公开(公告)号：KR1019920007088A

公开(公告)日：1992-04-28

申请号：KR1019910015595

申请日：1991-09-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 코니시노부오 ,  다카모리히데유키 ,  아키모토마사미 ,  다테야마기요히사

IPC: H01L21/20

Abstract: 내용 없음

公开(公告)号：KR101125340B1

公开(公告)日：2012-03-28

申请号：KR1020110014021

申请日：2011-02-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키 ,  키무라요시오 ,  우에다이세이 ,  이토히카루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67184 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67745

Abstract: 본 발명은 도포 현상장치에 관한 것으로서 복수의 단위 블럭의 집합체로부터 되는 도포?현상 장치가 제공된다. 제 1의 단위 블럭 적층체와 제 2의 단위 블럭 적층체가 전후방향이 다른 위치에 배치된다. 노광 후의 현상 처리를 실시하는 현상 유니트를 포함한 복수의 처리 유니트 및 이들 유니트간의 기판의 반송을 실시하는 반송 수단을 구비한 현상용 단위 블럭이 최하단에 배치된다. 노광전의 도포 처리를 실시하는 도포 유니트를 포함한 복수의 처리 유니트 및 이들 유니트간의 기판의 반송을 실시하는 반송 수단을 구비한 도포용 단위 블럭은 현상용 단위 블럭 위에 배치된다. 도포용 단위 블럭은 제 1의 단위 블럭 적층체 및 제 2의 단위 블럭 적층체의 양쪽 모두에 배치된다. 반사 방지막과 레지스트막의 적층 위치 관계에 따라 도포?현상 장치내에 있어서 노광전의 웨이퍼나 경유하는 도포용 단위 블럭을 결정한다. 노광 후의 웨이퍼는 도포용 단위 블럭을 통과하는 일 없이 현상용 단위 블럭만을 통과하는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR101126865B1

公开(公告)日：2012-03-23

申请号：KR1020060005910

申请日：2006-01-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키 ,  키무라요시오 ,  우에다이세이 ,  이토히카루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/00 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/6719

Abstract: 본 발명은 도포 현상장치 및 그 방법에 관한 것으로서 처리 블럭 (S2)에 도포막 형성용의 단위 블럭인 TCT층 (B3) ; COT층 (B4); BCT층 (B5)와 현상 처리용의 단위 블럭인 DEV층 (B1; B2)를 서로 적층하여 설치한다. 반사 방지막을 형성하는 경우 하지 않는 경우의 어느 경우에 있어서도 TCT층 (B3); COT층 (B4) ; BCT층 (B5) 중 사용하는 단위 블럭을 선택함으로써 대응할 수 있고 이 때 반송 프로그램의 복잡화를 억제하여 소프트웨어의 간이화를 도모 할 수 있다.
레지스트막 형성용의 단위 블럭과 반사 방지막 형성용의 단위 블럭을 적층해 설치하는 것으로 레지스트막의 상하에 반사 방지막을 형성하는 것에 있어 공간절약화를 도모하는 것과 또 반사 방지막을 형성하는 경우 하지 않는 경우의 어느 것에도 대응하는 것이 가능하고 이 때 소프트웨어의 간이화를 도모하는 기술을 제공한다.

Abstract translation: 本发明涉及一种涂布显影装置及其方法，其包括作为用于在处理块（S2）上形成涂膜的单位块的TCT层（B3）; COT层B4; 作为用于显影处理的单位块的BCT层B5和DEV层B1（B2）彼此堆叠。 在TCT层B3中也包括形成防反射膜的情况和未形成防反射膜的情况; COT层B4; 通过选择在BCT层（B5）中使用的单位块响应，并且抑制传输程序的复杂性时，它能够实现软件的简化。

公开(公告)号：KR101108372B1

公开(公告)日：2012-01-30

申请号：KR1020060073074

申请日：2006-08-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 키타노타카히로 ,  아키모토마사미 ,  니시키도슈우이치 ,  쿠마가이다이

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 현상처리장치 및 현상처리방법에 관한 것으로서 처리 용기내에 처리 용기부의 사이에 기판 수수가 행해지는 기판 수수부와 기판의 현상이 행해지는 현상 처리부가 나열하여 설치되고 또한 기판 수수부와 현상 처리부의 사이를 기판의 외측면을 양측으로부터 파지한 상태로 기판을 반송하는 반송 기구가 설치되고 있다. 기판 수수부와 상기 현상 처리부의 사이로서 기판을 반송하는 반송로의 윗쪽에는 기판에 현상액을 공급하는 현상액 공급 노즐과 기판에 기체를 분사하는 기체분사 노즐이 설치되고 현상 처리부에는 기판에 세정액을 공급하는 세정액공급 노즐이 설치되고 있다. 본 발명에 의하면 기판의 외측면을 파지한 상태로 기판이 반송되므로 더러움이 퍼지는 경우가 없고 처리 용기내의 파티클의 발생을 억제할 수 있는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR101019445B1

