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公开(公告)号：KR101125565B1
公开(公告)日：2012-03-23
申请号：KR1020090109837
申请日：2009-11-13
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
IPC: H01L29/786 , H01L51/50
CPC classification number: H01L29/66757 , H01L27/1277 , H01L27/3262
Abstract: 본 발명은 박막트랜지스터, 그를 구비하는 유기전계발광표시장치 및 그들의 제조방법에 관한 것으로써, 기판; 상기 기판 상에 위치하는 버퍼층; 상기 버퍼층 상에 위치하는 소스/드레인 영역 및 하나 또는 다수개의 채널영역을 구비하는 반도체층; 상기 기판 전면에 걸쳐 위치하는 게이트 절연막; 상기 게이트 절연막 상에 위치하는 게이트 전극; 상기 기판 전면에 걸쳐 위치하는 층간 절연막; 및 상기 층간절연막 상에 위치하며, 상기 반도체층과 전기적으로 연결되는 소스/드레인 전극을 포함하며, 상기 반도체층의 채널영역의 다결정 실리콘층은 저각결정립경계(low angle grain boundary)만을 포함하며, 고각결정립경계(high angle grain boundry)는 상기 반도체층의 채널영역 이외의 영역에 위치하는 것을 특징으로 하는 박막트랜지스터에 관한 것이다.
그리고, 기판을 형성하고, 상기 기판 상에 버퍼층을 형성하고, 상기 버퍼층 상에 비정질 실리콘층을 형성하고, 상기 비정질 실리콘층 상의 일부에 보호층 패턴을 형성하고, 상기 기판 전면에 걸쳐 금속촉매층을 형성하고, 상기 금속촉매층이 형성된 기판을 열처리하여 상기 보호층패턴의 에지에 금속 실리사이드를 라인형태로 형성한 후, 상기 금속실리사이드를 시드로 하여 상기 비정질 실리콘층을 결정화하고, 상기 보호층 패턴을 제거하고, 상기 다결정 실리콘층을 패터닝하여 반도체층을 형성하고, 상기 반도체층 상에 위치하는 게이트 절연막을 형성하고, 상기 게이트 절연막 상에 위치하는 게이트 전극을 형성하고, 상기 게이트 전극 상에 위치하 는 층간 절연막을 형성하고, 상기 층간 절연막 상에 상기 반도체층과 전기적으로 연결되는 소스/드레인 전극을 형성하는 것을 특징으로 하는 박막트랜지스터의 제조방법에 관한 것이며, 상기 박막트랜지스터를 구비하는 유기전계발광표시장치 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
다결정 실리콘층, 금속촉매-
公开(公告)号：KR1020100099618A
公开(公告)日：2010-09-13
申请号：KR1020090018201
申请日：2009-03-03
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
Inventor： 박병건 , 양태훈 , 서진욱 , 이기용 , 리사첸코,막심 , 최보경 , 이대우 , 이길원 , 이동현 , 박종력 , 안지수 , 김영대 , 나흥열 , 정민재 , 정윤모 , 홍종원 , 강유진 , 장석락 , 정재완 , 윤상연
IPC: H01L29/786 , H05B33/02
CPC classification number: H01L29/6675 , H01L21/02422 , H01L21/02488 , H01L21/02532 , H01L21/02667 , H01L21/02672 , H01L27/1277 , H01L29/66757 , H01L29/66765 , H01L29/78696 , H01L27/1214
Abstract: PURPOSE: A thin film transistor, a method for manufacturing the same, and an organic light emitting diode display apparatus including the same are provided to eliminate metal catalyst on a semiconductor layer by performing a gettering process. CONSTITUTION: A buffer layer(310) is located on a substrate(300). A semiconductor layer(320) is located on the buffer layer. A gate electrode(340) is formed on a part which corresponds to the channel region of the semiconductor layer. A gate insulating film(330) insulates the gate electrode from the semiconductor layer. An interlayer insulating film(350) is located over the entire surface of the substrate.
