公开(公告)号：KR1020050012235A

公开(公告)日：2005-01-31

申请号：KR1020047017911

申请日：2003-04-23

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 샌드스트롬리차드엘. ,  판샤오지양 ,  멜치올존티. ,  알고츠존엠. ,  볼매튜 ,  프로이로프블라디미르 ,  어쇼프알렉산더아이. ,  야거토마스 ,  질레스피에월터디. ,  루브린레오나드 ,  그라첼홀저케이. ,  파르틀로윌리암엔. ,  마쉬엘리자베쓰 ,  모톤리차드디. ,  우자즈도우키리차드씨. ,  와켄틴데이비드제이. ,  웹알키레.

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/225 ,  G03F7/7055 ,  H01S3/1024 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333

Abstract: 본 발명은 고 반복율 고전력 출력 빔(38)을 발생하는 모듈러, 고 반복율, 자외선 가스 방전 레이저 시스템(도 1)을 위한 수명이 긴 광학기구를 제공한다. 본 발명은 프로토타입 레이저 시스템의 출력 빔(14C)의 고 펄스 강도 섹션(10)(26)에 위치된 CaF
2 광학기구(4260)(422)(424)(426)상에서의 표면 손상 문제에 대해 본원인에 의해 발견된 해결책을 포함한다. 실시예는 수십억 출력 레이저 펄스(38)의 빔 운반을 위한 빔 포인팅 컨트롤(40A)(40B)(6)에 의한 인클로우징된(4) 및 퍼지된 빔 경로(14C)를 포함한다. 본원에 설명된 광학 컴포넌트 및 모듈은 수십억 펄스(14A)에 대해 3.5 x10
6 Watts/㎠ 이상의 피크 강도 및 1.75 x 10
6 Watts/㎠ 이상의평균 출력 펄스 강도로 200nm 이하의 파장을 갖춘 자외선 레이저 출력 펄스(14A)를 제어할 수 있는 데 이는 상기 펄스 강도에서 수분 후엔 고장나는 종래기술의 광학 컴포넌트 및 모듈과 비교된다.

公开(公告)号：KR100346940B1

公开(公告)日：2002-07-31

申请号：KR1019997007541

申请日：1998-02-17

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 파트로윌리엄엔. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  벅스다니엘엘. ,  네스리차드몬스

IPC: H01S3/00

CPC classification number: H03K17/80 ,  H01S3/0971 ,  H01S5/0428 ,  H03K3/57

Abstract: 자기펄스압축기회로의단에서의단의부정합으로인한 2차펄스를제거할수 있는고압펄스전력발생회로가기재되어있다. 상기펄스발생회로소스는비선형자기압축기회로(16)에주기적으로방전된고압전하저장소자(CO)를포함한다. 상기압축기회로의각각의단에연결된부정합교정회로(CRn)는단의부정합으로인한반사에너지를방전하고, 그반사에너지를부하에역으로전달되는것을방지한다. 바람직한실시예에서, 본발명의펄스전력발생회로는자기펄스압축기회로(16)의각각의단에연결된다이오드와저항을이용한다.

公开(公告)号：KR1020010041553A

公开(公告)日：2001-05-25

申请号：KR1020007009736

申请日：1999-02-16

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 노울레스데이비드에스. ,  아졸라제임즈에이치. ,  베샤우셀레헤르베에이. ,  다스팔라쉬피. ,  에르소브알렉산더아이. ,  주하스즈티보르 ,  네스리차드엠. ,  오자르스키로버트지. ,  파틀로웰리암엔. ,  로스웨일다니엘에이. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  유자즈도우스키리차드씨. ,  와트슨톰웨이 ,  포멘코프이고르브이.

