公开(公告)号：KR1020130008458A

公开(公告)日：2013-01-22

申请号：KR1020120066770

申请日：2012-06-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토노리히로 ,  아이우라가즈히로 ,  신도나오키 ,  하치야요스케 ,  나가이다카시

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/02041 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6719 ,  Y02E60/34 ,  Y10T137/0318 ,  Y10T137/598

Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus and a liquid processing method are provided to supply processing liquid to the substrate while the substrate is rotated and to facilitate a cleaning process. CONSTITUTION: A substrate holding unit horizontally maintains a substrate. A process liquid supply nozzle(82a) supplies processing liquid to the substrate. An upper plate rotation unit rotates the upper plate. A cup circumference case(50) is installed at a cup(40). A nozzle support arm supports the process liquid supply nozzle.

Abstract translation: 目的：提供一种液体处理装置和液体处理方法，以在衬底旋转的同时向衬底提供处理液体并促进清洁过程。 构成：基板保持单元水平地保持基板。 处理液供给喷嘴（82a）向处理液供给处理液。 上板旋转单元使上板旋转。 一个杯形外壳（50）安装在一个杯子（40）上。 喷嘴支撑臂支撑工艺液体供应喷嘴。

公开(公告)号：KR1020120083841A

公开(公告)日：2012-07-26

申请号：KR1020110127651

申请日：2011-12-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  하치야요스케 ,  아이우라가즈히로 ,  이토노리히로 ,  신도나오키 ,  이토유키

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/68728 ,  B08B3/04 ,  B08B3/041 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/68742

Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus and liquid processing method are provided to remove pollution on a nozzle support arm by setting an arm cleaner. CONSTITUTION: A substrate maintaining unit(21) and cup(40) are installed in a processing chamber(20). The cup is arranged around the substrate maintain unit. A nozzle(82a) supplies liquid to the substrate installed on the substrate maintaining unit. A nozzle support arm(82) supports the nozzle. An arm cleaner(88) cleans the nozzle support arm.

Abstract translation: 目的：提供液体处理设备和液体处理方法，通过设置手臂清洁器来消除喷嘴支撑臂上的污染。 构成：衬底保持单元（21）和杯（40）安装在处理室（20）中。 杯子围绕衬底维护单元布置。 喷嘴（82a）向安装在基板保持单元上的基板供给液体。 喷嘴支撑臂（82）支撑喷嘴。 手臂清洁器（88）清洁喷嘴支撑臂。

公开(公告)号：KR101133394B1

公开(公告)日：2012-04-09

申请号：KR1020117002762

申请日：2006-06-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히로시로고우키치 ,  가미카와유지 ,  도시마다카유키 ,  신도나오키

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/02057 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67057

Abstract: 본 발명은 반도체 웨이퍼 등의 기판을 세정, 건조시키기 위한 기판 처리 장치는 저류된 순수에 기판을 침지시켜 처리하는 액 처리부와, 액 처리부의 위쪽에 마련되어 기판을 건조시키는 건조 처리부와, 액 처리부와 건조 처리부 사이에서 기판을 반송하는 기판 반송 장치와, 순수의 수증기 또는 미스트와 휘발성 유기 용제의 증기 또는 미스트로 이루어진 혼합 유체를 상기 건조 처리부에 공급하는 유체 공급 기구와, 혼합 유체의 공급을 제어하는 제어부를 포함한다.

公开(公告)号：KR101061926B1

公开(公告)日：2011-09-02

申请号：KR1020060111687

申请日：2006-11-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카히로시 ,  나카오히데토시 ,  신도나오키 ,  야먀시타아츠시 ,  쯔루사키코타로 ,  히라야마츠카사

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  Y10S118/90 ,  Y10S134/902

Abstract: 본 발명은 건조 증기를 이용하여 피처리체를 양호하게 건조시킬 수 있는 건조 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에 의한 건조 장치는 피처리체를 수용하는 처리조와, 상기 처리조에 접속되고, 상기 처리조 안에 캐리어 가스 및 건조 증기를 공급하는 공급 기구와, 상기 공급 기구에 의한 캐리어 가스의 공급 및 건조 증기의 공급을 제어하는 제어 장치를 구비한다. 상기 처리조에 수용된 피처리체를 처리할 때, 캐리어 가스와 건조 증기를 포함하는 혼합 유체는 상기 처리조 안에 간헐적으로 공급되게 되어 있다.

