公开(公告)号：KR100895035B1

公开(公告)日：2009-05-04

申请号：KR1020047021052

申请日：2003-06-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토노리히로 ,  가와구치히로아키 ,  초우노야스히로

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  Y10S134/902

Abstract: 기판 처리 장치에 설치되는 증기 발생기(40')는 PTFE와 PFA의 혼합물로 이루어지는 중공 원통형 부재(302)와, 이 원통형 부재(302)의 양단에 접속된 1쌍의 측벽판(303)을 갖는 탱크(301)를 갖추고 있다. 측벽판(303)은 알루미늄 합금으로 이루어지며, 그 내면에 PFA 피복이 실시되어 있다. 탱크(301)의 주위는 탱크 내압에 기인하는 탱크의 변형을 방지하기 위한 알루미늄 합금제의 셸(305)에 의해 덮여 있다. 셸(305)의 판형 부재(307)의 외면에는 히터(308)가 부착되어 있다. 셸(305)은 탱크(301)를 구속하여, 원통형 부재(302)와 측벽판(303) 사이의 탄성 시일(304)을 눌러 찌그러뜨려, 원통형 부재(302)와 측벽판(303)을 밀봉 결합시킨다.

公开(公告)号：KR1020090013024A

公开(公告)日：2009-02-04

申请号：KR1020080061035

申请日：2008-06-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토노리히로

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/68728 ,  H01L21/67051

Abstract: A substrate processing device is provided to suppress mist generation on the substrate by using a rotary cup, an exhaust and drain cup, and an exhaust mechanism. A substrate holding unit is rotated with a substrate. A rotating device rotates the substrate holding unit. A processing liquid supplying unit supplies the processing liquid to the substrate. A rotary cup is installed outside the substrate holding unit to surround the substrate held in the substrate holding unit. A wall unit is rotated with the substrate holding unit and receives the processing liquid separated from the rotating substrate. An exhaust and drain cup(201) is installed outside the rotary cup to surround the rotary cup and the substrate holding unit. An annular liquid receiving unit(56) receives the processing liquid separated from the rotating substrate and includes an inner annular space(99b) installed in the inner side than the annular liquid receiving unit. An exhaust device(200) is connected to the exhaust and drain cup.

Abstract translation: 提供了一种基板处理装置，用于通过使用旋转杯，排气和排水杯以及排气机构来抑制基板上的气雾产生。 基板保持单元与基板一起旋转。 旋转装置旋转基板保持单元。 处理液供给单元将处理液供给到基板。 旋转杯安装在基板保持单元的外部，以围绕保持在基板保持单元中的基板。 壁单元与基板保持单元一起旋转并接收从旋转基板分离的处理液。 排气和排水杯（201）安装在旋转杯的外部以包围旋转杯和基板保持单元。 环状液体接收单元（56）接收与旋转基板分离的处理液体，并且包括安装在比环形液体接收单元内侧的内部环形空间（99b）。 排气装置（200）连接到排气和排水杯。

公开(公告)号：KR100863782B1

公开(公告)日：2008-10-16

申请号：KR1020030013933

申请日：2003-03-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 쵸우노야스히로 ,  이토노리히로 ,  사타케케이고 ,  이이노타다시

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67253 ,  H01L21/67017 ,  Y10S134/902 ,  Y10S438/935 ,  Y10T137/0396 ,  Y10T137/7761 ,  Y10T137/87917

Abstract: 본 발명은 반도체 웨이퍼나 LCD용 유리기판 등의 기판을 밀봉된 처리기내에서 처리가스 예를 들면, 오존 및 용매증기 예를 들면 수증기 등의 처리 유체를 이용해서 처리하는 기판처리장치 및 기판처리방법에 관한 것이다.
본 발명에서는 공통의 용매증기(수증기) 공급원(41) 및 처리가스(오존가스) 공급원(42)로부터 복수의 처리용기(30A, 30B)에 오존가스 및 수증기가 공급되고, 처리용기내의 압력 제어는 각 처리용기에 접속된 배출관로(80A, 80B)에 각각 설치된 가변 트로틀밸브(50A, 50B)의 개방도를 조절하는 것에 의해 행해진다.

Abstract translation: 本发明是一种基板处理装置和一个在密封的基板处理程序使用处理流体，诸如，例如工艺气体，例如用于半导体晶片的玻璃基板和LCD，克臭氧和溶剂蒸气例如，水蒸汽处理的基板处理方法 它涉及。

公开(公告)号：KR1020080028921A

公开(公告)日：2008-04-02

申请号：KR1020087000737

申请日：2007-07-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토노리히로 ,  가네코사토시 ,  난바히로미츠

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/304 ,  H01L21/027 ,  G02F1/13

