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公开(公告)号:DE102011053819A1
公开(公告)日:2012-04-05
申请号:DE102011053819
申请日:2011-09-21
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: HIRLER FRANZ , MAUDER ANTON , SANTOS RODRIGUEZ FRANCISCO JAVIER DR , SCHULZE HANS-JOACHIM , TIMME HANS-JOERG
IPC: H01L21/8258 , H01L27/06
Abstract: In einer Ausführungsform beinhaltet ein Verfahren zum Ausbilden eines Halbleiterbauelements das Ausbilden einer ersten porösen Halbleiterschicht (110)). Eine erste Epitaxieschicht (120) wird über der ersten porösen Halbleiterschicht (110) ausgebildet. Eine Schaltungsanordnung wird in und über der ersten Epitaxieschicht (120) ausgebildet. Die Schaltungsanordnung wird ohne vollständiges Oxidieren der ersten Epitaxieschicht (120) ausgebildet.
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公开(公告)号:DE59911769D1
公开(公告)日:2005-04-21
申请号:DE59911769
申请日:1999-08-27
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
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公开(公告)号:DE10045090A1
公开(公告)日:2002-03-28
申请号:DE10045090
申请日:2000-09-12
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: AIGNER ROBERT , ELBRECHT LUEDER , MARKSTEINER STEPHAN , NESSLER WINFRIED , TIMME HANS-JOERG
Abstract: The resonator comprises a first electrode (E1), a second electrode (E2) and a piezoelectric layer (P) arranged between the above. A first acoustic compression layer (V1) is arranged between the piezoelectric layer (E1) and the first electrode (E1) with a higher acoustic impedance than the first electrode (E1).
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公开(公告)号:DE19947081A1
公开(公告)日:2001-04-05
申请号:DE19947081
申请日:1999-09-30
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: AIGNER ROBERT , ELBRECHT LUEDER , MARKSTEINER STEPHAN , SAENGER ANNETTE , TIMME HANS-JOERG
Abstract: The acoustic mirror is essentially comprised of at least one first insulating layer (Il'), a first metal layer (M1') arranged thereon, a second insulating layer arranged thereon (I2') and a second metal layer (M2') arranged thereon. An auxiliary layer (H') is produced on the first insulating layer (I1') whereby a recess (V') extending as far as the first insulating layer (I1') is created therein. The first metal layer (M1') is substantially deposited and removed by chemical/mechanical polishing until the parts of the first metal layer (M1') arranged outside the recess (V') are no longer present. The second metal layer (M2') is also produced in a recess (V') with the aid of chemical/mechanical polishing. More than two insulating layers (I1', I2') and two metal layers (M1', M2') can be provided. The first metal layer (M1') and the second metal layer (M2') can be produced in the same recess (V').
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公开(公告)号:DE102014106132B4
公开(公告)日:2020-06-04
申请号:DE102014106132
申请日:2014-04-30
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: EDER HANNES , ENGELHARDT MANFRED , ESCHER-POEPPEL IRMGARD , FUERGUT EDWARD , TIMME HANS-JOERG
IPC: H01L21/306 , H01L21/301 , H01L21/56
Abstract: Verfahren zur Verarbeitung einer Mehrzahl von gehäusten elektronischen Chips (108, 306), die in einem gemeinsamen Substrat (102) miteinander verbunden sind, wobei das Verfahren umfasst:• Ätzen der elektronischen Chips (108, 306);• Detektieren von Informationen, welche eine wenigstens teilweise Entfernung einer Indikatorstruktur (110) nach einer Freilegung der Indikatorstruktur (110) anzeigen, die innerhalb wenigstens eines Teils der elektronischen Chips (108, 306) eingebettet ist und freigelegt wird, nachdem das Ätzen Chipmaterial über der Indikatorstruktur (110) entfernt hat; und• Einstellen der Verarbeitung bei Detektieren der Informationen, welche die wenigstens teilweise Entfernung der Indikatorstruktur (110) anzeigen, wobei das Detektieren von Informationen ein Analysieren eines flüchtigen Stoffs (1000) in einer Umgebung der elektronischen Chips (108, 306) umfasst, wobei der flüchtige Stoff (1000) von einem Ätzprodukt beeinflusst wird, das durch die Entfernung von Material der Indikatorstruktur (110) aus den elektronischen Chips (108, 306) durch das Ätzen generiert wird.