IPC: H01S3/225

Abstract: 약 0.6pm이하의 대역폭을 가지고 1000Hz에서 10mJ 레이저 펄스를 생성할 수 있는 신뢰성있고 모듈화되고 생성력이 우수한 협대역 KrF 엑시머 레이저. 본 발명은 특히 집적회로의 리소그래피 제조에서의 장기간의 24 시간 연속동작에 적합하다. 종래 레이저보다 향상된 것은 단일 업스트림 예비전리기 튜브 및 음향 배플을 포함하는 것이다. 바람직한 실시예는 감소된 플루오르 농도, 블로워 베이링 상에 공기역학적 반작용력을 감소시키도록 형상화된 애노드 지지바, 빠른 펄스 상승 시간을 제공하는 변형된 펄스 전력 시스템, 실질적으로 증가된 반사율을 갖는 출력 커플러, CaF 프리즘 빔 익스팬더를 구비한 라인 협소화 모듈, 더욱 정확한 파장계, 새롭고 향상된 펄스 에너지 제어 알고리즘으로 프로그래밍된 레이저 컴퓨터 컨트롤러를 포함한다.

公开(公告)号：KR1020010012447A

公开(公告)日：2001-02-15

申请号：KR1019997010401

申请日：1999-02-23

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 뉴먼피터씨. ,  샌드스트롬리차드엘.

IPC: H01S3/13

CPC classification number: G01J9/0246 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1392 ,  H01S3/225

Abstract: 협대역레이저의파장을측정하고조절하는파장시스템. 시스템은파장에서의증분변화를측정하는웨이브미터(120)와웨이브미터(120)를측정하는원자파장기준(190)을포함한다. 원자파장기준(190)은원하는동작파장에가까운적어도하나의흡수선을가진증기를제공하는증기셀(194)을포함한다. 시스템은웨이브미터(120)를측정하기위해흡수선의파장에서동작하는레이저를조정하기에충분한조정범위를가진파장조정장치(36)를포함한다. 바람직한실시예에서레이저는 ArF 레이저이고증기는백금이며흡수선은 193,224.3pm이거나 293,436.9이다. 종래의기술장치에대한개선점은엘라스토머를사용하지않고에탈론에대한저응력 3점현수지지부를제공하는지지플랜지를가진개선된에탈론을포함한다.

Abstract translation: 测量和控制窄带激光器波长的波长系统。 该系统包括用于测量波长的增量变化的波长计120和用于测量波长计120的原子波长参考190。 原子波长参考（190）包括提供具有接近工作波长的至少一条吸收线的蒸气的蒸气室（194）。 该系统包括具有调谐范围的波长调谐装置36，该调谐范围足以校准在吸收线的波长处操作的激光器以测量波表120。 在一个优选实施例中，激光器是ArF激光器，蒸汽是铂，吸收线是193,224.3pm或293,436.9。 现有技术装置的改进包括具有支撑凸缘的改进标准具，其为标准具提供低应力三点悬挂支撑而不使用弹性体。

公开(公告)号：KR1020080066974A

公开(公告)日：2008-07-17

申请号：KR1020087013076

申请日：2006-10-20

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 에르쇼프알렉산더아이. ,  파틀로윌리엄엔. ,  브라운다니엘제이.더블유. ,  포멘코프아이고르브이. ,  베르그스테츠로버트에이. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  라로빅이반

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/225 ,  G03F7/70583 ,  H01S3/005 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/03 ,  H01S3/034 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/08059 ,  H01S3/10092 ,  H01S3/105 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2333

Abstract: A method and apparatus may comprise a line narrowed pulsed excimer or molecular fluorine gas discharge laser system which may comprise a seed laser oscillator producing an output comprising a laser output light beam of pulses which may comprise a first gas discharge excimer or molecular fluorine laser chamber; a line narrowing module within a first oscillator cavity; a laser amplification stage containing an amplifying gain medium in a second gas discharge excimer or molecular fluorine laser chamber receiving the output of the seed laser oscillator and amplifying the output of the seed laser oscillator to form a laser system output comprising a laser output light beam of pulses, which may comprise a ring power amplification stage wherein the output of the seed laser oscillator passes through the amplifying gain medium of the ring power amplification stage at least two times per loop.

