-
公开(公告)号：KR1020100094360A
公开(公告)日：2010-08-26
申请号：KR1020100011525
申请日：2010-02-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67051 , B24C7/0046 , H01L21/02057 , Y10S134/902
Abstract: PURPOSE: A method for cleaning substrates, an apparatus for cleaning the substrates, and a computer-readable storage media are provided to clean the substrates by colliding cleaning particles in dry air or flowing inert gas to the substrates. CONSTITUTION: An external chamber(2) receives substrates. A cleaning nozzle-arm housing houses a cleaning nozzle-arm(31). A rinse liquid nozzle-arm housing houses a rinse liquid nozzle-arm(32) for supplying rinse liquid. A spin chuck(12) is loaded in an inner cup(11) for supporting substrates. An under plate(13) upwardly and downwardly moves in order to correspond to the substrates which are supported by the spin chuck.
Abstract translation: 目的：提供一种清洁基板的方法，用于清洁基板的装置和计算机可读存储介质，以通过将干燥空气中的清洁颗粒碰撞或将惰性气体流到基板来清洁基板。 构成：外部室（2）接收衬底。 清洁喷嘴臂壳体容纳清洁喷嘴臂（31）。 冲洗液体喷嘴臂壳体容纳用于供应冲洗液体的冲洗液体喷嘴臂（32）。 旋转卡盘（12）装载在用于支撑基底的内杯（11）中。 向下和向下移动底板（13）以对应于由旋转卡盘支撑的基板。
-
公开(公告)号：KR1020070101768A
公开(公告)日：2007-10-17
申请号：KR1020070030913
申请日：2007-03-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67057 , B08B3/048 , B08B3/12
Abstract: A substrate cleaning method, a substrate cleaning apparatus and a program recording medium are provided to improve a particle removing efficiency on a substrate by using an ultrasonic wave generating process. A process object substrate is dipped into a cleaning solution, wherein the cleaning solution is stored in a cleaning bath(12). An ultrasonic wave is generated in the cleaning solution of the cleaning bath. The ultrasonic wave is applied to the cleaning solution of the cleaning bath, while the cleaning solution is supplied into the cleaning bath. The ultrasonic wave generating process is performed under various period conditions. An amount of supplying the cleaning solution in one period of the ultrasonic wave generating process is different from that in another period of the ultrasonic wave generating process.
Abstract translation: 提供基板清洗方法，基板清洁装置和程序记录介质，以通过使用超声波产生处理来提高基板上的颗粒去除效率。 将处理对象基板浸入清洁溶液中，其中清洁溶液存储在清洗浴（12）中。 在清洗槽的清洗液中产生超声波。 将超声波施加到清洗槽的清洗液中，同时将清洗液供给到清洗槽中。 在各种周期条件下进行超声波发生处理。 在超声波发生处理的一个周期内供给清洗液的量与超声波发生处理的其他期间不同。
-
公开(公告)号：KR1019990066684A
公开(公告)日：1999-08-16
申请号：KR1019980017563
申请日：1998-05-15
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 본 발명은, 반송척의 세정 및 건조처리를 높은 효율로서 양호하게 행하는 반송척의 세정장치 및 세정방법을 제공한다.
