公开(公告)号：KR101661003B1

公开(公告)日：2016-09-28

申请号：KR1020117020923

申请日：2009-11-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  가부시키가이샤 후지킨

Inventor： 히로세준 ,  데즈카가즈유키 ,  우치다요헤이 ,  고요모기무츠노리 ,  마츠다다카히로 ,  도히료우스케 ,  니시노고우지 ,  이케다노부카즈

IPC: G05D7/06 ,  C23C16/455 ,  H01L21/67

CPC classification number: C23C16/45561 ,  H01L21/67017 ,  Y10T137/0396

Abstract: 본발명은, 비용을절감하고, 스페이스의감소도가능하게한 유체제어장치를제공하는것을목적으로한다. 유체제어장치(1)는, 유체제어부(2)와유체도입부(3)를포함하고있다. 유체도입부(3)는, 3개로나누어져있고, 입구측에배치되어각각 2×N/2개의개폐밸브(23)로이루어진제1 및제2 입구측차단개방부(5, 6)와, 4×M개의개폐밸브(23)로이루어지며, 제1 및제2 입구측차단개방부(5, 6)와유체제어부(2) 사이에배치된유체제어부측차단개방부(7)를포함한다.

公开(公告)号：KR1020110123258A

公开(公告)日：2011-11-14

申请号：KR1020117020923

申请日：2009-11-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  가부시키가이샤 후지킨

Inventor： 히로세준 ,  데즈카가즈유키 ,  우치다요헤이 ,  고요모기무츠노리 ,  마츠다다카히로 ,  도히료우스케 ,  니시노고우지 ,  이케다노부카즈

IPC: G05D7/06 ,  C23C16/455 ,  H01L21/67

CPC classification number: C23C16/45561 ,  H01L21/67017 ,  Y10T137/0396 ,  G05D7/0617

Abstract: 본 발명은, 비용을 절감하고, 스페이스의 감소도 가능하게 한 유체 제어 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 유체 제어 장치(1)는, 유체 제어부(2)와 유체 도입부(3)를 포함하고 있다. 유체 도입부(3)는, 3개로 나누어져 있고, 입구측에 배치되어 각각 2×N/2개의 개폐 밸브(23)로 이루어진 제1 및 제2 입구측 차단 개방부(5, 6)와, 4×M개의 개폐 밸브(23)로 이루어지며, 제1 및 제2 입구측 차단 개방부(5, 6)와 유체 제어부(2) 사이에 배치된 유체 제어부측 차단 개방부(7)를 포함한다.

公开(公告)号：KR100613198B1

公开(公告)日：2006-08-18

申请号：KR1020040028391

申请日：2004-04-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 엔도쇼스케 ,  이와부치노리유키 ,  가토시게아키 ,  오쿠보도모야 ,  히로세준 ,  나가쿠라고이치 ,  고시미즈지시오 ,  덴포가즈키

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/67069 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32642 ,  H01L21/6831

Abstract: 본 발명은 비용의 증가를 방지하면서 포커스 링의 냉각 효율을 비약적으로 향상시킬 수 있는 포커스 링을 구비한 플라즈마 처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 처리 장치는 정전 척 및 포커스 링을 구비하는 서셉터를 포함한다. 프라즈마 처리될 웨이퍼(W)가 정전 척상에 장착된다. 포커스 링은 유전제부 및 도전체부를 구비한다. 유전체부는 정전 척과 접촉하여 배치된 접촉부를 형성한다. 도전체부는 유전체부를 사이에 두고 정전 척과 대향한다.

