公开(公告)号：KR101716817B1

公开(公告)日：2017-03-15

申请号：KR1020120023307

申请日：2012-03-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도미타히로시 ,  히사노카즈야 ,  니시야마타다시

IPC: G01N21/88 ,  G01B11/30 ,  G01N21/956 ,  G06T1/00

CPC classification number: G06T7/0008 ,  G06K9/4609 ,  G06T2207/30141

Abstract: 잘못검출되는의사결함의수를저감시킬수 있고, 또한결함의검출감도를떨어뜨리지않고, 본래검출되어야할 실제결함을검출할수 있는기판검사방법및 그기판검사용의필터화상의화상작성방법을제공한다. 기판의결함의유무를검사하기위하여, 의사결함을제거하기위한필터화상을작성하는화상작성방법에서, 등록된화상의중심위치를중심으로하는원의원주상에위치하는어느한 화소의화소치를원주상에위치하는화소로부터선택한복수의화소의화소치중 최대치로치환함으로써, 필터화상을작성하는필터화상작성공정(S14)을가진다.

Abstract translation: 一种创建用于去除伪缺陷以检查衬底上的缺陷的存在/不存在的滤波器图像的图像创建方法包括：滤波器图像创建步骤，通过替换位于上面的任何一个图像元素的像素值来创建滤波器图像 围绕登记图像的中心位置的圆周，其具有从位于圆周上的图像元素中选择的多个图像元素的像素值的最大值。

公开(公告)号：KR1020160070687A

公开(公告)日：2016-06-20

申请号：KR1020150172439

申请日：2015-12-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도미타히로시 ,  히사노가즈야

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/30 ,  G03F7/42 ,  G03F7/20 ,  G03F7/40

Abstract: 외주에절결이형성되는기판에있어서의직선영역의레지스트막의제거를행하는데 있어서, 레지스트막이제거되는영역의형상을고정밀도로제어하는것이다. 제1 영역에, 기판을국소적으로노광하기위한광 조사영역을배치하여, 당해제1 영역을노광하는공정과, 제1 기판을촬상하여화상데이터를취득하고이 화상데이터에기초하여, 당해기판이노광된위치와, 상기절결의위치와, 기판의중심위치의관계에관한위치데이터를취득하는공정과, 제2 기판에대하여상기위치데이터에기초하여, 상기제1 영역에대응하는영역으로부터그 위치가보정된제2 영역에상기조사영역을위치시키는공정과, 상기제2 기판에대하여상기조사영역을상대적으로이동시켜, 상기제2 영역을포함하는직선영역을노광하는공정과, 상기기판을현상하여상기직선영역의레지스트막을제거하는공정을포함하는것을특징으로한다.

Abstract translation: 本发明的目的是高精度地控制除去抗蚀剂膜的区域的形状，在具有形成在外周上的切口的基板上的直线区域中去除抗蚀剂膜。 抗蚀膜去除方法包括以下处理：通过在第一区域中布置用于局部暴露衬底的光辐射区域来将第一区域曝光; 通过拍摄第一基板获取图像数据，并且基于图像数据获得关于基板暴露于光的位置与切口的位置和基板的中心位置之间的关系的位置数据; 基于相对于第二基板的位置数据，将辐射区域放置在具有从对应于第一区域的区域校正的位置的第二区域中; 通过相对于第二基板相对移动辐射区域将包括第二区域的线性区域曝光; 以及通过显影衬底去除线性区域中的抗蚀剂膜。

公开(公告)号：KR101572746B1

公开(公告)日：2015-11-27

申请号：KR1020137031389

申请日：2012-05-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미츠오카가즈유키 ,  유겐 ,  오노히로키 ,  오리이다케히코 ,  이와시타미츠아키 ,  도시마다카유키 ,  하야시히데카즈 ,  사토요헤이 ,  오쿠치히사시 ,  도미타히로시

IPC: H01L21/302

Abstract: [과제] 기판의패턴내에들어간건조방지용의액체를비교적짧은시간에제거할수 있는기판처리방법등을제공한다. [해결수단] 표면에요철패턴이형성되고, 그오목부내에들어가도록상기패턴을덮는건조방지용의액체가부착된기판(W)을처리용기(31)내에반입하며, 이어서, 기판(W)을가열하고, 가압용의기체또는고압상태의유체를처리용기(31)내에공급하여, 패턴붕괴를야기하는정도까지건조방지용의액체가기화하기전에이 처리용기(31)내에고압분위기를형성하며, 상기패턴의오목부내에들어간상태그대로건조방지용의액체를고압상태로한 후, 처리용기(31)내의유체를고압상태또는기체상태로배출한다.