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70925 ,  H01L21/6715

Abstract: A liquid treatment device having a substrate holding section (2) for horizontally holding a wafer (W) and capable of rotating with the wafer (W), a rotation cup (4) having an annular shape so as to surround the wafer (W) held by the substrate holding section (2) and capable of rotating with the wafer (W), a rotation mechanism (3) for integrally rotating the rotation cup (4) and the substrate holding section (2), a nozzle (5) for supplying a treatment liquid for the wafer (W) and a cleaning liquid for the rotation cup (4), a liquid supply section (85) for supplying the treatment liquid and cleaning liquid to the nozzle (5), and a nozzle movement mechanism for moving the nozzle (5) between a first position at which the liquid is discharged to the wafer (W) and a second position at which the liquid is discharged to an external portion of the rotation cup (4). The wafer (W) is treated with the liquid with the nozzle (5) positioned at the wafer treatment position, and the cleaning liquid is discharged to the external portion of the rotation cup with the nozzle (5) positioned at the rotation cup cleaning position.

Abstract translation: 一种液体处理装置，具有用于水平地保持晶片（W）并且能够与晶片（W）一起旋转的基板保持部分（2），具有围绕晶片（W）的环形的旋转杯（4） 由所述基板保持部（2）保持并且能够与所述晶片（W）一起旋转的旋转机构（3），所述旋转机构（3）用于使所述旋转杯（4）和所述基板保持部（2）一体旋转;喷嘴（5），其用于 提供用于晶片（W）的处理液和用于旋转杯（4）的清洁液体，用于向喷嘴（5）供应处理液和清洁液体的液体供应部分（85），以及用于 将喷嘴（5）在液体排放到晶片（W）的第一位置和液体排出到旋转杯（4）的外部的第二位置之间移动。 用喷嘴（5）位于晶片处理位置的液体处理晶片（W），并且将清洁液体喷射到旋转杯的外部，喷嘴（5）位于旋转杯清洁位置 。

公开(公告)号：KR1020080010325A

公开(公告)日：2008-01-30

申请号：KR1020070074479

申请日：2007-07-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토가즈히사 ,  가네코사토시 ,  아키모토마사미 ,  도시마다카유키 ,  이토노리히로

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/08

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67173

Abstract: A liquid treatment system is provided to save a space through miniaturization and perform a uniform treatment by suppressing the unevenness of a pipe. A liquid treatment system includes a liquid treating part(21b), a treatment liquid storing part(21h), and a pipe unit(21f). The liquid treating unit includes a plurality of liquid treating units(22) for treating liquid by supplying the liquid to a substrate. The treatment liquid storing part stores the treatment liquid supplied to the plurality of liquid treating units of the liquid treating part. The pipe unit is provided with a supply pipe for introducing the treatment liquid to the plurality of liquid treating units from the treatment liquid storing part. The treatment liquid storing part, the pipe unit, and the liquid treating part are laminated in a common case sequentially from the bottom. The supply pipe of the pipe unit is provided with a horizontal pipe portion extending horizontally in the arrangement direction of the plurality of liquid treating units. The treatment liquid is introduced into the liquid treating units from the horizontal pipe portion.

Abstract translation: 提供液体处理系统以通过小型化来节省空间，并通过抑制管的不均匀性来进行均匀的处理。 液体处理系统包括液体处理部（21b），处理液储存部（21h）和管单元（21f）。 液体处理单元包括多个用于通过将液体供应到基底来处理液体的液体处理单元（22）。 处理液储存部存储供给到液体处理部的多个液体处理单元的处理液。 管单元设置有用于将处理液从处理液储存部引入到多个液体处理单元的供给管。 处理液储存部，管单元和液处理部从底部依次层叠成共同的壳体。 管单元的供给管设置有沿多个液体处理单元的排列方向水平延伸的水平管部。 处理液从水平管部引入液体处理单元。

公开(公告)号：KR101811066B1

公开(公告)日：2017-12-20

申请号：KR1020120066770

申请日：2012-06-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토노리히로 ,  아이우라가즈히로 ,  신도나오키 ,  하치야요스케 ,  나가이다카시

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/02041 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6719 ,  Y02E60/34 ,  Y10T137/0318 ,  Y10T137/598

Abstract: 본발명의액처리장치는, 상판(32)에는, 수평면상에서상기상판(32)을회전시키는상판회전기구가마련되어있다. 컵(40)의주위에설치된통형의컵 외주통(50)은, 그상단이컵(40)의상방에있는상승위치와, 상승위치보다하방에위치하는하강위치의사이에서승강하도록되어있다. 노즐(82a)을지지하는노즐지지아암(82)은, 컵외주통(50)이상승위치에있을때에상기컵 외주통(50)의측면의측면개구(50m)를통해컵 외주통(50) 내로진출한진출위치와컵 외주통(50)으로부터외방으로후퇴한후퇴위치의사이에서수평방향으로이동한다.

