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    고압 용기, 기판 처리 장치 및 고압 용기의 제조 방법
    22.
    发明公开
    고압 용기, 기판 처리 장치 및 고압 용기의 제조 방법 审中-实审
    高压容器，基板加工装置及制造高压容器的方法

    公开(公告)号：KR1020140070401A

    公开(公告)日：2014-06-10

    申请号：KR1020130143653

    申请日：2013-11-25

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 미츠오카가즈유키 ,  유겐 ,  오노히로키 ,  오리이다케히코 ,  도시마다카유키 ,  이나도미히로아키

    IPC: H01L21/304 ,  H01L21/67

    CPC classification number: B23H7/02 ,  B23H1/00 ,  B23H9/006 ,  H01L21/67126 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67772

    Abstract: The purpose of the present invention is to provide a high-pressure container which can form a process space having high cleanliness. A high-pressure container for performing a process using high pressure fluid on a substrate forms a hollow part by processing one surface except the widest surface of a flat rectangular parallelepiped block (5) made of metal. A container body is formed by forming a rare metal plating (7) on the inner wall surface facing the hollow part. When the hollow part functions as a through hole, a cover for opening/closing the hollow part is installed on one surface of the through hole. A second block for sealing the hollow part is installed on the other surface.

    Abstract translation: 本发明的目的是提供一种能够形成具有高清洁度的工艺空间的高压容器。 用于在基板上进行使用高压流体的工序的高压容器通过加工由金属制成的扁平长方体块（5）的最宽表面以外的一个表面而形成中空部。 通过在面向中空部的内壁面上形成稀有金属电镀（7）而形成容器主体。 当中空部分用作通孔时，用于打开/关闭中空部分的盖安装在通孔的一个表面上。 用于密封中空部分的第二块安装在另一个表面上。

    기판 처리 방법, 기판 처리 장치 및 기억 매체
    23.
    发明公开
    기판 처리 방법, 기판 처리 장치 및 기억 매체 有权
    基板加工方法，基板加工设备和储存介质

    公开(公告)号：KR1020140011269A

    公开(公告)日：2014-01-28

    申请号：KR1020130082873

    申请日：2013-07-15

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 하야시히데카즈 ,  사토요헤이 ,  오쿠치히사히 ,  도미타히로시 ,  미츠오카가즈유키 ,  요우겐 ,  오노히로키 ,  오리이다케히코 ,  도시마다카유키

    IPC: H01L21/302

    CPC classification number: H01L21/02101 ,  B08B7/0021 ,  H01L21/02041 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67109

    Abstract: The purpose of the present invention is to provide a substrate processing method etc. capable of suppressing the volatilization of a fluorine-containing organic solvent for dry prevention until a substrate is carried into a processing container, and the decomposition of the fluorine-containing organic solvent within the processing container. A substrate (W) in which the surface is covered by a first fluorine-containing organic solvent is carried into a processing container (31). A high pressure fluid made of a second fluorine-containing organic solvent in which the boiling point is lower than the first fluorine-containing organic solvent is provided to the processing container (31). A high pressure fluid condition of a compound of the first and second fluorine-containing organic solvents is formed within the processing container (31). The first fluorine-containing organic solvent which covers the surface of the substrate is removed. A dried substrate (W) is obtained by discharging the fluid within the processing container (31) as the state of the high pressure fluid or gas. [Reference numerals] (321) Feeding unit; (5) Control unit

    Abstract translation: 本发明的目的是提供一种能够抑制用于干燥的含氟有机溶剂的挥发直到基材被运送到处理容器中的基板处理方法等，并且含氟有机溶剂的分解 在处理容器内。 表面被第一含氟有机溶剂覆盖的基板（W）被携带到处理容器（31）中。 将由沸点低于第一含氟有机溶剂的第二含氟有机溶剂制成的高压流体提供给处理容器（31）。 第一和第二含氟有机溶剂的化合物的高压流体状态形成在处理容器（31）内。 除去覆盖基材表面的第一含氟有机溶剂。 通过将处理容器（31）内的流体作为高压流体或气体的状态排出来获得干燥的基材（W）。 （附图标记）（321）进给单元; （5）控制单元

    기판처리방법 및 기판처리장치
    24.
    发明授权
    기판처리방법 및 기판처리장치 有权
    基板处理方法及基板处理装置

    公开(公告)号：KR100588927B1

    公开(公告)日：2006-06-09

    申请号：KR1020010012577

    申请日：2001-03-12

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 도시마다카유키 ,  오리이다케히코

    IPC: H01L21/027

    CPC classification number: G03F7/3021 ,  G03F7/322 ,  Y10S134/902

    Abstract: 현상처리시에 현상액과 현상액보다 비중이 작은 용액이 교반되어 이루어지는 혼합액을 기판의 표면에 공급하여 일정시간 동안 방치한다. 혼합액이 하층은 현상액, 상층은 용액인 2층으로 분리된 뒤에, 현상이 기판의 표면 전체에서 일괄적으로 이루어진다. 이렇게 함으로써 기판 표면 내에서 현상시작의 시간 차이가 발생하지 않고 균일하게 현상할 수 있어 기판 표면 내의 레지스트 패턴막의 선폭 균일성을 향상시킬 수 있다.

