公开(公告)号：CN105518821A

公开(公告)日：2016-04-20

申请号：CN201480048806.6

申请日：2014-03-10

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 大南佑介 ,  西村雅子 ,  河西晋佐 ,  铃木宏征

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/16 ,  H01J37/18 ,  H01J37/20

CPC classification number: H01J37/16 ,  H01J37/18 ,  H01J37/20 ,  H01J37/263 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/164 ,  H01J2237/202 ,  H01J2237/28

Abstract: 在带电粒子光学系统与试样之间设置了带电粒子束可透射的隔膜的带电粒子束装置中，在试样存在凹凸的情况下，也防止试样与隔膜的接触。根据从检测器(3)输出的检测信号或根据该检测信号生成的图像，监视试样(6)与隔膜(10)的距离，上述检测器(3)检测通过照射初级带电粒子束从试样(6)放出的次级带电粒子。

公开(公告)号：CN105470083A

公开(公告)日：2016-04-06

申请号：CN201510807638.0

申请日：2015-09-30

Applicant: FEI公司

Inventor： K·卡加赖斯 ,  C·奥蒂斯 ,  N·W·帕克

IPC: H01J37/30 ,  H01J37/305

CPC classification number: H01J37/045 ,  H01J37/05 ,  H01J2237/004 ,  H01J2237/028 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/15 ,  H01J2237/28 ,  H01J2237/31745 ,  H01J2237/31749 ,  H01J2237/32 ,  H01J37/3002 ,  H01J37/3007 ,  H01J37/3056

Abstract: 本发明涉及用于带电粒子束系统的弯道切断器组件及使用其的方法。用于带电粒子束系统的弯道切断器组件包括入口和出口、至少一个中性粒子阻挡结构、多个弯道偏转器、束切断偏转器、以及束阻挡结构。入口被配置成接受沿着轴线传播的带电粒子的束。至少一个中性粒子阻挡结构与轴线相交。多个弯道偏转器包括顺序地串联设置在入口和出口之间并且被配置成沿着绕过中性粒子阻挡结构并通过出口离开弯道切断器组件的路径而偏转束的第一弯道偏转器、第二弯道偏转器、第三弯道偏转器以及第四弯道偏转器。在实施例中，弯道切断器组件包括两个中性粒子阻挡结构。在实施例中，束阻挡结构设置在第三弯道偏转器和第四弯道偏转器之间。

公开(公告)号：CN105280464A

公开(公告)日：2016-01-27

申请号：CN201510581543.1

申请日：2015-06-08

Applicant: 卡尔蔡司显微镜有限责任公司

Inventor： I·米勒 ,  N·本格塞 ,  C·里德塞尔 ,  T·凯门 ,  J·雅各比 ,  A·托马 ,  M·多林 ,  D·蔡德勒 ,  J·基纳斯特 ,  G·本纳

IPC: H01J37/256 ,  H01J37/08 ,  H01J37/28 ,  H05H7/10 ,  H01J49/02

CPC classification number: H01J37/21 ,  H01J37/10 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/0492 ,  H01J2237/28 ,  H01J2237/31764 ,  H01J2237/31774

Abstract: 一种操作多波束粒子光学单元的方法，包括：(1)提供粒子光学部件的效应的第一设定，其中粒子光学成像可通过至少两个参数来表征；(2)确定矩阵A；使得以下适用：，其中且，其中，表示在所述第一设定的情况下的部件的效应的改变，表示在所述第一设定的情况下的参数的改变；(3)确定矩阵S，使得以下适用：S·A＝DA，其中DA是对角矩阵；(4)限定表征期望的成像的参数的值；(5)提供所述部件的效应的第二设定，使得所述粒子光学成像由具有限定值的参数表征，其中所述第二设定所需的效应根据以下来确定：，其中且，其中，表示在所述第二设定的情况下部件的效应，并且表示所述参数的限定值。