Abstract translation: 一种方法和装置可以包括线变窄的脉冲准分子或分子氟气放电激光系统，其可以包括种子激光振荡器，其产生包括可以包括第一气体放电准分子或分子氟激光室的脉冲的激光输出光束的输出; 第一振荡器腔内的线窄模块; 在第二气体放电准分子或分子氟激光室中包含放大增益介质的激光放大级，其接收种子激光振荡器的输出并放大种子激光振荡器的输出，以形成激光系统输出，该激光系统输出包括：激光输出光束 脉冲，其可以包括环形功率放大级，其中种子激光振荡器的输出通过环形功率放大级的放大增益介质至少每循环两次。

公开(公告)号：KR100614500B1

公开(公告)日：2006-08-22

申请号：KR1019997010401

申请日：1999-02-23

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 뉴먼피터씨. ,  샌드스트롬리차드엘.

IPC: H01S3/13

CPC classification number: G01J9/0246 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1392 ,  H01S3/225

Abstract: 협대역 레이저의 파장을 측정하고 조절하는 파장 시스템. 시스템은 파장에서의 증분 변화를 측정하는 웨이브미터(120)와 웨이브미터(120)를 측정하는 원자 파장 기준(190)을 포함한다. 원자 파장 기준(190)은 원하는 동작 파장에 가까운 적어도 하나의 흡수선을 가진 증기를 제공하는 증기셀(194)을 포함한다. 시스템은 웨이브미터(120)를 측정하기 위해 흡수선의 파장에서 동작하는 레이저를 조정하기에 충분한 조정 범위를 가진 파장 조정 장치(36)를 포함한다. 바람직한 실시예에서 레이저는 ArF 레이저이고 증기는 백금이며 흡수선은 193,224.3pm이거나 293,436.9이다. 종래의 기술 장치에 대한 개선점은 엘라스토머를 사용하지 않고 에탈론에 대한 저응력 3점 현수 지지부를 제공하는 지지 플랜지를 가진 개선된 에탈론을 포함한다.
협대역 레이저, 파장 시스템, 웨이브 미터, 원자 파장 기준, 흡수선, 증기셀, 엘라스토머

公开(公告)号：KR100531581B1

公开(公告)日：2005-11-28

申请号：KR1020007001297

申请日：1998-07-31

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 샌드스트롬리차드엘. ,  다스팔라시피. ,  포멘코프이고르브이. ,  베샤우셀레헤르베에이. ,  오자르스키로버트지.

IPC: H01S3/10

Abstract: 마스크(36) 근처의 노광 시스템내에 위치된 제 1 광 강도 검출기(44) 및 레이저(12)의 출력부 근처에 위치된 제2 광 강도 검출기(46)를 구비한 스테퍼(20) 또는 스캐너와 같은 레이저가 조명되는 웨이퍼 노광 시스템. 피드백 제어 시스템은 상기 검출기중 적어도 하나에 의해 검출된 신호에 근거하여 레이저의 출력을 제어한다. 피드백 제어 시스템은 버스트 모드에서 동작하는 레이저에 마스크에서의 요구되는 강도를 가진 광 펄스를 제공하기 위해 레이저 방전 전압을 제어하기 위해 사용되는 알고리즘으로 프로그래밍된 프로세서를 포함한다. 상기 알고리즘은 적어도 다음의 파라미터를 사용한다; 이전에 측정된 펄스 에너지, 계산된 에너지 에러, 계산된 선량 에러, 전압을 갖는 펄스 에너지의 변화율에 대한 값, 및 적어도 하나의 기준 전압. 바람직한 실시예에서, 알고리즘은 레이저의 출력이 소정 범위내에서 유지되도록 하기 위해 레이저의 출력부에서 피드백 제어를 제공하여 광 강도 검출기를 사용하도록 마스크 근처에 위치된 광 강도 검출기로 측정된 펄스 에너지를 사용한다.

