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公开(公告)号：KR101476949B1
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：KR1020137024910
申请日：2012-03-13
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: B01D29/62 , A61M2205/7563 , B01D29/46 , B01D39/16 , B01D39/1692 , B01D39/2003 , B01D39/2027 , B01D39/2055 , B01D39/2068 , B01D61/025 , B01D61/04 , B01D61/243 , B01D63/084 , B01D65/02 , B01D69/10 , B01D2311/04 , B01D2311/06 , B01D2313/02 , B01D2313/14 , B01D2321/04 , Y10T29/49826 , B01D2311/2642 , B01D2311/2626 , B01D2311/12 , B01D2311/2692
Abstract: 여과처리시에안정된개구직경을얻을수 있고, 더구나눈막힘되었을때에용이하게재생하여반복사용할수 있는여과용필터를제공한다. 여과용필터(10)는, 표리에관통하는관통구멍을갖는기판(11)을적층한기판적층체와, 기판(11) 상호의간격을규정하는스토퍼(15), 및스토퍼(15)보다열팽창계수가큰 필러(16)를가지고, 필러(16)의길이를스토퍼(15)의길이보다길게하고, 기판(11) 상호간의상온시의간격을적어도스토퍼(15)로규정하고, 가열시의간격을열팽창된필러(16)로규정하고, 기판(11) 상호간의간극에서피처리액(A)에포함되는오염물질을포착하는여과면을형성한다.
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公开(公告)号：KR101356829B1
公开(公告)日：2014-01-28
申请号：KR1020120028594
申请日：2012-03-21
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02
CPC classification number: F04B37/08 , Y10S29/902 , Y10S55/05 , Y10S264/48 , Y10T29/49316 , Y10T156/1043
Abstract: 본 발명은 배기 효율의 저하를 방지할 수 있는 입자포착 유닛을 제공한다. 파티클 P가 부유하는 공간에 노출되는 파티클 트랩 유닛(40)을 구성하는 제 1 트랩 유닛(40a)은 복수의 제 1 스테인리스강(44a)으로 이루어지는 제 1 그물형상 층(44)과, 복수의 제 2 스테인리스강(45a)으로 이루어지는 제 2 그물형상 층(45)을 구비하고, 제 1 스테인리스강(44a)의 굵기는 제 2 스테인리스강(45a)의 굵기보다 작고, 제 1 그물형상 층(44)에 있어서의 제 1 스테인리스강(44a)의 배치 밀도는 제 2 그물형상 층(45)에 있어서의 제 2 스테인리스강(45a)의 배치 밀도보다도 높고, 제 2 그물형상 층(45)은 제 1 그물형상 층(44) 및 파티클 P가 부유하는 공간의 사이에 개재하고, 제 1 그물형상 층(44) 및 제 2 그물형상 층(45)은 소결에 의해 경화되어 서로 접합하고 있다.
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公开(公告)号：KR101342306B1
公开(公告)日：2013-12-16
申请号：KR1020117018647
申请日：2010-02-05
Applicant: 가부시키가이샤 시마쓰세사쿠쇼 , 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: F04D29/701 , F04D19/042
Abstract: 터보분자펌프는, 다단의회전블레이드 (32) 가형성되고고속회전하는로터 (30) 와, 회전블레이드 (32) 에대해펌프축방향으로교대로배치된복수의고정블레이드 (33) 와, 회전블레이드 (32) 및고정블레이드 (33) 를수용하고흡기구 (21a) 가형성된펌프하우징 (34) 과, 로터 (30) 의흡기구측에근접하여형성되고로터 (30) 의회전블레이드근원보다내경측면에대향하도록배치되는원반 (150) 과, 흡기구 (21a) 와로터 (30) 사이에배치되고세선을엮어형성된원통상의그물구조체 (153a, 153b) 를구비하고, 로터에의해비산된파티클을, 그물구조체 (153a, 153b) 의내부에포착한다.
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公开(公告)号：KR101310513B1
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：KR1020117023695
申请日：2010-03-10
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/02057
Abstract: 미세 패턴이 형성되어 있는 기판을, 그 미세 패턴에 악영향을 주는 일 없이 단시간에 세정하는 기판 세정 방법을 제공한다. 대표길이가 0.1㎛이하의 홈 또는 구멍을 갖는 미세 패턴이 형성된 웨이퍼를, 수분을 포함한 공간에 있어서, 소정 위치에 배치된 대향 전극을 사이에 두고, 예각 형상의 선단부를 갖는 냉각 가능한 방전 전극의 선단부에 대해 일정 간격으로 대면하도록, 웨이퍼를 배치하고, 방전 전극을 냉각하여 방전 전극에 결로를 발생시키고, 또한 방전 전극과 대향 전극의 사이에 일정 전압을 인가한다. 이 일정 전압의 인가시, 방전 전극의 선단부에서 직경이 10㎚이하의 물 미립자를 함유하는 에어로졸을 발생시키고, 에어로졸을 웨이퍼에 분무하는 것에 의해 웨이퍼를 세정한다.
