金属电镀沉积方法
    47.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103517571B

    公开(公告)日:2016-06-08

    申请号:CN201210300937.1

    申请日:2012-08-22

    Abstract: 本发明公开了一种金属电镀沉积方法,首先提供具有导通孔的绝缘基板,于该绝缘基板的第一表面上形成第一导电层,且在该第一导电层上局部形成阻层以使未覆盖该阻层的第一导电层形成待镀区域,将绝缘基板置于第一类镀液中使得第一金属层沉积于待镀区域中,接着移除该阻层及该阻层下方的第一导电层,之后,于该绝缘基板相对该第一表面的第二表面上形成第二导电层,且于第二导电层上形成遮蔽层,将前述绝缘基板置于第二类镀液中,使第二金属层沉积于该待镀区域的第一金属层上,最后移除该遮蔽层及该第二导电层。本发明通过导通孔的设置,让绝缘基板于酸性或碱性镀液中皆可执行电镀金属,可避免现有绝缘基板切割问题并提升量产良品率。

    布线基板
    48.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105578711A

    公开(公告)日:2016-05-11

    申请号:CN201510711701.0

    申请日:2015-10-28

    Inventor: 松本启作

    Abstract: 本发明提供一种布线基板。本发明的布线基板具备:绝缘层;配设于绝缘层的主面的信号用的带状布线导体;和配设于绝缘层的该主面的接地或者电源用的平面导体,平面导体的厚度比带状布线导体的厚度大。在本发明的布线基板中,平面导体的厚度优选比带状布线导体的厚度大1~15μm。带状布线导体优选具有3~10μm的厚度,平面导体优选具有5~15μm的厚度。

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