公开(公告)号：KR1020050020999A

公开(公告)日：2005-03-04

申请号：KR1020047020306

申请日：2003-05-23

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 샌드스트롬리차드엘. ,  멜치올존티. ,  라오라하세카르

IPC: H01S3/03

CPC classification number: G01J3/26 ,  G01J1/4257 ,  G01J1/429 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0205 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/024 ,  G01J3/027 ,  G01J9/02 ,  G01J9/0246 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/0071 ,  H01S3/02 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0401 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/097 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/1024 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

Abstract: 본 발명은 5mJ 이상의 펄스 에너지에서 2000Hz인 것 보다 큰 펄스율로 펄스된 자외선 레이저 시스템에서 장기 수명 빔 퀄리티를 모니터링할 수 있는 자외선 레이저용 파장계(7A)를 제공한다. 바람직한 실시예에서 향상된 조명 구성은 통상적인 종래기술 구성에 비해 에탈론(184)의 펄스 조명 당 28인 인수만큼 감소시킨다. 본 바람직한 실시예에서 에탈론에 의해 산출된 간섭 패턴을 측정하도록 위치된 선형 광다이오드 어레이(180)를 일루미네이팅하기 위해 필요한 양만큼으로만 에탈론에 입사하는 광을 감소시키는 광학기구가 제공된다. 본 실시예에서 빔 스플리터(173)의 두 표면으로부터의 반사에 의해 산출된 두 개의 샘플 빔은 확산성 디퓨저(181D)에 의해 확산되고 확산성 디퓨저의 출력은 스펙트럼적으로 등가인 두 확산 빔을 두 개의 개별 디퓨저에 효과적으로 조합하는 두 개의 개별 이차 디퓨저(181G, 181R)상에 포커싱된다. 하나의 빔은 파장 및 대역폭 측정에 사용되고 다른 빔은 교정을 위해 사용된다. 바람직한 실시예에서 에탈론 챔버는 1.6 내지 2.4 퍼센트사이의 산소 농도를 갖는 질소를 함유한다.

公开(公告)号：KR1020040032991A

公开(公告)日：2004-04-17

申请号：KR1020047003079

申请日：2002-08-16

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 왓슨톰에이. ,  우자즈도우스키리차드씨. ,  이바스첸코알렉스피. ,  샤논로버트에이. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  웨브로버트카일 ,  팔렌스차트프레데릭에이. ,  호프만토마스 ,  레티그커티스엘. ,  네스리차드엘. ,  멜체르폴씨. ,  에르쇼브알렉산더아이.

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/0385 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70333 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/0071 ,  H01S3/02 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/1024 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/137 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

Abstract: 본원발명은 초당 6,000-10,000 펄스 범위의 반복률에서 프로덕션 라인 커패시티내의 신뢰가능한 장기간 동작가능한 가스 방전 레이저 시스템을 제공한다. 바람직한 실시예는 포토리소그래피에 사용된 KrF, ArF, F
2 레이저로 구성되어 있다. 개선점에는 가스 플로를 증가시키기 위해 애노드(542) 바로 옆에 흡입 팬(555)이 포함된다. 팬(555)의 흡입구는 애노드(542)와 절연 스페이서(544B) 사이에 있다.

Abstract translation: 本发明提供了气体放电激光系统，其能够以6,000至10,0000个脉冲功率秒的重复率在生产线中进行可靠的长期操作。 优选实施例被配置为用于集成电路光刻的光源的KrF，ArF和F＆amp; SUB＆lt; /＆gt;激光器。 改进包括改进的高压电源，其能够将磁压缩脉冲电力系统的初始电容器充电至每秒6,000至10,0000次的精确目标电压，以及用于监测脉冲能量并且确定脉冲宽度调制器上的目标电压的反馈控制器， 逐个脉冲的基础。 公开了若干技术用于在放电之间的间隔期间从激光电极之间的放电区域去除放电产生的碎屑。 在一个实施例中，放电区域的宽度从大约3mm减小到大约1mm，使得针对4000Hz操作设计的气体循环系统可以用于10,000Hz操作。 在其他实施例中，电极之间的气流充分增加以允许10,000Hz的操作，放电区域宽度为3mm。 为了提供这些实质上增加的气体流速，申请人已经公开了利用现有技术的切向形式的优选实施例，但是具有改进的和更强大的电动机以及新颖的轴承设计。 新的轴承设计包括陶瓷轴承和磁性轴承。 在其他实施例中，气体循环功率中的一些或全部设置有位于激光室外部的鼓风机。 外部鼓风机可以位于激光柜内或分开的位置。