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公开(公告)号：KR1020130101056A
公开(公告)日：2013-09-12
申请号：KR1020137009396
申请日：2011-10-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: C02F1/02 , B01J3/006 , B01J19/006 , B01J19/0066 , B01J19/121 , B01J19/1812 , B01J19/2415 , B01J2219/00153 , B01J2219/0877 , C02F1/30 , C02F1/441 , C02F11/086 , C02F2101/30 , C02F2301/066 , C02F2303/08
Abstract: 본 발명은, 피처리수에 포함되는 유기물을 분해함으로써, 후류의 여과 장치에서의 부하를 경감시킬 수 있고, 게다가 배관 등의 부식을 회피할 수 있는 수처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 이러한 수처리 장치(12)는, 유기물을 함유하는 피처리수(15a)를 소정의 압력으로 가압하는 대구경 유로(22), 소구경 유로(23) 및 가압 펌프(24)와, 가압된 피처리수(15a)에 레이저광(27)을 조사하여 소정 온도로 가열하는 레이저 광원(25) 및 집광 렌즈(26)를 가지며, 레이저 광원(25)으로부터 조사된 레이저광(27)을, 가압된 피처리수(15a)가 유통되는 소구경 유로(23)에 있어서 해당 유로 내의 유로벽으로부터 이격된 영역(29)에 집광 렌즈(26)에 의해 집광시켜, 이 영역(29) 내의 피처리수(15a)를 가열하며 초임계수 또는 아임계수를 생성시키고, 피처리수(15a) 중의 유기물을 분해한다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101196542B1
公开(公告)日：2012-11-01
申请号：KR1020090102320
申请日：2009-10-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: B08B7/0071 , B08B7/0064 , B08B7/02 , H01L21/67028 , H01L21/67115
Abstract: 패턴 쓰러짐을 발생시키는 일이 없는 기판 세정 방법을 제공한다. 웨이퍼(W)의 표면에 부착된 파티클(P)을 세정, 제거하는 기판 세정 방법에 있어서, 웨이퍼(W)를 가열해서 웨이퍼(W)의 표면에 부착되는 파티클(P)을 열응력에 의해서 웨이퍼(W)의 표면으로부터 박리시키는 가열 스텝과, 웨이퍼(W) 표면의 근방에 발생한 온도 구배에 의해 파티클(P)을 웨이퍼(W)의 표면으로부터 탈리시키는 탈리 스텝과, 웨이퍼(W)의 표면으로부터 탈리한 파티클(P)을 웨이퍼(W)에 대향 배치된 포집판(13)에 의해서 포집하는 파티클(P)의 포집 스텝을 갖는다.
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公开(公告)号：KR1020120107514A
公开(公告)日：2012-10-02
申请号：KR1020127021262
申请日：2011-01-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: C23C16/4404 , B29C59/14 , H01J37/32467 , H01J37/32477 , H01J37/32623 , H01J37/32642 , H01L21/3065 , H01L21/31116 , H01L21/31138 , H01L21/32136 , H01L21/67069 , H01L21/68757 , Y10S156/915
Abstract: 처리 용기 내에 기판을 반입해서 탑재대에 탑재하는 공정과, 적어도 표면부의 주성분이 기판의 피에칭막의 주성분과 동일한 재질인 링 부재를 기판을 둘러싸도록 배치한 상태에서, 기판에 대향하는 가스 공급부로부터 처리 가스를 샤워 형상으로 토출함과 아울러, 처리 가스를 플라즈마화해서 피에칭막을 에칭하는 공정과, 상기 처리 용기 내를 배기로를 거쳐서 진공 배기하는 공정을 포함하도록, 에칭을 실행한다. 이것에 의해, 기판의 둘레 가장자리 부근에서의 플라즈마의 활성종 분포의 불균일함을 억제한다.
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公开(公告)号：KR100980511B1
公开(公告)日：2010-09-06
申请号：KR1020080028472
申请日：2008-03-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , H01L21/3065
CPC classification number: F04D19/042 , F04D29/701 , F05D2260/607 , Y02T50/675
Abstract: 본 발명은 구성 부품으로의 퇴적물의 부착의 억제를 확실하게 행할 수 있는 터보 분자 펌프를 제공한다.