公开(公告)日：2011-03-07

申请号：KR1020070037458

申请日：2007-04-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네코사토시 ,  마츠모토가즈히사 ,  이토노리히로 ,  아키모토마사미 ,  도시마다카유키 ,  난바히로미츠

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728 ,  Y10S134/902

Abstract: 액 처리 장치는 기판을 수평으로 유지하고, 기판과 함께 회전 가능한 기판 유지부와, 기판 유지부에 유지된 기판을 둘러싸며, 기판과 함께 회전 가능한 회전 컵과, 회전 컵 및 기판 유지부를 일체적으로 회전시키는 회전 기구와, 적어도 기판의 표면에 처리액을 공급하는 액 공급 기구와, 회전 컵으로부터 외부로 배기 및 배액하는 배기·배액부와, 표면이 기판 표면과 대략 연속하도록 기판의 외측에 설치되고, 기판 유지부 및 회전 컵과 함께 회전하며, 기판 표면에 공급되어 기판으로부터 털어진 처리액을 그 표면을 통해 회전 컵으로부터 배기·배액부에 안내하는 안내 부재를 구비한다.

公开(公告)号：KR101019444B1

公开(公告)日：2011-03-07

申请号：KR1020070037375

申请日：2007-04-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  도시마다카유키 ,  가네코사토시 ,  마츠모토가즈히사 ,  이토노리히로 ,  난바히로미츠

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728

Abstract: 본 발명의 액 처리 장치는, 기판을 수평으로 유지하고, 기판과 함께 회전 가능한 기판 유지부와, 기판 유지부에 유지된 기판을 둘러싸고, 기판과 함께 회전 가능한 회전 컵과, 회전 컵 및 기판 유지부를 일체적으로 회전시키는 회전 기구와, 기판에 처리액을 공급하는 액 공급 기구와, 회전 컵의 배기 및 배액을 행하는 배기·배액부를 포함한다. 배기·배액부는 주로 기판으로부터 털어진 처리액을 받아들여 배액하는 환형을 이루는 배액 컵과, 배액 컵의 외측을 둘러싸도록 설치되며, 회전 컵 및 그 주위로부터의 주로 기체 성분을 받아들여 배기하는 배기 컵을 포함하며, 배액 컵으로부터의 배액과 배기 컵으로부터의 배기를 독립적으로 실행한다.

Abstract translation: 本发明的液体处理装置中，水平地保持基板，并旋转基板支架成为可能，通过所述衬底保持器，可旋转的旋转杯保持的基板周围，并与所述基板与所述基板部保持旋转杯以及基板一起一起 用于将处理液供应到基板的液体供应机构以及用于执行旋转杯的排出和排出的排出和分配部。 排气＆middot;排水单元和排水杯主要形成环形排水从衬底接受处理液二进制断，它被设置成围绕排液杯的外侧，旋转杯以及从周围排气排气接受一个主要气体组分 杯子与排水杯和排气杯分开分配。

公开(公告)号：KR100762522B1

公开(公告)日：2007-10-01

申请号：KR1020060021016

申请日：2006-03-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키 ,  기무라요시오 ,  유에다잇세이 ,  이토히카루

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67742 ,  G03F7/162 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178

Abstract: 상하에 반사 방지막을 형성하는데 있어서, 반사 방지막을 형성하는 경우, 하지 않는 경우 중 어디에도 대응할 수 있고, 공간 절약화를 도모할 수 있는 도포, 현상 장치 및 방법을 제공한다.
본 발명의 도포, 현상 장치에 있어서, 처리 블록(S2)에, 3층의 도포막 형성용의 단위 블록(B3~B5)과, 2층의 현상 처리용의 단위 블록(B1, B2)을 서로 적층하여 마련한다. 상기 도포막 형성용의 단위 블록(B3~B5)의 각각에는, 레지스트막의 하방측 또는 상방측의 반사 방지막을 형성하는 제 1 또는 제 2 반사 방지막 유닛(31, 33)과, 도포 유닛(32)이 마련되어 있기 때문에, 레지스트막의 상하에 반사 방지막을 형성하는데 있어서, 공간 절약화를 도모할 수 있고, 또한 반사 방지막을 형성하는 경우, 하지 않는 경우 중 어디에도 대응할 수 있다.