Abstract translation: 目的：提供一种薄膜晶体管及其制造方法以及包括该薄膜晶体管的有机发光二极管显示装置，以通过进行吸气处理来消除半导体层上的金属催化剂。 构成：缓冲层（310）位于衬底（300）上。 半导体层（320）位于缓冲层上。 在与半导体层的沟道区对应的部分上形成栅电极（340）。 栅极绝缘膜（330）使栅电极与半导体层绝缘。 层间绝缘膜（350）位于基板的整个表面上。
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公开(公告)号：KR1020100006482A
公开(公告)日：2010-01-19
申请号：KR1020080066722
申请日：2008-07-09
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
IPC: H01L21/203 , H01L21/677
CPC classification number: C23C14/54 , C23C14/35 , H01J37/3408 , H01J37/3455 , H01L21/67715 , H01L21/67742
Abstract: PURPOSE: An apparatus for adjusting a magnetization distance and magnetron sputtering equipment having the same are provided to prevent the magnetization of a target by separating the distance between a target and a magnetron. CONSTITUTION: A magnetron unit conveyor for magnetization prevention includes a magnetron unit(200) and a moving unit. The magnetron is arranged at the proximity of a target(130). The magnetron unit forms constant magnetic field. The target is formed with the metal. A movable unit is separated from a magnetron and the target by a certain interval to make magnetic filed in predetermined magnetic field.
Abstract translation: 目的：提供一种用于调整磁化距离的装置和具有该装置的磁控溅射装置，以通过分离靶和磁控管之间的距离来防止靶的磁化。 构成：用于防止磁化的磁控管单元输送机包括磁控管单元（200）和移动单元。 磁控管布置在目标（130）附近。 磁控管单元形成恒定的磁场。 目标与金属形成。 可移动单元与磁控管和目标物分开一定间隔以使磁场保持在预定的磁场中。
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公开(公告)号：KR100922045B1
公开(公告)日：2009-10-19
申请号：KR1020070118784
申请日：2007-11-20
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 증착이 수행되는 기판이 대면적화 됨에 따라 상기 기판과 대응되는 대면적 마스크를 제작할 때, 마스크 무게에 의한 처짐 현상을 방지하기 위하여 마스크 시트와 마스크 프레임을 지면으로부터 수직 상태로 용접시킬 수 있는 수직 증착형 마스크 제조장치 및 이를 이용한 수직 증착형 마스크의 제조방법을 제공함에 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 실시예에 의한 수직 증착형 마스크 제조장치는, 마스크 시트를 지지하는 다수의 클램프와, 상기 다수의 클램프와 각각 연결되고, 상기 연결된 다수의 클램프에 인장력을 가하여 상기 클램프에 의해 고정된 마스크 시트를 평평하게 고정시키는 다수의 인장수단과 상기 각각의 클램프와 인장수단 사이에는 상기 클램프의 인장력을 측정하는 인장력 측정수단을 포함하는 인장 유닛과; 및 상기 마스크 시트 및 상기 마스크 시트의 둘레 영역에 밀착되는 마스크 프레임을 접합하는 용접수단을 포함하며, 상기 인장 유닛 중 일부 인장 유닛의 처짐을 방지하기 위해 상기 인장 유닛과 연결된 처짐 방지수단이 더 포함됨을 특징으로 한다.-
公开(公告)号：KR1020090052202A
公开(公告)日：2009-05-25
申请号：KR1020070118786
申请日：2007-11-20
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 증착이 수행되는 기판이 대면적화 됨에 따라 상기 기판과 대응되는 대면적 마스크를 제작할 때, 마스크 무게에 의한 처짐 현상을 방지하기 위하여 마스크 시트와 마스크 프레임을 지면으로부터 수직 상태로 용접시킬 수 있는 수직 증착형 마스크 제조장치를 제공함에 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 실시예에 의한 수직 증착형 마스크 제조장치는, 마스크 시트를 인장시켜 고정하는 인장 유닛과; 상기 마스크 시트 및 상기 마스크 시트의 둘레 영역에 밀착되는 마스크 프레임을 접합하는 용접수단이 포함되며,