公开(公告)号：KR1020060088909A

公开(公告)日：2006-08-07

申请号：KR1020067014534

申请日：1999-11-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오자와준 ,  히로세준 ,  나루시마마사키

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67161 ,  H01L21/67167 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/67745 ,  Y10S414/139 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/68707

Abstract: A vacuum processing system characterized by comprising a load port in which an object to be processed is set; a common conveyance chamber disposed adjacent the load port and having an internal space set to atmospheric pressure, and a first movable conveyor disposed in the internal space and capable of carrying the object into and out of the load port; a processing unit having one processing chamber for applying a predetermined treatment to the object, and a vacuum conveyance chamber having an internal space connected to the processing chamber and set to atmospheric pressure, and having a second movable conveyor disposed in the internal space for carrying the object into and out of the processing chamber, the common conveyance chamber having a plurality of processing units connected individually and mutually substantially parallelly, the processing units having their vacuum conveyance chambers connected to the common conveyance chamber and linearly extending substantially orthogonally to the common conveyance chamber, the object to be processed being carried into and out of the vacuum conveyance chamber through the first conveyor.

Abstract translation: 一种真空处理系统，其特征在于包括设置有待加工物体的装载口; 设置在所述负载端口附近并具有设定为大气压的内部空间的公共运送室，以及设置在所述内部空间中并且能够将所述物体搬入和卸出所述负载口的第一可移动输送器; 处理单元，其具有用于对物体施加预定处理的一个处理室;以及真空输送室，具有连接到处理室并设定为大气压的内部空间，并且具有设置在内部空间中的第二可移动输送器，用于承载 物体进出处理室，公共输送室具有单独并相互大致平行连接的多个处理单元，处理单元具有连接到公共输送室的真空输送室，并且与公共输送室基本正交地直线地延伸 被处理物体通过第一输送机被输送到真空输送室内。

公开(公告)号：KR1020050086834A

公开(公告)日：2005-08-30

申请号：KR1020057009448

申请日：2003-11-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고시이시아키라 ,  히로세준 ,  오가사와라마사히로 ,  히라노다이치 ,  사사키히로미츠 ,  요시다데츠오 ,  사이토미치시게 ,  이시하라히로유키 ,  오오야부준 ,  누마타고지

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/32577 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32174 ,  H01L21/31116

Abstract: A plasma processing apparatus comprises a process chamber (10) which can be set to have a vacuum atmosphere. Upper electrodes (36, 38) are so arranged as to face a substrate to be processed (W) which is placed in the process chamber (10). A power supply unit having a first cylindrical conductor member (50) continuously connected to the upper electrode (36) in the circling direction supplies a first high-frequency wave from a first high-frequency power supply (52) to the upper electrode (36).

Abstract translation: 等离子体处理装置包括可设置为具有真空气氛的处理室（10）。 上电极（36,38）被布置为面对放置在处理室（10）中的待处理基板（W）。 在第一高频电源（52）向第一高频电源（52）向第一高频电源（52）提供第一高频波的电源单元，其具有在上下方向上与上电极（36）连续地连接的第一圆筒状的导体部件 ）。

公开(公告)号：KR3002963620000S

公开(公告)日：2002-04-20

申请号：KR3020000026654

申请日：2000-10-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Designer： 히로세준 ,  히로세에이지 ,  오자와준 ,  히로오카다카아키

公开(公告)号：KR3002927120000S

公开(公告)日：2002-03-09

申请号：KR3020000026651

申请日：2000-10-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Designer： 히로세준

公开(公告)号：KR1020020010681A

公开(公告)日：2002-02-04

申请号：KR1020017015360

申请日：2000-06-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히로세준 ,  오자와준 ,  오쿠보도모야 ,  후지다츠야

IPC: H01L21/02

Abstract: 본 발명은 피처리 기판(17)을 탑재하는 스테이지(16)를 갖는 진공 처리실(14)과, 이 진공 처리실(14)을 형성하는 처리 챔버(11)의 주벽에 설치되어 상기 스테이지(16)에 대하여 피처리 기판(17)을 반입 및 반출하는 반송구(18)로 구성되며, 상기 진공 처리실(14)내에 플라즈마를 발생시켜 상기 스테이지(16)상의 피처리 기판(17)을 플라즈마 처리하는 진공 처리 장치에 있어서, 상기 진공 처리실내에서 플라즈마를 발생할 때에 상기 반송구(18)를 폐색하여 플라즈마의 혼란을 방지하는 셔터(20)가 설치된 진공 처리 장치이다.

