieren. Die zweite Schichtenfolge (32) ist an einer ersten Seite der ersten Schichtenfolge (30) angeordnet und ist dazu eingerichtet, die von der ersten Schichtenfolge (30) emittierte oder zu detektierende elektromagnetische Strahlung zu reflektieren. Die zweite Schichtenfolge (32) weist eine erste Reflektorschicht (38) eine zweite Reflektorschicht (40) und eine Haftvermittlungsschicht (42) auf. Die erste Reflektorschicht (38) enthält ein erstes Material und ist an einer der ersten Seite der ersten Schichtenfolge (30) zugewandten ersten Seite der zweiten Schichtenfolge (32) angeordnet. Die Haftvermittlungsschicht (42) enthält ein zweites Material und ist an einer von der ersten Seite der ersten Schichtenfolge (30) abgewandten zweiten Seite der zweiten Schichtenfolge (32) angeordnet. Die zweite Reflektorschicht (40) enthält das erste Material und ist zwischen der ersten Reflektorschicht (38) und der Haftvermittlungsschicht (42) angeordnet.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Transferieren von optoelektronischen Halbleiterbauelementen (1) von einem ersten Träger (10) auf einen zweiten Träger (11) umfassend die Schritte: Bereitstellen einer Vielzahl (2) von optoelektronischen Halbleiterbauelementen (1) auf dem ersten Träger (10); Bereitstellen des zweiten Trägers, wobei der zweite Träger (11) auf dessen Oberseite (11a) eine Kontaktstruktur (3) mit einer Vielzahl periodisch angeordneter Kontaktflächen (4) aufweist; Aufnehmen der Vielzahl (2) von optoelektronischen Halbleiterbauelementen (1) mittels einer Transfereinheit (12) umfassend ein Aufsetzen der Transfereinheit (12) auf eine dem ersten Träger (10) gegenüberliegende Oberseite der optoelektronischen Halbleiterbauelemente (1); Abheben der Vielzahl (2) von optoelektronischen Halbleiterbauelementen (1) von dem ersten Träger (10); und Absetzen einer ersten Teilmenge (2a) der Vielzahl (2) von optoelektronischen Halbleiterbauelementen (1) auf einer ersten Teilmenge der Vielzahl periodisch angeordneter Kontaktflächen (4).
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Transferieren mindestens eines optoelektronischen Halbleiterbauelementes von einem ersten Träger auf einen zweiten Träger umfassend die Schritte: Aufbringen einer strukturierbaren Materialschicht auf mindestens ein auf einem ersten Träger angeordnetes optoelektronisches Halbleiterbauelement; Strukturieren der zumindest einen strukturierbaren Materialschicht derart, dass dem optoelektronischen Halbleiterbauelement ein Teilbereich der strukturierten Materialschicht auf einer Oberseite des optoelektronischen Halbleiterbauelements zugeordnet ist; Aufnehmen des optoelektronischen Halbleiterbauelements mittels einer Transfereinheit umfassend ein Aufsetzen der Transfereinheit auf eine dem optoelektronischen Halbleiterbauelement gegenüberliegende Oberseite des Teilbereichs der strukturierten Materialschicht; Abheben des optoelektronischen Halbleiterbauelements von dem ersten Träger; Anordnen des optoelektronischen Halbleiterbauelements auf einem ersten Bereich eines zweiten Trägers, wobei zumindest ein zum ersten Bereich benachbarter zweiter Bereich die Oberseite des optoelektronischen Halbleiterbauelements überragt; und Fixieren des optoelektronischen Halbleiterbauelements auf dem zweiten Träger.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Montage eines strahlungsemittierenden Halbleiterchips (1) angegeben, mit den Schritten: - Bereitstellen zumindest eines strahlungsemittierenden Halbleiterchips (1) mit zumindest einer metallischen Anschlussschicht (2), - Bereitstellen eines Hilfsträgers (3), - Anbringen einer Opferschicht (4) zwischen dem strahlungsemittierenden Halbleiterchip (1) und dem Hilfsträger (3), die eine mechanisch stabile Verbindung zwischen dem strahlungsemittierenden Halbleiterchip (1) und dem Hilfsträger (3) vermittelt, - Erzeugen einer Vielzahl von Kontaktelementen (5) in der Opferschicht (4), die elektrisch leitend ausgebildet ist, - Entfernen der Opferschicht (4), derart, dass der strahlungsemittierende Halbleiterchip (1) durch die Kontaktelemente (5) an dem Hilfsträger (3) befestigt ist. Des Weiteren wird ein strahlungsemittierender Halbleiterchip (1) angegeben.
