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    약액 혼합 방법 및 약액 혼합 장치
    13.
    发明公开
    약액 혼합 방법 및 약액 혼합 장치 有权
    液体化学混合方法和装置

    公开(公告)号：KR1020080012780A

    公开(公告)日：2008-02-12

    申请号：KR1020070077698

    申请日：2007-08-02

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 다나카히로시 ,  히로시로고우키치 ,  후미히로가미무라

    IPC: G03F7/34

    CPC classification number: B01F3/088 ,  B01F3/0861 ,  B01F3/0865 ,  B01F5/10 ,  B01F15/00253 ,  B01F15/00331 ,  B01F15/00396 ,  B01F15/0243 ,  B01F15/0412 ,  B01F15/0437 ,  B01F15/06 ,  B01F2015/062 ,  B01F2215/0036 ,  B01J19/24 ,  B01J2219/00103 ,  B01J2219/24 ,  C01B15/08 ,  C11D3/3947 ,  C11D11/0047 ,  H01L21/67057

    Abstract: A method for mixing a chemical liquid, and an apparatus for mixing a chemical liquid are provided to allow the Caro's acid effective for the stripping of resist from a substrate to be generated when sulfuric acid and oxygenated water (hydrogen peroxide) are mixed. A method for mixing a chemical liquid comprises the steps of preparing an inner bath(10), an outer bath(12), a return pipe(14), and a return pump(16); filling the inner bath with sulfuric acid fully and allowing the sulfuric acid overflown from the inner bath to flow into the outer bath; flowing oxygenated water to the outer bath; and operating the return pump when the oxygenated water is supplied and flowing the oxygenated water and sulfuric acid of the outer bath into the inner bath simultaneously, thereby mixing oxygenated water and sulfuric acid.

    Abstract translation: 提供了混合化学液体的方法和用于混合化学液体的装置，以允许当硫酸和氧化水（过氧化氢）混合时，Caro的酸有效地从基底剥离抗蚀剂。 一种混合化学液体的方法包括制备内浴（10），外浴（12），回流管（14）和回流泵（16）的步骤。 用硫酸充分填充内浴，并允许内浴溢出的硫酸流入外槽; 将含氧水流入外浴; 并且在供给氧合水并使外部浴的含氧水和硫酸同时流入内部浴池的同时操作回流泵，从而混合氧化水和硫酸。

    기판 건조장치 및 기판 건조방법
    14.
    发明授权
    기판 건조장치 및 기판 건조방법 失效
    基材干燥装置和基材干燥方法

    公开(公告)号：KR100357316B1

    公开(公告)日：2002-10-19

    申请号：KR1020010051301

    申请日：2001-08-24

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

    Inventor： 다나카히로시 ,  모쿠오쇼리 ,  요코미조겐지 ,  미나미데루오미

    IPC: H01L21/304

    Abstract: PURPOSE: A substrate drying apparatus is provided to unnecessarily exhaust treatment liquid during a standby time of a dry process such that the treatment liquid is vapor of the treatment liquid coagulated and stored in a container for receiving the water eliminated from an object to be treated. CONSTITUTION: A process bath(14) has the object to be treated. A treatment liquid containing region contains a volatile treatment liquid(16). A heating member evaporates the treatment liquid. A receiving container(10) receives water removed from the object with use of the evaporated treatment liquid, provided below the object containing region. An exhaust pipe(42) exhausts the water from the container to the outside of the process bath, attached to the container. A cooling device condenses the evaporated treatment liquid, provided above the object containing region of the process bath. The exhaust pipe has a valve and a branch pipe branched from the exhaust pipe such that the branch pipe is closer to the container than the valve is.

