-
公开(公告)号：CN104094373A
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：CN201380008021.1
申请日：2013-02-15
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/28 , H01J37/09 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J2237/0451 , H01J2237/06341 , H01J2237/10 , H01J2237/1405 , H01J2237/164 , H01J2237/2608 , H01J2237/2801
Abstract: 本发明提供能简单地装拆隔膜(101)且能将试样(6)配置于真空下和高压下的带电粒子线装置(111)。该带电粒子线装置(111)具有：对带电粒子源(110)和电子光学系统(1、2、7)进行保持的镜筒(3)；与镜筒(3)连结的第一框体(4)；向第一框体(4)的内侧凹陷的第二框体(100)；将镜筒(3)内的空间和第一框体(4)内的空间隔离且供带电粒子线透过的第一隔膜(10)；将第二框体(100)的凹部(100a)内的空间和第二框体(100)的凹部(100a)外的空间隔离且供带电粒子线透过的第二隔膜(101)；与收纳带电粒子源(110)的第三框体(22)连结的管(23)，第一隔膜(10)安装于管(23)，管(23)和第三框体(22)能沿光轴(30)的方向相对于镜筒(3)装拆。由第一框体(4)和第二框体(100)包围的空间(105)被减压，对配置于凹部(100a)中的试样(6)照射带电粒子线。
-
公开(公告)号：CN103091840A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201210405108.X
申请日：2012-10-23
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03F9/7069 , G02B21/08 , H01J37/09 , H01J37/22 , H01J37/26
Abstract: 本发明提供了光学设备、位置检测设备、显微镜设备以及曝光设备。该光学设备包括：孔径光阑，包括第一孔和第二孔并且被固定在照明光学系统的光瞳面上，第一孔被配置为将用于照射照明表面的照明条件限定为第一条件，第二孔被配置为将照明条件限定为第二条件；遮光板；以及驱动单元，被配置为在将照明条件设定为第一条件时定位遮光板以使得遮光区域遮蔽从光源通过第二孔延伸到照明表面的第二路径，以及在将照明条件设定为第二条件时定位遮光板以使得遮光区域遮蔽从光源通过第一孔延伸到照明表面的第一路径。
-
公开(公告)号：CN101438368B
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：CN200680047932.5
申请日：2006-12-06
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 拉塞尔·J·罗 , 乔纳森·G·英格兰 , 史蒂夫·E·克劳斯 , 艾立克·D·赫尔曼森
IPC: H01J3/14
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/09 , H01J37/15 , H01J37/18 , H01J37/302 , H01J37/3023 , H01J2237/0455 , H01J2237/0458 , H01J2237/1503 , H01J2237/182 , H01J2237/188 , H01J2237/30488 , H01J2237/31705 , H01L21/266
Abstract: 本发明揭示用于防止寄生的子波束影响离子植入的技术。在一个特定的示范性实施例中，所述技术可实现为一种用于防止寄生的子波束影响离子植入的设备。所述设备可包括经配置以来回地扫描点波束进而形成横跨预定宽度的离子波束的控制器。所述设备还可包括小孔机构，其在保持固定时允许点波束穿过。所述设备可进一步包括同步机构，其耦合到控制器和小孔机构，且经配置以致使小孔机构与经扫描的点波束同步地移动，从而允许经扫描的点波束穿过，但阻挡与点波束相关联的一个或一个以上寄生的子波束。
-
公开(公告)号：CN102007564A
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：CN200980113522.X
申请日：2009-04-23
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/09 , H01J37/317 , H01J27/00 , H01J27/08
CPC classification number: H01J37/08 , H01J27/024 , H01J37/09 , H01J37/3171 , H01J2237/0455 , H01J2237/061 , H01J2237/0835
Abstract: 本发明公开一种离子植入器系统，其包括一种使用于产生离子流或离子射束的一离子源。该离子源具有一离子源室壳体，其至少部分地限定一离子化区域，以用于在该室壳体中产生高密度的离子浓度。一所想要特征的离子撷取孔径覆盖一弧形室的该离子化区域。在一实施例中，一可移动离子撷取孔径板相对于该壳体移动，以用于修正一离子射束轮廓。一实施例包括一孔径板，其具有至少一延长孔径，且在至少界定不同离子射束轮廓的一第一位置与一第二位置间移动。耦接至该孔径板的一驱动器或致动器系将该孔径板在该第一位置与该第二位置间移动。一替代实施例具有两个移动板部分，其限定一可调整孔径。
-
公开(公告)号：CN101416270B
公开(公告)日：2011-03-23
申请号：CN200780012023.2
申请日：2007-03-27
Applicant: 株式会社IHI
IPC: H01J37/317 , H01J37/04 , H01J37/09 , H01J37/244 , H01L21/265
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/05 , H01J37/09 , H01J2237/0455 , H01J2237/057 , H01L21/265
Abstract: 本发明涉及使质量分离了的离子束对基板照射进行离子注入的质量分离型离子注入装置。在具备接收来自质量分离电磁铁(17)的离子束(1)、分选所希望的离子并使其通过的分离狭缝(20)的离子注入装置(10)中，分离狭缝(20)以使离子束(1)通过的缝隙形状是可变的方式构成。此外，离子注入装置(10)具备可变狭缝(30)，其配置在引出电极系统(15)和质量分离电磁铁(17)之间，形成离子束(1)通过的缝隙，该可变狭缝(30)以遮蔽从离子源(12)引出的离子束(1)的一部分的方式可变地构成缝隙形状。该离子注入装置(10)具备分离狭缝(20)可变狭缝(30)的双方也可，具备任一方也可。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101346803B