본 발명은 세정유니트 내에 설치된 반송로보트와의 사이에서 세정 전후의 복수의 피처리기판을 주고받는 반송척과, 이 반송척기구를 내부에서 세정하여 건조하는 세정·건조처리부를 구비하고, 상기 반송척은 복수의 피처리기판을 파지하는 좌우의 가로로드 및 각각을 수평으로 지지하는 세로로드를 가지며, 상기 세정·건조처리부는 세정액을 토출하는 수단 및 건조용 가스를 공급하는 수단을 구비하는 반송척의 세정장치에 있어서, 상기 가스공급수단은, 상기 각 세로로드의 좌우 양측에 그 하단으로부터 기초부에 걸쳐 각각 세워 설치된 2쌍의 가스배관과, 이들 가스배관의 전체 길이에 걸쳐 여러개씩 형성된 가스분사구멍과, 이들 가스분사구멍을 가지는 상기 각 가스배관을 상기 각 가로로드를 따라 일체적으로 이동시키는 구동수단을 가진다.-
公开(公告)号：KR1019970023891A
公开(公告)日：1997-05-30
申请号：KR1019960044985
申请日：1996-10-10
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 회로 패턴이 형성될 전면이 실질적으로 수직이 되도록 배열한 복수의 반도체 웨이퍼를 세정처리하는 기판세정방법은, (a) 카세트내에 수납된 복수매의 웨이퍼를 카세트로부터 일괄적으로 취출하고, (b)서로 인접한 웨이퍼의 전면 끼리를 비접촉으로 서로 마주보게 함과 아울러, 서로 인접한 웨이퍼의 배면 끼리도 비접촉으로 서로 마주보게 하고, 서로 마주보고 있는 전면간의 피치간격(L
1 )의 쪽을 서로 마주보고 있는 배면간의 간격(L
2 )보다 크게 설정하며, (C)이와 같이 배열한 복수의 기판을 일괄적으로 약물중에 침적하고, (d)약물을, 복수의 기판의 서로 마주보고 있는 전면 사이 및 서로 마주보고 있는 배면 사이로 흘려보낸다.-
公开(公告)号：KR102159840B1
公开(公告)日：2020-09-24
申请号：KR1020140023586
申请日：2014-02-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020160104599A
公开(公告)日：2016-09-05
申请号：KR1020160107534
申请日：2016-08-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/683
CPC classification number: H01L29/1608 , B05B1/36 , B05B15/555 , B05B15/557 , B08B3/102 , B08B9/0321 , B08B9/0328 , H01L21/67051 , H01L29/7813 , H01L21/02052 , H01L21/67017 , H01L21/67057 , H01L21/67126 , H01L21/6715 , H01L21/6835
Abstract: 실시예에따른기판처리장치는, 기판을처리하는기판처리장치로서, 상기기판을둘러싸는회수컵을포함하고, 상기기판을보지하는기판보지부와, 상기회수컵의내측에서상기기판보지부의상방에배치되고, 상기기판을향하여처리액을토출하는토출기구와, 상기토출기구를상기기판보지부의상방으로부터상기회수컵 외측의위치로이동시키는암 및선회승강기구와, 상기회수컵의외측에배치되고, 상기토출기구의선단면이침지되는세정액을저류하는저류조와, 상기세정액이상기저류조로부터배출된후에, 상기토출기구의상기선단면에잔류하는상기세정액을제거하는기체분출부를구비하고, 상기기체분출부가상기저류조내에있어서상기토출기구를향하여기체를분출한다.
Abstract translation: 本发明的目的是提供一种清洁排出装置的基板处理装置和方法，能够从前端到上部清洁喷嘴而不发生凹凸。 根据本发明的一个实施例，基板处理装置是用于处理基板的基板处理装置，包括：基板保持单元，其包括围绕基板的回收杯，并保持基板; 排出装置，其设置在所述回收杯内部的所述基板保持单元的上侧，并且向所述基板排出处理溶液; 臂和旋转和升降装置，用于将排出装置从衬底保持单元的上侧移动到回收杯的外部的位置; 储存罐，其设置在所述回收杯的外侧，并且存储所述排出装置的前表面浸没的清洗液; 以及气体注入单元，用于在清洁溶液从储罐排出之后，去除排出装置的前表面上残留的清洁溶液。 气体注入单元向储罐中的排出装置注入气体。
-
47.发明授权
公开(公告)号：KR101580707B1
公开(公告)日：2015-12-28
申请号：KR1020110109178
申请日：2011-10-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67115 , H01L21/02052 , H01L21/02057 , H01L21/67028 , H01L21/67051
Abstract: 본발명은처리액에의해처리한후, 기판을린스처리할때에, 처리액이기판에잔류하는것을방지할수 있어, 처리시간을단축할수 있는액 처리방법및 액처리장치를제공하는것을목적으로한다. 기판을처리액에의해처리하는본 발명의액 처리장치(10)는, 기판을유지하는기판유지부(30, 40)와, 기판유지부(30, 40)에유지되어있는기판에처리액을공급하는처리액공급부(70)와, 기판에린스액을공급하는린스액공급부(80)와, 기판만이흡수하는파장영역의광을발광하고, 발광한광을기판에조사하는발광소자(112)를갖는다.