    반송장치
    17.
    发明授权
    반송장치 失效

    公开(公告)号：KR100165559B1

    公开(公告)日：1999-02-18

    申请号：KR1019920015418

    申请日：1992-08-26

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

    Inventor： 다나카히로시 ,  니시미쓰오 ,  미조구치류이치 ,  가미카와유우지

    IPC: H01L21/68

    Abstract: 반도체 웨이퍼를 반송하는 회전반송아암이 밀폐용기내에 배열설치된다. 용기에는 개폐가능한 개구부가 형성되고, 이것을 통하여 반송아암이 용기바깥으로 뻗어나오는 것이 가능하게 되어있다. 반송아암의 선단에는 포크가 배열설치된다. 포크에는 여러 개의 웨이퍼를 간격을 두고 배치하는 여러 개의 유지홈이 형성된다. 용기의 상부에는 포크용 크리너가 배열설치된다. 크리너는 변환아암의 선단에 부착된 세정노즐 및 건조노즐(s)을 구비한다. 변환아암은 작동위치와 후퇴위치 사이에서 선회가 가능하게 되어있다. 변환아암은 작동위치와 후퇴위치와의 사이에서 선회가능하도록 되어 있다. 변환아암 또는 포크를 따라서 세정노즐 및 건조노즐을 이동가능하게 되어 있다. 세정 및 건조시, 포크에 대하여 세정노즐로부터 순수한 물이 분출되며 건조노즐로부터 질소가 분출된다.

    기판 처리 장치, 여과재의 재생 방법 및 기억 매체
    18.
    发明授权
    기판 처리 장치, 여과재의 재생 방법 및 기억 매체 失效
    基板处理装置，过滤材料和记录介质的回收方法

    公开(公告)号：KR101315581B1

    公开(公告)日：2013-10-10

    申请号：KR1020100015653

    申请日：2010-02-22

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 햐쿠타케히로노부 ,  니시무라히데키 ,  다나카히로시

    IPC: H01L21/02

    CPC classification number: H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67769

    Abstract: 본 발명은, 건조 처리에 이용되는 가스 중의 파티클을 제거하는 여과재에 대하여, 이 여과재를 가스가 흐르는 유로 상에 배치한 상태로 이 여과재에 부착된 부착물을 제거하는 것이 가능한 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
    기판 처리 장치(1)는 건조 가스 발생부(23)에서 건조용 가스를 발생시키고, 이 건조용 가스를 여과재(31)를 통하여 흐르게 하여 파티클을 제거한 후, 처리부에서 액체가 부착된 기판(W)과 접촉시켜 기판(W)의 건조 처리를 행한다. 여과재 가열부는, 건조 처리시에는, 건조 가스의 온도를 노점(露点) 이상으로 유지하기 위해서 여과재(31)를 제1 온도로 가열하고, 여과재(31)의 재생 처리시에는, 여과재(31)에 부착된 부착물을 기화시켜 제거하기 위해서 여과재(31)를 제1 온도보다 높은 제2 온도로 가열한다.

    액 처리 장치 및 액 처리 방법
    20.
    发明授权
    액 처리 장치 및 액 처리 방법 有权
    液体处理装置和液体处理方法

    公开(公告)号：KR100780789B1

    公开(公告)日：2007-11-30

    申请号：KR1020067004349

    申请日：2005-03-30

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 츠루사키고타로 ,  다나카히로시 ,  도시마다카유키 ,  에시마가즈요시

    IPC: H01L21/304

    CPC classification number: H01L21/67086 ,  H01L21/6708

    Abstract: 처리조(1) 내의 반도체 웨이퍼(W)의 좌우 양측에 각각, 복수의 처리액 공급 노즐(10)을 다른 높이에 설치한다. 각 노즐(10)의 토출구는 반도체 웨이퍼(W)를 향하고 있다. 미리 정해진 순서에 따라서, 선택된 하나 또는 복수의 노즐(10)로부터 처리액이 토출된다. 약액 처리를 하는 경우, 예컨대, 맨 처음에 최하단의 노즐(10)로부터 약액의 토출이 이루어지고, 그 후, 약액을 토출하는 노즐(10)을 순차 상측으로 위치를 바꿔간다. 처리조(1) 내의 약액을 린스액으로 치환하면서 린스 처리를 하는 경우에는 예컨대, 맨 처음에 최하단의 노즐(10)로부터 린스액의 토출이 이루어지고, 그 후, 모든 노즐(10)로부터 린스액을 토출한다. 이에 따라, 액 처리의 효율 및 균일성이 향상된다.

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