상기 인장 유닛은, 상기 마스크 시트를 지지하는 다수의 클램프와; 상기 다수의 클램프와 각각 연결되고, 상기 연결된 다수의 클램프에 인장력을 가하여 상기 클램프에 의해 고정된 마스크 시트를 평평하게 고정시키는 다수의 인장수단과; 상기 다수의 클램프 중 적어도 하나의 클램부를 상부 또는 하부로 이동시키키도록 상기 클램프의 일 측면에 클램프 위치 조절수단을 포함되어 구성됨을 특징으로 한다.-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101156441B1
公开(公告)日：2012-06-18
申请号：KR1020100021835
申请日：2010-03-11
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
IPC: C23C14/24
CPC classification number: C23C16/52 , C23C14/042 , C23C14/243 , C23C14/54 , C23C14/568 , C23C16/042 , H01L51/5253 , H01L51/56
Abstract: A thin film deposition apparatus includes: a deposition source that discharges a deposition material; a deposition source nozzle unit disposed at a side of the deposition source and including a plurality of deposition source nozzles arranged in a first direction; a patterning slit sheet disposed opposite to the deposition source nozzle unit and including a plurality of patterning slits arranged in the first direction; a position detection member that detects a relative position of the substrate to the patterning slit sheet; and an alignment control member that controls a relative position of the patterning slit sheet to the substrate by using the relative position of the substrate detected by the position detection member, wherein the thin film deposition apparatus and the substrate are separated from each other, and the thin film deposition apparatus and the substrate are moved relative to each other.
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公开(公告)号：KR101094279B1
公开(公告)日：2011-12-19
申请号：KR1020090107175
申请日：2009-11-06
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
IPC: H01L21/324
CPC classification number: H01L21/67109 , C23C16/46
Abstract: 본 발명은 다수의 기판을 동시에 가공하기 위한 기판 가공 장치에 있어서, 상기 다수의 기판이 가공되는 가공 챔버를 가열하기 위한 가열 수단 및 이를 포함하는 기판 가공 장치에 관한 것으로, 빠른 시간 내에 냉각되어 가공 챔버의 냉각에 소요되는 시간을 감소시킬 수 있는 가열 수단 및 이를 포함하는 기판 가공 장치에 관한 것이다.
본 발명은 흡기구 및 배기구가 형성된 몸체; 상기 몸체의 내부에 위치하는 하나 또는 다수의 히터; 상기 몸체의 흡기구와 연결되는 냉각부; 상기 몸체의 배기구와 연결되는 배기 펌프; 및 상기 냉각부를 제어하기 위한 제어부를 포함하는 가열 수단에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 다수의 기판이 적층된 보트; 상기 다수의 기판을 가공하기 위한 공간을 제공하는 가공 챔버; 상기 보트를 상기 가공 챔버의 내부로 반입 및 반출시키기 위한 이송부; 및 상기 가공 챔버의 외측에 위치하는 가열 수단을 포함하며, 상기 가열 수단은 흡기구 및 배기구가 형성된 몸체, 상기 몸체의 내부에 위치하는 하나 또는 다수의 히터, 상기 몸체의 흡기구와 연결되는 냉각부, 상기 몸체의 배기구와 연결되는 배기 펌프 및 상기 냉각부를 제어하기 위한 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 가공 장치에 관한 것이다.
기판 가공 장치, 가열 수단-
公开(公告)号：KR101084275B1
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：KR1020090089698
申请日：2009-09-22
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
IPC: H01L21/205
CPC classification number: F17D1/02 , C23C16/4485 , C23C16/52 , Y10T137/0318
Abstract: 본 발명은 소스 가스 공급 유닛, 이를 구비하는 증착 장치 및 방법에 관한 것으로, 일정한 소스 가스를 증착 챔버로 공급함으로써 균일한 막을 증착할 수 있는 소스 가스 공급 유닛, 이를 구비하는 증착 장치 및 방법에 관한 것이다.