公开(公告)号：KR100682216B1

公开(公告)日：2007-02-12

申请号：KR1020017015360

申请日：2000-06-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히로세준 ,  오자와준 ,  오쿠보도모야 ,  후지다츠야

IPC: H01L21/02

Abstract: 본 발명은 피처리 기판(17)을 탑재하는 스테이지(16)를 갖는 진공 처리실(14)과, 이 진공 처리실(14)을 형성하는 처리 챔버(11)의 주벽에 설치되어 상기 스테이지(16)에 대하여 피처리 기판(17)을 반입 및 반출하는 반송구(18)로 구성되며, 상기 진공 처리실(14)내에 플라즈마를 발생시켜 상기 스테이지(16)상의 피처리 기판(17)을 플라즈마 처리하는 진공 처리 장치에 있어서, 상기 진공 처리실내에서 플라즈마를 발생할 때에 상기 반송구(18)를 폐색하여 플라즈마의 혼란을 방지하는 셔터(20)가 설치된 진공 처리 장치이다.

Abstract translation: 本发明的特征在于包括：真空处理室14，其具有载置被处理基板17的载物台16和设置在构成真空处理室14的处理室11的周壁上的处理室11， 以及传送装置18，用于将基板17传送到平台16以及从平台16传送基板17.通过在真空处理室14中产生等离子体，对基板16进行真空处理以等离子体处理台架16上的基板17， 该设备是一种真空处理设备，其设置有用于关闭输送口（18）的闸门（20），以防止在真空处理室中产生等离子体时等离子体混淆。

公开(公告)号：KR100676029B1

公开(公告)日：2007-01-29

申请号：KR1020017006069

申请日：1999-11-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오자와준 ,  히로세준 ,  나루시마마사키

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67161 ,  H01L21/67167 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/67745 ,  Y10S414/139

Abstract: 본 발명의 진공 처리 유닛은 피처리체가 세트되는 로드 포트와, 로드 포트에 인접하여 설치됨과 동시에, 대기압으로 설정된 내부 공간을 구비하고, 로드 포트에 대하여 피처리체를 반출입하는 이동 가능한 제 1 반송 장치를 상기 내부 공간에 갖는 공통 반송실과, 피처리체에 대하여 소정의 처리를 실시하기 위한 하나의 처리실과, 처리실에 접속되고 또한 진공압으로 설정되는 내부 공간을 갖고 또한 처리실에 대하여 피처리체를 반출입하는 제 2 반송 장치를 상기 내부 공간내에 갖는 진공 반송실을 구비한 처리 유닛을 포함하고, 공통 반송실에는 복수의 처리 유닛이 개별로 또한 서로 대략 평행하게 접속되고, 각 처리 유닛은 그 진공 반송실이 공통 반송실에 접속됨과 동시에, 공통 반송실에 대하여 대략 직교하는 방향으로 직선적으로 연장하고, 제 1 반송 장치를 거쳐서 진공 반송실에 대하여 피처리체가 반출입되는 것을 특징으로 한다.

Abstract translation: 和本发明的真空处理装置，其中所述对象被处理设置的端口，并在同一时间安装在邻近装载端口的负载，以相对于所述装载口被加工具有内部空间设定为大气压，banchulip对象中的可移动的第一传送单元 第二处理腔室，其与所述处理腔室连接，且具有被设定为真空压力的内部空间，并且被构造为将所述物体引入所述处理腔室并从所述处理腔室排出; 所述输送装置包括：具有具有在所述内部空间中的真空传送室的处理单元，和共用输送室中，多个处理单元也被连接到彼此大致平行于所述个体，每个处理单元是该真空转移室是一种常见的转印 并且在基本垂直于公共传送室的方向上线性地延伸，并且第一 经由发送装置其特征在于：所述加工对象物banchulip相对于真空搬送室。