Abstract translation: 本发明的目的在于提供一种干燥装置，其能够使用干燥蒸汽良好地干燥被处理物。

公开(公告)号：KR1020110028534A

公开(公告)日：2011-03-18

申请号：KR1020117002762

申请日：2006-06-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히로시로고우키치 ,  가미카와유지 ,  도시마다카유키 ,  신도나오키

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/02057 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67057

Abstract: 본 발명은 반도체 웨이퍼 등의 기판을 세정, 건조시키기 위한 기판 처리 장치는 저류된 순수에 기판을 침지시켜 처리하는 액 처리부와, 액 처리부의 위쪽에 마련되어 기판을 건조시키는 건조 처리부와, 액 처리부와 건조 처리부 사이에서 기판을 반송하는 기판 반송 장치와, 순수의 수증기 또는 미스트와 휘발성 유기 용제의 증기 또는 미스트로 이루어진 혼합 유체를 상기 건조 처리부에 공급하는 유체 공급 기구와, 혼합 유체의 공급을 제어하는 제어부를 포함한다.

Abstract translation: 本发明是用于清洁和干燥基板的基板处理装置，例如一个半导体晶片，并通过浸渍在存储净的基板进行处理的液处理单元，干燥部，其得出的液体处理部的顶部干燥所述基材，所述液体处理和干燥 和处理部分之间的基板传送的基板传送装置，其中包括水蒸汽或雾和蒸气或纯流体供应的挥发性有机溶剂的雾的混合流体被供给到干燥部的装置和用于控制流体混合物的供给的控制部 它包括。

公开(公告)号：KR1020070058017A

公开(公告)日：2007-06-07

申请号：KR1020077010946

申请日：2005-03-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도시마다카유키 ,  신도나오키 ,  야노히로시 ,  츠루사키고타로

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67034 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67757 ,  Y10S134/902

Abstract: Substrate processing equipment (1) is provided with a treatment tank (3) for treating a substrate with a treatment liquid, a dry process part (6) arranged at an upper part of the treatment tank (3), and a transfer mechanism (8) for transferring the substrate (W) between the treatment tank (3) and the dry process part (6). A process gas supplying line (21) for supplying a process gas and inert gas supplying lines (24, 25) for supplying the dry process part (6) with an inert gas are connected to the dry process part (6). A first exhaust line (26) for exhausting an atmosphere pushed out from the dry process part (6) and a second exhaust line (27) for forcibly exhausting the dry process part (6) are connected to the dry process part (6).

Abstract translation: 基板处理设备（1）设置有用处理液处理基板的处理槽（3），设置在处理槽（3）的上部的干法处理部（6）和传送机构（8） ），用于将处理槽（3）和干法处理部（6）之间的基板（W）传送。 用于供给处理气体的工艺气体供给管线（21）和用于向干法处理部件（6）供给惰性气体的惰性气体供给管线（24,25）连接到干法部件（6）。 用于排出从干燥处理部分（6）推出的气氛的第一排气管线（26）和用于强制排出干燥处理部分（6）的第二排出管线（27）连接到干燥处理部分（6）。

公开(公告)号：KR1020070053112A

公开(公告)日：2007-05-23

申请号：KR1020060111687

申请日：2006-11-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카히로시 ,  나카오히데토시 ,  신도나오키 ,  야먀시타아츠시 ,  쯔루사키코타로 ,  히라야마츠카사

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  Y10S118/90 ,  Y10S134/902

Abstract: 본 발명은 건조 증기를 이용하여 피처리체를 양호하게 건조시킬 수 있는 건조 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에 의한 건조 장치는 피처리체를 수용하는 처리조와, 상기 처리조에 접속되고, 상기 처리조 안에 캐리어 가스 및 건조 증기를 공급하는 공급 기구와, 상기 공급 기구에 의한 캐리어 가스의 공급 및 건조 증기의 공급을 제어하는 제어 장치를 구비한다. 상기 처리조에 수용된 피처리체를 처리할 때, 캐리어 가스와 건조 증기를 포함하는 혼합 유체는 상기 처리조 안에 간헐적으로 공급되게 되어 있다.