Abstract:
Ein Komposithalbleiterbauelement (10) weist ein Trägersubstrat (100) aus einem Halbleitermaterial sowie einen auf dem Trägersubstrat (100) angeordneten Halbleiterchip (200) auf. Das Trägersubstrat (100) weist ein von einer ersten Hauptoberfläche (110) des Trägersubstrats (100) hervorstehendes Element (130) auf, das ein elektrisch leitfähiges Material (135) umfasst. Das elektrisch leitfähige Material ist mit einem Kontaktbereich (120) elektrisch leitend verbunden. Der Halbleiterchip (200) weist an einer ersten Oberfläche (210) mindestens eine Kontaktfläche (225, 228) auf, welche mit dem elektrisch leitfähigen Material (135) des hervorstehenden Elements (130) elektrisch verbunden ist.Die Kontaktfläche (225, 228) hat an einer Position, an der die Kontaktfläche (225, 228) und das elektrisch leitfähige Material (135) des hervorstehenden Elements (130) jeweils miteinander in Kontakt stehen, eine größere laterale Ausdehnung als das hervorstehende Element (130).
Abstract:
Es wird ein optoelektronischer Halbleiterchip angegeben, aufweisend: -eine Mesa (72) mit -einer Halbleiterschichtenfolge (2) zur Erzeugung elektromagnetischer Strahlung umfassend eine p-leitende Schicht (21), eine aktive Zone (22) und eine n-leitende Schicht (23), -einer Grundfläche (72a) und -einer Strahlungsdurchtrittsfläche (24a), -eine Durchkontaktierung (71), die sich durch die p-leitende Schicht (21) und die aktive Zone (22) hindurch in die n- leitende Schicht (23) erstreckt, -einen Anschlussträger (6) mit einem Anschlusssubstrat (62), der an einer der Strahlungsdurchtrittsfläche (24a) abgewandten Seite der Mesa (72) angeordnet ist, und -eine ganzflächig ausgebildete Aluminiumschicht (33), die Aluminium enthält und zwischen der Mesa (72) und dem Anschlussträger (6) angeordnet ist, wobei -die Mesa (72) lateral von einem Graben (73) umschlossen ist, die frei von dem Material der Halbleiterschichtenfolge (2) ist, -die Durchkontaktierung (71) zumindest teilweise durch das Material der Aluminiumschicht (33) gebildet ist.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterchips (1) angegeben, umfassend die folgenden Schritte: - Bereitstellen einer Halbleiterschichtenfolge (10), - Anordnen einer metallischen Spiegelschicht (21) an einer Oberseite der Halbleiterschichtenfolge (10), - Anordnen einer Spiegelschutzschicht (3) zumindest an freiliegenden Seitenflächen (21c) der Spiegelschicht, - teilweise Entfernen der Halbleiterschichtenfolge (10), wobei - die Spiegelschicht (21) Öffnungen (23) zur Halbleiterschichtenfolge (10) hin aufweist, die in lateralen Richtungen (l) von der Spiegelschutzschicht (3) umrandet werden, - das teilweise Entfernen der Halbleiterschichtenfolge (10) im Bereich der Öffnungen (23) der Spiegelschicht (21) erfolgt, - das Anordnen der Spiegelschutzschicht (3) an den freiliegenden Seitenflächen (21c) der Spiegelschicht (21) selbstjustierend erfolgt.