公开(公告)号：CN103365101B

公开(公告)日：2015-04-08

申请号：CN201210096470.3

申请日：2012-04-01

Applicant: 中国科学院物理研究所

Inventor： 于国强 ,  郭鹏 ,  韩秀峰 ,  郭朝晖 ,  孙晓玉 ,  周向前

IPC: G03F7/20 ,  G01R31/00

CPC classification number: H01J37/09 ,  G01R33/093 ,  G01R33/096 ,  H01F7/202 ,  H01F7/204 ,  H01F41/00 ,  H01J37/141 ,  H01J2237/0262 ,  H01J2237/0264 ,  H01J2237/28 ,  H01J2237/31754 ,  H01L43/12

Abstract: 一种纳米图形化系统及其磁场施加装置，该纳米图形化系统包括真空腔、样品台和磁场施加装置，该磁场施加装置包括电源、磁场产生装置和一对磁极，所述磁场产生装置包括线圈和导磁软铁芯，所述电源与所述线圈连接，所述线圈缠绕在所述导磁软铁芯上以产生磁场，所述导磁软铁芯为半闭合框形结构，所述磁极分别安装在所述半闭合框形结构的两末端，所述纳米图形化系统的真空腔内设置有样品台，所述磁极相对于所述样品台设置在所述真空腔内，所述线圈和所述导磁软铁芯设置在所述真空腔外，所述导磁软铁芯将所述线圈产生的磁场引导进入所述真空腔内，所述磁极用以对所述样品台上的样品进行定位以及局域磁场的施加。

公开(公告)号：CN104008943A

公开(公告)日：2014-08-27

申请号：CN201410066714.2

申请日：2014-02-26

Applicant: FEI公司

Inventor： M.马佐斯

IPC: H01J37/21 ,  H01J37/147 ,  H01J37/28 ,  H01J37/10

CPC classification number: H01J37/07 ,  H01J3/026 ,  H01J37/04 ,  H01J37/06 ,  H01J37/10 ,  H01J37/1477 ,  H01J37/21 ,  H01J37/248 ,  H01J37/3056 ,  H01J37/3178 ,  H01J2237/0473 ,  H01J2237/04735 ,  H01J2237/04756 ,  H01J2237/1518 ,  H01J2237/1534 ,  H01J2237/28 ,  H01J2237/31749

Abstract: 本发明提供了一种带电粒子束系统，其中，聚焦离子束柱的中间段被偏置到高负电压，该电压允许该束在比该柱的那个区段内的最终束能量更高的电势下移动。在低kV电势下，减少了色差和库仑相互作用，这使斑点尺寸产生显著改进。

公开(公告)号：CN103930829A

公开(公告)日：2014-07-16

申请号：CN201280055389.9

申请日：2012-09-12

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： J.J.M.佩杰斯特 ,  D.G.F.维比克

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70891 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/709 ,  H01J37/02 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/002 ,  H01J2237/0216 ,  H01J2237/28

Abstract: 本发明涉及基板处理装置(10)，其包括支撑框架(60)，用于将辐射投射至待处理基板上的辐射投射系统(20)，用于支撑基板的基板支撑结构(30)，和流体输送系统(150)。该辐射投射系统包括冷却装置(130)，且由支撑框架支撑并与其振动解耦，使得支撑框架的在预定最大频率之上的振动基本从辐射投射系统分离。该流体输送系统包括固定在两点(151，152)处的至少一个管(140)，并包括挠性部分。挠性部分的主要部分在与基板支撑结构表面基本平行的平面上延伸。挠性部分的刚性适于将第二固定点处的高于预定最大频率的振动从第一固定点基本解耦。

公开(公告)号：CN103890559A

公开(公告)日：2014-06-25

申请号：CN201280052945.7

申请日：2012-10-25

Applicant: FEI公司

Inventor： M.巴雷特 ,  M.D.史密斯 ,  M.格里克 ,  P.斯卡内蒂 ,  R.托维

IPC: G01N1/36 ,  G01N23/225

CPC classification number: H01J37/20 ,  G01N2223/307 ,  G01N2223/418 ,  G01N2223/616 ,  H01J37/16 ,  H01J2237/2007 ,  H01J2237/201 ,  H01J2237/28 ,  H01J2237/2826