公开(公告)号：KR1020030041151A

公开(公告)日：2003-05-23

申请号：KR1020037004934

申请日：2001-09-25

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 마이어데이비드더블유. ,  베사우쉘레허브에이. ,  어쇼브알렉산더아이. ,  파틀로윌리암엔. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  다스팔라쉬피. ,  앤더슨스튜어트엘. ,  포멘코프이고브이. ,  우자츠도우스키리차드씨. ,  판지아오지앙제이. ,  온켈스에케하르트디. ,  네스리차드엠. ,  브라운다니엘제이.더블유.

IPC: H01S3/10

CPC classification number: H01S3/2366 ,  G01J9/00 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70333 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/137 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333

Abstract: 약 4,000Hz이상의 펄스율 및 약 5mJ이상의 펄스 에너지에서 고품질 펄스 레이저 빔을 발생시킬 수 있는 인젝션 시드 모듈 가스 방전 레이저 시스템. 두개의 분리된 방전 챔버(10A, 12B)가 제공되고, 그 중하나는 두번째 방전 챔버(12)에서 증폭되는 초협대역 살포 빔을 발생시키는 마스터 발진기(10)의 부분이다. 챔버(10A, 12A)는 마스터 발진기(10)에서 파장 파라메터 및 증폭 챔버(12A)에서 펄스 에너지 파라메터의 분리된 최적화를 분리되어 허용하도록 제어될 수 있다. MOPA로서 구성되고 집적회로 리소그래피를 위하여 광원으로서 사용을 위해 특별히 디자인된 ArF엑시머 레이저 시스템에서 바람직한 실시예. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버(10A, 12A)는 펄스간 약 0.25밀리초보다 더 적은시간에서 방전 영역으로 부터찌꺼기를 정화함으로써 4,000Hz이상의 펄스율에 동작을 허용하도록 충분한 가스 흐름(11)을 제공하는 단일의 탄젠셜 팬을 포함한다. 마스터 발진기(10)는 0.2pm이하의 정확도로 4,000Hz 이상의 반복율에서 펄스 대 펄스 기반에서 중심 라인 파장을 제어할 수 있는 매우 빠른 튜닝 미러를 가지는 라인 내로우잉 패키지(16, 16A)를 장착한다.

Abstract translation: 一种注入式模块化气体放电激光系统，能够以大约4,000Hz或更高的脉冲速率和大约5mJ或更大的脉冲能量产生高质量脉冲激光束。 提供了两个独立的放电室，其中一个是主振荡器的一部分，产生在第二放电室中放大的非常窄带的种子束。 这些室可以分开控制，允许主振荡器中的波长参数的单独优化和放大室中的脉冲能量参数的优化。 ArF准分子激光系统中的一个优选实施例被配置为MOPA并且被专门设计用作集成电路光刻的光源。 在优选的MOPA实施例中，每个腔室包括单个切向风扇，该单个切向风扇提供足够的气流以允许通过在比脉冲之间的大约0.25毫秒更少的时间内清除来自放电区域的碎片而以4000Hz或更大的脉冲速率进行操作。 主振荡器配备有线变窄的封装，该封装具有非常快速的调谐反射镜，其能够以4000Hz或更高的重复率以脉冲至脉冲的方式控制中心线波长，精度低于0.2μm。