-
公开(公告)号：KR1020120100803A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：KR1020120021826
申请日：2012-03-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/306 , H01L21/67
CPC classification number: H01L21/30604 , H01L21/6708
Abstract: PURPOSE: An etching method, an etching apparatus, and a storage medium are provided to obtain a high etching rate of a silicon nitride film by pre-heating a substrate with heated H2SO4 before an etching process. CONSTITUTION: Aspin chuck(10) comprises a substrate holding part(14) and a rotation driving part(16). A cup(18) receiving a processing liquid distributed from a wafer is installed around the substrate holding part. A chemical liquid nozzle(20) supplies a chemical liquid to the wafer. A chemical liquid supply tool(26) comprises a sulfuric acid supply system(30) and a supply system(40). A pump(33) and a heater(34) are installed in a circulation duct(32) of the sulfuric acid supply system.
Abstract translation: 目的：提供蚀刻方法，蚀刻装置和存储介质以通过在蚀刻工艺之前用加热的H 2 SO 4预热衬底来获得氮化硅膜的高蚀刻速率。 构成：阿斯班卡盘（10）包括基板保持部（14）和旋转驱动部（16）。 接收从晶片分配的处理液的杯（18）安装在基板保持部分周围。 化学液体喷嘴（20）向晶片供应化学液体。 化学液体供应工具（26）包括硫酸供应系统（30）和供应系统（40）。 泵（33）和加热器（34）安装在硫酸供应系统的循环管道（32）中。
-
公开(公告)号：KR101124049B1
公开(公告)日：2012-03-26
申请号：KR1020077025994
申请日：2006-06-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/02057 , H01L21/67028 , H01L21/67034 , H01L21/67051 , H01L21/67057
Abstract: 본 발명은 반도체 웨이퍼 등의 기판을 세정, 건조시키기 위한 기판 처리 장치는 저류된 순수에 기판을 침지시켜 처리하는 액 처리부와, 액 처리부의 위쪽에 마련되어 기판을 건조시키는 건조 처리부와, 액 처리부와 건조 처리부 사이에서 기판을 반송하는 기판 반송 장치와, 순수의 수증기 또는 미스트와 휘발성 유기 용제의 증기 또는 미스트로 이루어진 혼합 유체를 상기 건조 처리부에 공급하는 유체 공급 기구와, 혼합 유체의 공급을 제어하는 제어부를 포함한다.
Abstract translation: 本发明是用于清洁和干燥基板的基板处理装置，例如一个半导体晶片，并通过浸渍在存储净的基板进行处理的液处理单元，干燥部，其得出的液体处理部的顶部干燥所述基材，所述液体处理和干燥 和处理部分之间的基板传送的基板传送装置，其中包括水蒸汽或雾和蒸气或纯流体供应的挥发性有机溶剂的雾的混合流体被供给到干燥部的装置和用于控制流体混合物的供给的控制部 它包括。
-
公开(公告)号：KR1020110038000A
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：KR1020110020020
申请日：2011-03-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67057 , B08B3/048 , B08B3/12
Abstract: PURPOSE: A method and device for cleaning a substrate, and a program recording medium are provided to remove particles from the surface of a substrate by generating an ultrasonic wave in the cleaning solutions and immersing the substrate in the cleaning solutions. CONSTITUTION: A cleaning bath(12) stores cleaning solutions and receives a substrate which is erected. An ultrasonic generator(30) generates an ultrasonic wave in the cleaning solutions of the cleaning bath. A cleaning solution supply device(40) supplies the cleaning solutions to the cleaning bath. The cleaning solution supply device supplies the cleaning solutions from the lower side of the cleaning bath and the cleaning solutions are discharged through the upper opening of the cleaning bath.
Abstract translation: 目的：提供一种用于清洗基板的方法和装置，以及程序记录介质，用于通过在清洁溶液中产生超声波并将基板浸入清洁溶液中以从基板表面去除颗粒。 构成：清洁浴（12）存储清洁溶液并接收竖立的基底。 超声波发生器（30）在清洗槽的清洗液中产生超声波。 清洁溶液供应装置（40）将清洁溶液供应到清洗浴。 清洗液供给装置从清洗槽的下侧供给清洗液，清洗液通过清洗槽的上部开口排出。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
65
records
(took 0.028 seconds)