    Abstract translation: 在显影处理中搅拌显影液和比重小于显影液比重的溶液的混合液供给基板表面并放置预定时间。 混合溶液被分成两层，下层是显影剂，上层是溶液，然后在基板的整个表面上集中进行显影。 通过这样做，可以均匀地显影基板的表面而不引起显影开始与基板表面中的抗蚀剂图案膜的线宽的均匀性之间的时间差。

    분리 재생 장치 및 기판 처리 장치
    25.
    发明授权
    분리 재생 장치 및 기판 처리 장치 有权

    公开(公告)号：KR102253559B1

    公开(公告)日：2021-05-17

    申请号：KR1020150034553

    申请日：2015-03-12

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 미츠오카가즈유키 ,  오노히로키 ,  오리이다케히코 ,  도시마다카유키

    IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

    Abstract: 본발명은웨이퍼(W) 상의액체를확실하게제거할수 있고, 또한운전비용의저감을도모하여, F 이온을제거하는것을목적으로한다. 분리재생장치는제1 비점을갖는제1 불소함유유기용제와, 제1 비점보다낮은제2 비점을갖는제2 불소함유유기용제를갖는혼합기체를생성하는초임계처리유닛(3)과, 제1 비점과제2 비점사이의온도를갖는온수(34W)를수납하고, 혼합기체를이 온수(34W) 중에투입하여, 액체형의제1 불소함유유기용제와기체형의제2 불소함유유기용제로분리하는증류탱크(34)를구비하고있다. 초임계처리유닛(3)으로부터의혼합기체를증류탱크(34)로유도하는도입라인(50)이설치되고, 이도입라인(50)의선단(50a)은온수(34W) 중에배치되어있다.

    액처리 방법, 액처리 장치 및 기억매체
    28.
    发明公开
    액처리 방법, 액처리 장치 및 기억매체 有权
    液体加工方法，液体加工设备和记录介质

    公开(公告)号：KR1020160025550A

    公开(公告)日：2016-03-08

    申请号：KR1020160021175

    申请日：2016-02-23

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 미즈타니노부타카 ,  오모리츠타에 ,  오리이다케히코 ,  후지타아키라

    IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683

    CPC classification number: H01L21/02057 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051

    Abstract: 본발명은린스액을건조할때, 피처리기판의볼록형부가도괴되는것을방지하는것이가능한액처리방법, 액처리장치및 기억매체를제공하는것을목적으로한다. 기판본체부(W)와, 기판본체부(W)에돌출된복수의볼록형부(W)를가지며, 기판본체부(W) 위에있어서볼록형부(W)의사이에하지면(W)이형성된피처리기판(W)에대하여표면처리를행함으로써, 피처리기판(W)의하지면(W)이친수화되고, 볼록형부(W)의표면이발수화된상태가되도록한다. 다음에, 표면처리된피처리기판(W)에대하여린스액을공급한다. 그후, 피처리기판(W)으로부터린스액을제거한다.

    Abstract translation: 本发明的目的是提供一种液体处理方法，液体处理装置和记录介质，其可以防止冲洗液体干燥时处理过的基材的块状部分被折叠。 液体处理装置具有从基板主体部（W_i）突出的基板主体部（W_i）和多个块状部（W_m），并且使处理基板（W_f）的下平面（W_f）亲水化 ）和通过对块型部分（W_m）之间形成下平面（W_f）的处理基板进行表面处理，来获得块型部分（W_m）的表面的防水状态。 接下来，将冲洗液供给到表面被处理的处理基板（W）。 然后，从经处理的基材（W）中除去漂洗液。

    기판 처리 방법 및 기판 처리 장치
    29.
    发明授权
    기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 有权
    基板处理方法及基板处理装置

    公开(公告)号：KR101601341B1

    公开(公告)日：2016-03-08

    申请号：KR1020110118816

    申请日：2011-11-15

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 다나카사토루 ,  오리이다케히코 ,  마루야마히로타카 ,  미나미데루오미 ,  나카모리미츠노리

    IPC: H01L21/302

    CPC classification number: H01L21/67028 ,  H01L21/67051

    Abstract: 본발명은휘발성을갖는건조액을이용하여기판을건조시킬때에, 기판표면에워터마크가발생하여미세한파티클이부착되는것을방지하는것을목적으로한다. 본발명에서는, 기판을처리액으로액처리한후에휘발성처리액으로건조처리하는기판처리방법및 기판처리장치에있어서, 상기기판에처리액을공급하여처리하는공정과, 상기처리액의액막이형성된상기기판을가열하는공정과, 상기처리액의액막이형성된기판에휘발성처리액을공급하는공정과, 상기기판에의상기휘발성처리액의공급을정지하는공정과, 상기휘발성처리액을제거하여기판을건조하는공정을가지며, 상기기판을가열하는공정은상기휘발성처리액을공급하는공정보다이전에시작되고, 상기기판의표면이상기휘발성처리액에노출되는것보다이전에, 상기기판의표면온도가노점온도보다높아지도록상기기판이가열되는것으로하였다.

    Abstract translation: 本发明的一个目的是防止当通过使用挥发性干燥液干燥基底以粘附微细颗粒时在基底表面上产生水印。 通过供应处理溶液到基底上，所述处理液的形成的液体膜的基板。根据本发明，在基板至处理液体溶液处理hanhue挥发性衬底处理方法和衬底处理设备，用于处理的步骤的液体干燥处理 向形成有处理液的液膜的基板供给挥发性处理液的工序，停止向基板供给挥发性处理液的工序，通过除去挥发性处理液而使基板干燥的工序 其中，在提供挥发性处理液的步骤之前和在基板表面暴露于挥发性处理液之前，基板的表面温度高于露点温度之前，加热基板的步骤开始， 以便衬底被加热。

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