公开(公告)号：KR101770994B1

公开(公告)日：2017-09-05

申请号：KR1020120073413

申请日：2012-07-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  이토노리히로 ,  오가타노부히로 ,  나가미네슈이치

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  B05B15/04 ,  B05C11/08 ,  B08B3/04 ,  B08B3/08 ,  B08B15/02

CPC classification number: H01L21/67017 ,  B05B14/00 ,  B05C11/08 ,  B08B3/04 ,  B08B3/08 ,  B08B15/02 ,  G03F7/40 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/6715

Abstract: 회수컵과는별개로기액분리장치를설치할필요를없애, 기판액처리장치의소형화를도모하는것이다. 본발명에서는, 처리공간내에서기판을보지하고, 또한보지한기판을회전시키기위한기판회전기구와, 기판으로복수종류의처리액을선택적으로공급하는처리액공급기구와, 기판으로공급한후의처리액을회수하기위한회수컵과, 처리액을회수하기위하여회수컵에형성한복수의액 회수부와, 액회수부로부터회수한처리액을배출하기위하여회수컵의저부에형성한배액구와, 회수컵의배액구보다상방측에형성한배기구와, 배기구의상방을소정의간격을두고덮기위하여회수컵에형성한고정커버와, 기판으로공급한후의처리액을액 회수부로안내하기위하여고정커버의상방에설치한승강컵과, 처리액의종류에따라승강컵을승강시키기위한컵 승강기구를가지도록했다.

Abstract translation: 液体分离装置与回收杯分开，从而减小基底液体处理装置的尺寸。 之后该处理在本发明中，而不是在处理空间中的基板，并且提供给所述衬底的旋转机构，以及用于选择性地供给的多个种类的处理液体中的至基底机构的处理液供给，以及用于通过不旋转所述衬底的衬底 一个和杯回收液体中，多个以回收液体的液体回收部形成多个杯的的处理中，以排出从液体回收单元回收的处理液的次数被形成在回收杯排水球的底部，收集 形成杯排气口的排水guboda上侧并在多个杯以预定距离，以覆盖形成在排气口的上端部固定在盖和，固定罩的上方以便引导所述供应至衬底如部分液体回收之后的处理溶液 根据处理液的种类，使升降杯升降的升降机构。

公开(公告)号：KR101678268B1

公开(公告)日：2016-11-21

申请号：KR1020137029058

申请日：2012-10-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아이우라가즈히로 ,  이토노리히로

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  H01L21/687

CPC classification number: H01L21/02076 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67075 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/6719

Abstract: 본발명에따른액처리장치(10)는, 기판을수평으로유지하는기판유지부(21)와, 기판유지부(21)에유지된기판을상측으로부터덮어, 처리공간(30)을형성하는회전가능한천판(32)을구비하고있다. 처리공간(30) 내에있어서는, 약액노즐(82a)에의해기판에대하여약액이공급되고, 치환노즐(82c)에의해분위기치환가스가처리공간(30) 내에공급되도록되어있다. 또한, 치환노즐(82c)은, 처리공간(30) 내에진출한진출위치와처리공간(30)으로부터외측으로후퇴한후퇴위치사이에서수평방향으로이동하는치환노즐지지아암(82)에의해지지되며, 기판의상측에있어서분위기치환가스를상측을향하여토출하도록구성되어있다.

公开(公告)号：KR101668139B1

公开(公告)日：2016-10-20

申请号：KR1020120066786

申请日：2012-06-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토노리히로 ,  아이우라가즈히로 ,  신도나오키 ,  하치야요스케 ,  나가이다카시

IPC: H01L21/67 ,  G03F7/42

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/423

Abstract: 본발명의액처리장치에서는, 상판(32)은, 기판유지부(21)에유지된기판(W)을상방으로부터덮는진출위치와, 수평방향에있어서진출위치로부터후퇴한위치인후퇴위치의사이에서수평방향으로이동하도록되어있다. 청정화된가스를하측방향으로흐르게하기위한에어후드(70)는, 기판유지부(21)에유지된기판(W)을상방으로부터덮는하강위치와, 하강위치보다상방에위치하는상승위치의사이에서승강하도록되어있다.

公开(公告)号：KR101633129B1

公开(公告)日：2016-06-23

申请号：KR1020100096443

申请日：2010-10-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카히로시 ,  미나미데루오미 ,  가와부치요스케 ,  이토노리히로 ,  가미무라후미히로 ,  야부타다카시 ,  가즈키고사이 ,  다카시우노 ,  세키구치겐지 ,  후지이야스시

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/02057 ,  H01L21/67051

Abstract: 본발명은기판에대전된전하가방전하는것에의한정전파괴의발생을방지하는것을목적으로한다. 본발명에서는, 기판(2)에액처리를실시하기위한기판액처리장치(1), 기판액처리방법및 기판액처리프로그램을기록한컴퓨터판독가능한기록매체(48)에있어서, 기판(2)의회로형성면을기판처리약액으로액처리하는액처리공정을행하기전에, 기판(2)의회로형성면과는반대면을제전처리액으로처리하는것에의해기판(2)에대전된전하를방출시키는제전처리공정을행하도록하였다.