公开(公告)号：KR100304147B1

公开(公告)日：2001-11-30

申请号：KR1019980017564

申请日：1998-05-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 니시미쓰오 ,  신도나오키 ,  야마구치가즈야

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은, 반송척의 세정 및 건조처리를 높은 효율로서 양호하게 행하는 반송척의 세정장치 및 세정방법을 제공한다.
본 발명은, 복수의 피처리기판을 세운 상태에서, 소정 간격으로 나란하게 파지하기 위한 한쌍의 아암부재를 가진 반송척을 세정ㆍ건조처리하기 위한 반송척의 세정장치에 있어서, 상기 한쌍의 아암부재 중에서 적어도 한쪽이 출입하도록 상부 개구를 가지는 처리탱크와, 이 처리탱크 내에서 세정액을 토출하도록 설치된 세정노즐과, 상기 처리탱크 내에서 건조용 가스를 분사하도록 설치된 가스노즐과, 상기 반송척이 상기 상부 개구를 통하여 상기 처리탱크 내로 출입하도록, 상기 반송척과 상기 처리탱크를 상대적으로 상하방향으로 이동시키는 승강수단과, 이 승강수단에 의해 상기 반송척이 상기 처리탱크에 대하여 상대적으로 상승되었을 때에 상기 세정노즐이 세정액을 상기 척부재로 향하여 분사함과 동시에 상기 가스노즐이 건조용 가스를 상� � 척부재로 향하여 분사하도록, 상기 승강수단, 세정노즐 및 가스노즐의 각 동작을 제어하는 수단을 구비한다.

公开(公告)号：KR1019990066685A

公开(公告)日：1999-08-16

申请号：KR1019980017564

申请日：1998-05-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 니시미쓰오 ,  신도나오키 ,  야마구치가즈야

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은, 반송척의 세정 및 건조처리를 높은 효율로서 양호하게 행하는 반송척의 세정장치 및 세정방법을 제공한다.
본 발명은 복수의 피처리기판을 세운 상태에서, 소정 간격으로 나란하게 파지하기 위한 한쌍의 아암부재를 가진 반송척을 세정·건조처리하기 위한 반송척의 세정장치에 있어서, 상기 한쌍의 아암부재 중에서 적어도 한쪽이 출입하도록 상부 개구를 가지는 처리탱크와, 이 처리탱크 내에서 세정액을 토출하도록 설치된 세정노즐과, 상기 처리탱크 내에서 건조용 가스를 분사하도록 설치된 가스노즐과, 상기 반송척이 상기 상부 개구를 통하여 상기 처리탱크 내로 출입하도록, 상기 처리탱크를 상하로 이동시키는 승강수단을 구비한다.

公开(公告)号：KR1019970052714A

公开(公告)日：1997-07-29

申请号：KR1019960062340

申请日：1996-12-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가미가와유우지 ,  우에노긴야 ,  신도나오키 ,  구마가이요시오

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명의 기판세척방법은,(a) 이동가능하게 설치된 보트를 갖는 처리조내에 세척액을 도입하여 처리조내를 세척액으로 채우고,(b) 복수의 기판을 쳐크 부재에 의해 실질적으로 동일한 피치간격으로 한꺼번에 집고,(c) 쳐크 부재와 함께 기판을 상기 처리조내에 세척액에 담그고, (d)처리조의 상부 영역에서 쳐크 부재로부터 보트로 기판을 이동 배치하고, (e)세척액중에서 보트와 함께 기판을 이동시켜 기판을 처리조의 하부 영역에 위치시키고, (f) 처리조의 상부영역으로부터 세척액을 배출하며, (g)처리조의 하부영역에 세척액을 공급하여 세척액을 처리조로부터 오버플로우시킨다.