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公开(公告)号:DE102014115937A1
公开(公告)日:2015-05-07
申请号:DE102014115937
申请日:2014-11-03
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: HEINRICH ALEXANDER , SCHERL PETER , HOIER MAGDALENA , TIMME HANS-JOERG
Abstract: Ein Elektronikbauelement kann ein Halbleiterelement und einen Drahtbond, der das Halbleiterelement mit einem Substrat verbindet, umfassen. Das Verwenden eines gewebten oder gedrillten Bonddrahts kann die mechanischen und elektrischen Eigenschaften des Drahtbonds verbessern. Zudem kann es einen Kostenvorteil geben. Gewebte Bonddrähte können in einem beliebigen Elektronikbauelement verwendet werden, beispielsweise in Leistungsbauelementen oder integrierten Logikbauelementen.
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公开(公告)号:DE102013104952A1
公开(公告)日:2013-11-14
申请号:DE102013104952
申请日:2013-05-14
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: FUERGUT EDWARD , HOSSEINI KHALIL , MAHLER JOACHIM , TIMME HANS-JOERG
Abstract: Bei einer Ausführungsform enthält ein Halbleiterpackage einen vertikalen Halbleiterchip (20) mit einer ersten Hauptoberfläche auf einer Seite des vertikalen Halbleiterchips (20) und einer zweiten Hauptoberfläche auf einer gegenüberliegenden Seite des vertikalen Halbleiterchips (20). Die erste Hauptoberfläche enthält ein erstes Kontaktgebiet, und die zweite Hauptoberfläche enthält ein zweites Kontaktgebiet. Der vertikale Halbleiterchip (20) ist eingerichtet zum Regeln des Stromflusses von dem ersten Kontaktgebiet zu dem zweiten Kontaktgebiet entlang einer Stromflussrichtung. Ein rückseitiger Leiter ist an dem zweiten Kontaktgebiet der zweiten Hauptoberfläche angeordnet. Das Halbleiterpackage enthält weiterhin ein erstes Kapselungsmittel (50), in dem der vertikale Halbleiterchip (20) und der rückseitige Leiter angeordnet sind.
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公开(公告)号:DE50114591D1
公开(公告)日:2009-01-29
申请号:DE50114591
申请日:2001-05-22
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: AIGNER ROBERT , MARKSTEINER STEPHAN , NESSLER WINFRIED , ELBRECHT LUEDER , TIMME HANS-JOERG
Abstract: Production of a layer having a locally adapted and/or predefined layer thickness profile comprises applying a layer onto a substrate; determining a removal profile for the applied layer; and guiding an ion beam once over the layer so that the layer is locally etched at the site of the ion beam corresponding to the removal profile and a layer having a locally adapted and/or predefined layer thickness profile is produced. Preferably the spread of the ion beam is more than 1, preferably more than 5 mm, or less than 100 mm, preferably less than 50 mm. The ion beam is an argon ion beam with a gauss-like current density distribution. The ion beam is guided in traces over the layer and the trace distance is less than the half-width spread of the beam.
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公开(公告)号:ES2276835T3
公开(公告)日:2007-07-01
申请号:ES01976209
申请日:2001-09-10
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: AIGNER ROBERT , ELBRECHT LUEDER , MARKSTEINER STEPHAN , NESSLER WINFRIED , TIMME HANS-JOERG
IPC: H03H9/17
Abstract: Resonador acústico con un primer electrodo (E1), un segundo electrodo (E2) y una capa piezoeléctrica (P) dispuesta en medio, disponiéndose entre el primer electrodo (E1) y la capa piezoeléctrica (P) una primera capa de compresión acústica (V1), que presenta una mayor impedancia acústica que el primer electrodo (E1), caracterizado porque la razón de la impedancia acústica de la primera capa de compresión acústica (V1) respecto a la impedancia acústica de la capa piezoeléctrica (P) es mayor que 2.
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公开(公告)号:AT345593T
公开(公告)日:2006-12-15
申请号:AT01976209
申请日:2001-09-10
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: AIGNER ROBERT , ELBRECHT LUEDER , MARKSTEINER STEPHAN , NESSLER WINFRIED , TIMME HANS-JOERG
IPC: H03H9/17
Abstract: The resonator comprises a first electrode (E1), a second electrode (E2) and a piezoelectric layer (P) arranged between the above. A first acoustic compression layer (V1) is arranged between the piezoelectric layer (E1) and the first electrode (E1) with a higher acoustic impedance than the first electrode (E1).
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