公开(公告)号：KR1020140030218A

公开(公告)日：2014-03-11

申请号：KR1020137031389

申请日：2012-05-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미츠오카가즈유키 ,  유겐 ,  오노히로키 ,  오리이다케히코 ,  이와시타미츠아키 ,  도시마다카유키 ,  하야시히데카즈 ,  사토요헤이 ,  오쿠치히사시 ,  도미타히로시

IPC: H01L21/302

Abstract: [과제] 기판의 패턴내에 들어간 건조 방지용의 액체를 비교적 짧은 시간에 제거할 수 있는 기판 처리 방법 등을 제공한다. [해결수단] 표면에 요철 패턴이 형성되고, 그 오목부내에 들어가도록 상기 패턴을 덮는 건조 방지용의 액체가 부착된 기판(W)을 처리 용기(31)내에 반입하며, 이어서, 기판(W)을 가열하고, 가압용의 기체 또는 고압 상태의 유체를 처리 용기(31)내에 공급하여, 패턴 붕괴를 야기하는 정도까지 건조 방지용의 액체가 기화하기 전에 이 처리 용기(31)내에 고압 분위기를 형성하며, 상기 패턴의 오목부내에 들어간 상태 그대로 건조 방지용의 액체를 고압 상태로 한 후, 처리 용기(31)내의 유체를 고압 상태 또는 기체 상태로 배출한다.

公开(公告)号：KR1020140024386A

公开(公告)日：2014-02-28

申请号：KR1020137030325

申请日：2012-05-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다하라시게루 ,  니시무라에이이치 ,  도미타히로시 ,  오이와도쿠히사 ,  오쿠치히사시 ,  오무라미츠히로

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/302

CPC classification number: B05D3/145 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/02063 ,  H01L21/31116

Abstract: 기판 상에 에칭에 의해 형성된 패턴의 표면에 퇴적한 퇴적물을 제거하는 퇴적물 제거 방법으로서, 상기 기판을 가열하면서 산소 플라즈마에 노출시키는 산소 플라즈마 처리 공정과, 상기 산소 플라즈마 처리 공정 후, 상기 기판을, 처리 용기내에서 불화 수소 가스와 알코올 가스의 혼합 가스의 분위기에 노출시키고, 또한, 상기 알코올 가스의 분압을 제 1 분압으로 하는 제 1 기간과, 처리 용기내를 배기하여 상기 알코올 가스의 분압을 제 1 분압보다 낮은 제 2 분압으로 하는 제 2 기간을, 복수 사이클 반복하는 사이클 처리 공정을 구비한다.

公开(公告)号：KR1020130056177A

公开(公告)日：2013-05-29

申请号：KR1020120128711

申请日：2012-11-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토슈헤이 ,  이와나가슈지 ,  도미타히로시 ,  나카미조겐지 ,  모리타사토시

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/683 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67023 ,  G05D3/00 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/302 ,  H01L21/6835

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus, a substrate processing method, and a computer readable storage medium with a substrate processing program are provided to accurately determine the state of a substrate regardless of the materials and the surface state of the substrate. CONSTITUTION: A substrate maintaining unit(22) maintains a substrate(2). A substrate maintaining device(30) horizontally maintains the substrate loaded on a table(29). A rotating device(31) rotates the substrate which is horizontally maintained on the table. A photographing unit(25) is composed of a light(55) and a camera(54) attached to a casing(53) of a substrate processing chamber(14). A control unit(26) determines the state of the substrate maintained by the substrate maintaining unit based on an image photographed by the camera.

Abstract translation: 目的：提供具有基板处理程序的基板处理装置，基板处理方法和计算机可读取存储介质，以准确地确定基板的状态，而与基板的材料和表面状态无关。 构成：衬底保持单元（22）保持衬底（2）。 基板保持装置（30）水平地维持载置在工作台（29）上的基板。 旋转装置（31）使水平地保持在桌子上的基板旋转。 拍摄单元（25）由安装在基板处理室（14）的壳体（53）上的光（55）和照相机（54）构成。 控制单元（26）基于由照相机拍摄的图像确定由基板保持单元维持的基板的状态。

公开(公告)号：KR101087932B1

公开(公告)日：2011-11-28

申请号：KR1020117015615

申请日：2006-02-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 지요유사카메그미 ,  도미타히로시 ,  다도코로마사히데

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/38 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67109 ,  G03F7/38 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67748

Abstract: 레지스트 패턴의 선폭이 웨이퍼면 내에서 균일하게 형성되도록, 열판의 온도 설정을 한다. PEB 장치의 열판은 복수의 열판 영역에 분할되어 있고, 각 열판 영역마다 온도 설정할 수 있다. 열판의 각 열판 영역에는, 열판에 적재되는 웨이퍼면 내의 온도를 조정하기 위한 온도 보정치가 각각 설정된다. 이 열판의 각 열판 영역의 온도 보정치는 열판에 있어서 열처리되어 형성되는 레지스트 패턴의 선폭과 온도 보정치의 상관으로부터 작성된 산출 모델에 의해 산출되어 설정된다. 산출 모델(M)은 레지스트 패턴의 선폭 측정치에 기초하여, 웨이퍼면 내의 선폭이 균일하게 되는 것과 같은 온도 보정치를 산출한다.