Abstract: 一种样品支座总成包括样品托盘、基板、样品台底座、以及安装到样品台底座上的校准用基准。基板的底部上的三个配合结构与附接到SEM的样品台上的样品台底座上的相应结构紧密配合。任选的接触导体在样品台底座与基板之间提供电接触从而使得电子束在样品上生成的电荷可以离开样品通过样品导电层到达样品托盘、基板、样品台底座、以及通过接地样品台。

公开(公告)号：CN103681190A

公开(公告)日：2014-03-26

申请号：CN201310404108.2

申请日：2013-09-06

Applicant: FEI公司

Inventor： M.斯特劳 ,  M.埃默森

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/244 ,  H01J37/22 ,  H01J37/305

CPC classification number: H01J37/3045 ,  G21K5/00 ,  G21K5/08 ,  H01J37/226 ,  H01J37/228 ,  H01J37/3056 ,  H01J2237/1501 ,  H01J2237/28

Abstract: 一种用于将激光束对准成与带电粒子束重合的方法和装置。所述发明提供了一种用于对准激光束穿过物镜的中心并最终瞄准多束系统的共心点的方法。该装置利用了定位于带电粒子系统的真空室内或外的激光束对准系统的部件。

公开(公告)号：CN103367086A

公开(公告)日：2013-10-23

申请号：CN201310219270.7

申请日：2013-04-01

Applicant: 卡尔蔡司显微镜有限责任公司

Inventor： M·克纳皮奇

IPC: H01J37/26 ,  H01J37/20 ,  H01J37/28 ,  H02P8/40

CPC classification number: G21K5/10 ,  H01J37/20 ,  H01J2237/20214 ,  H01J2237/20221 ,  H01J2237/20285 ,  H01J2237/28 ,  H02P8/40

Abstract: 本发明涉及一种用于调整安置在粒子射线设备内的支架元件的位置的方法，其中，所述支架元件设计用于支承物体，所述粒子射线设备具有至少一个用于粒子射线的射线发生器和至少一个用于聚焦粒子射线的物镜，并且其中支架元件设计借助至少一个第一步进电动机可运动。所述方法具有如下步骤：通过以作为交流电的第一电动机电流控制操纵所述第一步进电动机，使所述支架元件开始运动；将所述第一电动机电流调节至第一频率和第一振幅；通过减小所述第一电动机电流的第一频率和第一振幅，对所述支架元件的运动进行制动，其中，将第一频率在第一可预设时间区间内减小至零，并且其中，将第一振幅在第一可预设时间区间内减小至可预设的第一保持电流的振幅。

公开(公告)号：CN101981650B

公开(公告)日：2013-05-01

申请号：CN200980110865.0

申请日：2009-03-23

Applicant: 株式会社堀场制作所

Inventor： 小野口彰 ,  大堀谦一 ,  松本浩一 ,  粟田正吾 ,  大桥聪史

IPC: H01J37/12

CPC classification number: H01J37/12 ,  H01J2237/121 ,  H01J2237/28

Abstract: 本发明提供一种透镜性能相对不逊色于磁场型透镜的带电粒子束用静电透镜。利用设置在带电粒子的入射侧的多个电极(V1、V4)形成有第一电场区域(AR1)和第二电场区域(AR2)，所述第一电场区域(AR1)使带电粒子的轨道半径缩小，以便不会在中途超出作为入射时轨道半径的初始轨道半径，所述第二电场区域(AR2)向通过了该第一电场区域(AR1)的带电粒子提供朝向与所述中心轴平行方向前进的力，并且利用设置在出射侧的多个电极(V2、V3)形成有第三电场区域(AR3)，该第三电场区域(AR3)使带电粒子的轨道半径不会在中途超出所述初始轨道半径，且使带电粒子的轨道弯曲，并以比所述带电粒子从所述第二电场区域(AR2)出射时的相对于中心轴(m)的轨道角度大的角度，使所述带电粒子的轨道与中心轴(m)相交。