본 발명은 소스가 저장되는 캐니스터, 상기 캐니스터를 가열하기 위한 가열부, 상기 캐니스터의 일측에 형성되는 소스 가스 공급관, 상기 소스 가스 공급관에 설치되어, 상기 소스 가스 공급관을 통과하는 소스 가스의 양을 측정하는 측정 수단 및 상기 가열부와 상기 측정 수단에 연결되는 온도 제어부를 포함하고, 상기 온도 제어부는 상기 측정 수단에 의해 측정된 소스 가스의 양에 따라 상기 가열부를 제어하는 것을 특징으로 하는 소스 가스 공급 유닛을 제공한다.
캐리어 가스, 소스 가스, 증착 챔버, 측정 수단, 온도 제어부, 가열-
公开(公告)号：KR101073557B1
公开(公告)日：2011-10-14
申请号：KR1020090113887
申请日：2009-11-24
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
Inventor： 양태훈 , 이기용 , 서진욱 , 박병건 , 정윤모 , 이동현 , 이길원 , 정재완 , 박종력 , 최보경 , 백원봉 , 소병수 , 홍종원 , 정민재 , 나흥열 , 마이단축이반 , 강유진 , 장석락
IPC: H01L21/203
CPC classification number: C23C14/3407 , C23C14/185 , C23C14/34 , H01J37/3417 , H01J37/3435 , H01J37/3438
Abstract: 본발명은제 1 영역및 제 2 영역을포함하는공정챔버; 상기공정챔버의내측에위치하는금속타겟; 상기금속타겟을이동시키며, 상기금속타겟으로부터방출되는금속촉매의진행방향을제어하기위한제 1 쉴드를포함하는타겟이송부; 및상기제 2 영역에상기금속타겟과대향되도록위치하는기판홀더를포함하며, 상기기판홀더에안착되는기판과금속타겟사이의직선거리와상기제 1 쉴드의길이의차이는 3cm 이하인것을특징으로하는스퍼터링장치에관한것이다.
Abstract translation: 本发明提供了一种处理室，包括：包括第一区域和第二区域的处理室; 位于处理室内的金属靶; 以及第一护罩，用于移动金属靶并控制从金属靶发射的金属催化剂的行进方向; 并且，在所述第二区域中与所述金属靶相对配置的基板支架的基板与配置在所述基板支架上的金属靶的直线距离与所述第一屏蔽件的长度之差为3cm以下 对溅射装置。
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公开(公告)号：KR1020110050268A
公开(公告)日：2011-05-13
申请号：KR1020090107175
申请日：2009-11-06
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
IPC: H01L21/324
CPC classification number: H01L21/67109 , C23C16/46
Abstract: PURPOSE: A heating device and a substrate processing apparatus having the same are provided to reduce processing time by forcedly cooling down one or a plurality of heaters and to reduce the time required for cooling down the process chamber. CONSTITUTION: In a heating device and a substrate processing apparatus having the same, a body(210) includes an inlet unit(211) and an outlet unit(212). One or a plurality of heaters(220) are installed inside the body. A cooling unit(230) is connected to the inlet unit of the body. An exhaust pump(240) is connected to the exhaust pipe of the body. A controller(250) controls the cooling unit.
Abstract translation: 目的：提供一种加热装置及其基板处理装置，以通过强制冷却一个或多个加热器并减少冷却处理室所需的时间来减少处理时间。 构成：在加热装置和具有该加热装置的基板处理装置中，主体（210）包括入口单元（211）和出口单元（212）。 一个或多个加热器（220）安装在体内。 冷却单元（230）连接到主体的入口单元。 排气泵（240）连接到主体的排气管。 控制器（250）控制冷却单元。
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