封装结构的形成方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111863631A

    公开(公告)日:2020-10-30

    申请号:CN202010330677.7

    申请日:2020-04-24

    Abstract: 本公开提供一种封装结构的形成方法,包括:形成基板通孔结构于基板之中;形成第一沟槽于基板之中;使用第一接合结构堆叠第一堆叠晶粒封装结构于基板之上,第一接合结构位于基板及第一堆叠晶粒封装结构之间,且空腔位于两邻近第一接合结构之间;形成底胶层于第一堆叠晶粒封装结构之上且于空腔之中,其中底胶层形成于第一沟槽的部分之中;以及形成封装层于底胶层之上。

    封装结构
    4.
    发明公开
    封装结构 审中-实审

    公开(公告)号:CN113035823A

    公开(公告)日:2021-06-25

    申请号:CN202011545070.7

    申请日:2020-12-23

    Abstract: 本发明提供一种封装结构,包含插入件、至少一个半导体管芯以及绝缘密封体。插入件包含半导体衬底和设置在半导体衬底上的内连线结构,内连线结构包含层间介电膜和嵌入于层间介电膜中的内连线布线,半导体衬底包含第一部分和设置在第一部分上的第二部分,内连线结构设置在第二部分上,且第一部分的第一最大横向尺寸大于第二部分的第二最大横向尺寸。至少一个半导体管芯设置在内连线结构上方且电连接到内连线结构。绝缘密封体设置在第一部分上,其中绝缘密封体横向地密封至少一个半导体管芯和第二部分。本发明可防止插入件晶片中的内连线结构的裂纹问题或碎裂问题。

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