챔버(11)로부터 퇴적물 부착 요인 가스를 배출하는 터보 분자 펌프(18)는 배기류를 따르는 회전축(36)을 갖는 로터(37)와, 이 로터(37)를 수용하는 케이스(38)와, 이 로터(37)로부터 회전축(36)에 대하여 수직으로 돌출하는 복수의 회전날개(39)와, 케이스(38)로부터 회전축(36)에 대하여 수직으로 돌출하는 복수의 정지날개(40)를 구비하고, 복수의 회전날개(39)는 복수의 회전날개군(41)으로 분할됨과 아울러, 복수의 정지날개(40)는 복수의 정지날개군(42)으로 분할되고, 각 회전날개군(41) 및 각 정지날개군(42)은 회전축(36)을 따라 번갈아 배치되고, 배기류에 관하여 최하류측에 위치하는 회전날개군(41)보다도 상류측에서 개구하는 가스 공급구(43)는 아르곤 분자를 포함하는 퇴적물 부착 억제 가스를 공급한다.-
公开(公告)号：KR1020100054109A
公开(公告)日：2010-05-24
申请号：KR1020090109931
申请日：2009-11-13
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/66
CPC classification number: H01L21/67288 , G01N21/91 , G01N21/94 , G01N21/9501
Abstract: PURPOSE: A method and an apparatus for detecting foreign materials and a storage medium are provided to detect a fine material which is over detection limit of a conventional measuring device. CONSTITUTION: In spraying step, oils and fats-type substance or an organic solvent(55) containing a halogen element on the surface of a substrate(W). In condense step, foreign materials to which the oils and fats-type substance or the organic solvent are attached are outstood by controlling the temperature of the surface of the substrate. In an inspection step, the foreign materials to which the oils and fats-type substance or the organic solvent are attached are detected by a surface inspection system.
Abstract translation: 目的：提供用于检测异物和存储介质的方法和装置，以检测传统测量装置超过检测限的细材料。 构成：在喷雾步骤中，在基材表面（W）上含有卤素元素的油和脂肪型物质或有机溶剂（55）。 在冷凝步骤中，通过控制基材表面的温度来了解附着有油和脂肪型物质或有机溶剂的异物。 在检查步骤中，通过表面检查系统检测附着有油和脂肪型物质或有机溶剂的异物。
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公开(公告)号：KR1020090125157A
公开(公告)日：2009-12-03
申请号：KR1020097020555
申请日：2008-03-26
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065 , H01L21/302 , H01L21/205
CPC classification number: C23C16/4402
Abstract: A method of cleaning a powdery source supply system, by which any outflow of particles from an interior of vessel or an interior of introduction tube at film forming treatment can be prevented. Substrate treating system (10) includes powdery source supply system (12) and film forming treatment unit (11). The powdery source supply system (12) includes ampoule (14) for accommodating powdery source (13) (tungsten carbonyl); carrier gas supply unit (16) for supplying a carrier gas into the ampoule (14); powdery source introduction tube (17) for connection of the ampoule (14) and the film forming treatment unit (11); purge tube (19) branched from the powdery source introduction tube (17); and opening or closing valve (22) for opening or closing of the powdery source introduction tube (17). When the opening or closing valve (22) is opened and the interior of the purge tube (19) is evacuated prior to film forming treatment, the carrier gas supply unit (16) feeds a carrier gas so that the viscous force acting on particles by the carrier gas is greater than the viscous force acting on particles by the carrier gas at film forming treatment.
Abstract translation: 可以防止粉末源供应系统的清洗方法，通过该方法可以防止在成膜处理时从容器的内部或导入管的内部流出颗粒。 基板处理系统（10）包括粉末源供给系统（12）和成膜处理单元（11）。 粉末源供应系统（12）包括用于容纳粉末源（13）（羰基钨）的安瓿（14）; 用于将载气供应到安瓿（14）中的载气供应单元（16）; 用于连接安瓿（14）和成膜处理单元（11）的粉末源引入管（17）; 从粉末源引入管（17）分支的清洗管（19）; 以及用于打开或关闭粉末源引入管（17）的打开或关闭阀（22）。 当打开或关闭阀（22）打开并且在成膜处理之前将净化管（19）的内部抽真空时，载气供给单元（16）供给载气，使得作用在颗粒上的粘性力 载气在成膜处理时大于由载气作用在颗粒上的粘性力。
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