公开(公告)号：KR100704749B1

公开(公告)日：2007-04-09

申请号：KR1020000041329

申请日：2000-07-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미

IPC: H01L21/30

CPC classification number: H01L21/67178 ,  H01L21/67109

Abstract: 본 발명은 기판처리장치 및 기판처리방법에 관한 것으로서, 어느 하나의 핫 플레이트유닛에 의해 가열처리된 웨이퍼는, 반송장치에 의해 어느 하나의 통상의 쿨링유닛에 반송되어, 어느 정도 냉각처리가 이루어진 후, 고정도 쿨링유닛에 반송되어 고정도로 냉각처리되고, 그 후, 어느 하나의 도포유닛 또는 현상유닛에 반송되어짐으로써, 설비비용을 증대시키지 않고도 쓰루우풋을 저하시키지 않고 기판을 고정도로 냉각처리한 후에 도포처리를 수행할 수 있는 기술이 제시된다.

Abstract translation: 本发明已经作出后的涉及一种基板处理装置和基板处理方法，任何由热板单元处理的晶片的加热，被转印到由所述转印装置的以往的冷却单元中的任何一个，在一定程度上的冷却过程 时，精度和加工和后运送到冷却单元的冷却程度，然后，任何涂布单元或通过携带doeeojim所述单元中的显影，与基板的不降低槽wooput而不增加设备冷却过程中的成本，以便 介绍了一种能够执行涂覆过程的技术。

公开(公告)号：KR100676545B1

公开(公告)日：2007-01-30

申请号：KR1020000051477

申请日：2000-09-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기타노다카히로 ,  아키모토마사미 ,  도시미쓰다카후미

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67253 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/3028

Abstract: 복수의 현상처리장치를 갖는 FAB에 있어서, FAB내에 설치된 기압계로 기압을 측정하고, 그 측정치는 호스트 컴퓨터를 통하여 각 현상처리장치에 보내진다.
각 현상처리장치에서는, 그 값을 토대로, 그 기압치가 미리 약액의 종류마다 설정되어 있는 소정의 허용치를 넘었을 경우에만, 레지스트액 도포 유니트의 기판 회전수를 조정한다. 이것에 의해, 장치를 번잡하게 하는 것 없이 설비투자를 최소한으로 억제하여, 기판의 도포막을 소정의 막 두께로 유지할 수 있다.

Abstract translation: 在具有多个显影处理装置的FAB中，利用安装在FAB中的气压计测量大气压力，并且经由主计算机将测量值发送到各个显影处理装置。

公开(公告)号：KR100630511B1

公开(公告)日：2006-09-29

申请号：KR1020000051475

申请日：2000-09-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야노미쓰테루 ,  셈바노리오 ,  가나가와고조 ,  우에다잇세이 ,  아키모토마사미 ,  오이가즈히코

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67248 ,  G03F7/16 ,  G03F7/30 ,  H01L21/67109 ,  Y10S134/902

Abstract: 외부로부터 받아들인 외기를 냉각기에서 소정의 온도로 냉각하고, 냉각기에서 냉각된 공기를 열교환기의 저온측 유로에 흐르게 하는 한편, 열교환기의 고온측 유로에 외기를 흐르게 하여, 냉각된 공기와 외기와의 사이에서 열교환이 행하여지도록 한다. 이 열교환기의 저온측 유로를 흐르고, 고온측 유로를 흐르는 외기에 의해 데워진 공기를 가온기 또는 가습기에 의해 가온·가습하여 소정의 온도 및 습도의 공기를 도포처리유니트로 공급한다. 또, 열교환기의 고온측 유로를 흐르고, 저온측 유로를 흐르는 공기에 의해 냉각된 외기를 가온기에 의해 가온하여 소정 온도의 공기를 현상처리유니트에 공급한다. 이에 의해, 도포처리유니트 및 현상처리유니트에 공급하는 공기의 온도라든가 습도를 조정하기 위한 장치의 소형화 및 소비 전력등의 가동 비용의 절감을 꾀할 수 있다.

Abstract translation: 冷却在规定的温度由冷却器从外部接收的空气，和用于通过在热交换器中，冷却空气和外部空气的高温侧流路流动的空气从冷却器冷却的空气流至热交换器的低温侧流路另一方面，和 进行热交换。 中流动的热交换器的低温侧流路，在高温侧及middot由流过流动路径的加热热交换器或加湿器室外空气通过所述加热的空气升温;加湿器在涂布单元提供预定的空气温度和湿度。 此外，它通过加热由流经低温侧流路中的空气和供给预定温度的空气到显影处理单元冷却的空气流在热交换器的高温侧流路，通过加热。 结果，可以降低用于调节供应给涂布处理单元和显影处理单元的空气的温度或湿度的装置的操作成本，例如尺寸减小和功耗。