公开(公告)日：2010-08-04
申请号：CN200680049162.8
申请日：2006-12-06
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 拉塞尔·J·罗 , 乔纳森·G·英格兰 , 史蒂夫·E·克劳斯 , 艾立克·D·赫尔曼森
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/09 , H01J37/15 , H01J37/18 , H01J37/302 , H01J37/3023 , H01J2237/0455 , H01J2237/0458 , H01J2237/1503 , H01J2237/182 , H01J2237/188 , H01J2237/30488 , H01J2237/31705 , H01L21/266
Abstract: 本发明揭示用于减少光致抗蚀剂释气效应的技术。在一个特定示范性实施例中，所述技术可实行为一种用于在离子注入机中减少光致抗蚀剂释气效应的设备。所述设备可包括位于终端站与上游束线组件之间的漂移管。所述设备还可包括位于漂移管与终端站之间的第一可变孔径。所述设备可进一步包括位于漂移管与上游束线组件之间的第二可变孔径。可调节第一可变孔径和第二可变孔径以促进差动抽吸。
-
公开(公告)号：CN101346803A
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：CN200680049162.8
申请日：2006-12-06
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 拉塞尔·J·罗 , 乔纳森·G·英格兰 , 史蒂夫·E·克劳斯 , 艾立克·D·赫尔曼森
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/09 , H01J37/15 , H01J37/18 , H01J37/302 , H01J37/3023 , H01J2237/0455 , H01J2237/0458 , H01J2237/1503 , H01J2237/182 , H01J2237/188 , H01J2237/30488 , H01J2237/31705 , H01L21/266
Abstract: 本发明揭示用于减少光致抗蚀剂释气效应的技术。在一个特定示范性实施例中，所述技术可实行为一种用于在离子注入机中减少光致抗蚀剂释气效应的设备。所述设备可包括位于终端站与上游束线组件之间的漂移管。所述设备还可包括位于漂移管与终端站之间的第一可变孔径。所述设备可进一步包括位于漂移管与上游束线组件之间的第二可变孔径。可调节第一可变孔径和第二可变孔径以促进差动抽吸。
-
公开(公告)号：CN101238538A
公开(公告)日：2008-08-06
申请号：CN200680028482.5
申请日：2006-06-02
Applicant: 艾克塞利斯技术公司
IPC: H01J37/244
CPC classification number: H01J37/244 , H01J37/045 , H01J37/09 , H01J37/302 , H01J37/3171 , H01J2237/022 , H01J2237/026 , H01J2237/028 , H01J2237/30433 , H01J2237/31705
Abstract: 本发明提供一种用于减轻与离子注入有关的污染的系统、方法、以及装置。本发明提供离子源、终点站、以及设置在离子源与终点站之间的质量分析器，其中由离子源形成离子束，且根据射束阻挡组件的位置，选择性地经由质量分析器将离子束传送至终点站。该射束阻挡组件选择性地防止离子束进入和/或射出质量分析器，因此将转换期间例如离子注入系统开机期间与不稳定离子源有关的污染最小化。
-
公开(公告)号：CN101103417A
公开(公告)日：2008-01-09
申请号：CN200480025528.9
申请日：2004-09-07
Applicant: 卡尔蔡司SMT股份有限公司 , 以色列实用材料有限公司
CPC classification number: H01J37/04 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/09 , H01J37/10 , H01J37/14 , H01J37/153 , H01J37/28 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/0453 , H01J2237/047 , H01J2237/04735 , H01J2237/04756 , H01J2237/06 , H01J2237/14 , H01J2237/2817 , H01J2237/31774
Abstract: 一种粒子光学排布结构，其包括：用于生成带电粒子束的带电粒子源；布置在带电粒子束的束路径中的多孔板，其中，该多孔板具有按预定的第一阵列图案形成在其中的多个孔，其中，在多孔板的下游从带电粒子束形成了多个带电粒子分束，并且其中，所述多个分束在该装置的像面中形成了多个束斑，所述多个束斑按第二阵列图案排列；以及用于操纵带电粒子束和/或多个分束的粒子光学元件；其中，第一阵列图案在第一方向上具有第一图案规则度，而第二阵列图案在与第一方向电子光学地对应的第二方向上具有第二图案规则度，并且其中，第二规则度比第一规则度要大。
-
公开(公告)号：CN1985344A
公开(公告)日：2007-06-20
申请号：CN200580017795.6
申请日：2005-05-13
Applicant: 纳米束有限公司
Inventor： 张涛
IPC: H01J37/04 , H01J37/147 , H01J37/09 , H01J37/15
CPC classification number: G21K1/087 , H01J37/045 , H01J37/09 , H01J37/1472 , H01J37/15 , H01J2237/028 , H01J2237/0451 , H01J2237/3175
Abstract: 用来屏蔽带电粒子束的设备。射束屏蔽单元(1)包括固定到支撑板(15)的第一和第二屏蔽板(2，3)。阻止器(4)与5第一屏蔽板(2)机械地连接和电连接。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
1936
records
(took 0.024 seconds)