公开(公告)号：KR1020110094119A

公开(公告)日：2011-08-19

申请号：KR1020117015615

申请日：2006-02-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 지요유사카메그미 ,  도미타히로시 ,  다도코로마사히데

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/38 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67109 ,  G03F7/38 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/0274

Abstract: 레지스트 패턴의 선폭이 웨이퍼면 내에서 균일하게 형성되도록, 열판의 온도 설정을 한다. PEB 장치의 열판은 복수의 열판 영역에 분할되어 있고, 각 열판 영역마다 온도 설정할 수 있다. 열판의 각 열판 영역에는, 열판에 적재되는 웨이퍼면 내의 온도를 조정하기 위한 온도 보정치가 각각 설정된다. 이 열판의 각 열판 영역의 온도 보정치는 열판에 있어서 열처리되어 형성되는 레지스트 패턴의 선폭과 온도 보정치의 상관으로부터 작성된 산출 모델에 의해 산출되어 설정된다. 산출 모델(M)은 레지스트 패턴의 선폭 측정치에 기초하여, 웨이퍼면 내의 선폭이 균일하게 되는 것과 같은 온도 보정치를 산출한다.

公开(公告)号：KR100780133B1

公开(公告)日：2007-11-27

申请号：KR1020010041509

申请日：2001-07-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사토노리카쯔 ,  오가타구니에 ,  기무라요시오 ,  도미타히로시 ,  나카시마세이지 ,  가미야히데히코

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67161 ,  G01N21/9501 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67778 ,  H01L21/67781 ,  Y10S414/136 ,  Y10S414/137 ,  Y10S414/141

Abstract: 카세트 스테이션, 도포 유닛과 현상 유닛을 구비하는 처리 스테이션, 막두께 검사장치와 결함 검사장치를 구비하는 검사 스테이션(S2)을 카세트 스테이션의 카세트의 배열방향과 거의 직교하는 방향으로 배치하고, 검사 스테이션이 카세트 스테이션과 처리 스테이션과의 사이에 설치되도록 배치한다. 이러한 구성에서는, 검사 스테이션을 처리 스테이션에 접속하고, 이들 스테이션 사이에서 웨이퍼의 반송은 자동으로 이루어지고 있기 때문에 기판의 처리에서부터 검사에 걸친 작업의 간편화와 시간의 단축을 도모할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020020006469A

公开(公告)日：2002-01-19

申请号：KR1020010041509

申请日：2001-07-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사토노리카쯔 ,  오가타구니에 ,  기무라요시오 ,  도미타히로시 ,  나카시마세이지 ,  가미야히데히코

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67161 ,  G01N21/9501 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67778 ,  H01L21/67781 ,  Y10S414/136 ,  Y10S414/137 ,  Y10S414/141

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to make simple and easy works from the substrate processing to the inspection and to shorten the time by connecting an inspecting station to a processing station. CONSTITUTION: A cassette station(S1), a process station(S3) having an applying station and a developing unit(41), and an inspecting station having a film thickness inspector(31A) and a defect inspector(32A) are arranged approximately right angles to a cassette(22) array in the cassette station(S1), with the inspecting station(S2) being disposed between the cassette and the process stations(S1,S3). In such a constitution the inspecting station is connected to the process station and wafers(W) are transferred automatically between these stations(S2,S3) and this enables facilitating simple and easy works from the substrate processing to the inspection and shorten the time.

Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，用于从基板处理到检查进行简单且容易的工作，并且通过将检查站连接到处理站来缩短时间。 构成：具有施加站和显影单元（41）的盒式站（S1），处理站（S3）以及具有膜厚度检查器（31A）和缺陷检查器（32A）的检查站大致正确地布置 与盒式车站（S1）中的盒（22）阵列的角度，检查站（S2）设置在盒和处理站（S1，S3）之间。 在这种结构中，检查站连接到处理站，晶片（W）在这些站之间自动转移（S2，S3），这使得能够简化和简单地从基板处理到检查的工作，缩短时间。