公开(公告)号：KR100163361B1

公开(公告)日：1999-02-01

申请号：KR1019930003345

申请日：1993-03-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 혼다요시유키 ,  무카이에이이치 ,  가미카와유우지 ,  구로다고오키 ,  니시미쓰오

IPC: H01L21/304

Abstract: 세정장치는, 반도체 웨이퍼를 약액으로 세정하고, 물로 씻고, 건조하는 웨이퍼 세정처리부와, 웨이퍼 수납용의 카세트를 물로 씻고, 건조하는 카세트 세정처리부와, 카세트로부터 웨이퍼를 꺼내고, 웨이퍼를 웨이퍼 세정처리부에 로드하는 로더부와, 카세트에 웨이퍼를 수용하고, 웨이퍼를 웨이퍼 세정처리부로부터 언로드하는 언로더부와, 웨이퍼를 웨이퍼 세정처리부내에서 반송하는 웨이퍼 반송기구와, 카세트를 로더부로부터 카세트 세정처리부에 반송하는 카세트 리프터와, 카세트를 카세트 세정처리부내에서 와이어 구동기구를 가진다.

公开(公告)号：KR100151149B1

公开(公告)日：1998-12-01

申请号：KR1019900001632

申请日：1990-02-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 사까이히로시

IPC: G01F3/22

CPC classification number: G01F5/00

Abstract: 내용 없음.

公开(公告)号：KR1019960010093A

公开(公告)日：1996-04-20

申请号：KR1019950029397

申请日：1995-09-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 모토다기미오 ,  다테야마기요히사

IPC: B05C5/00

Abstract: 본 발명은, 회전되는 피처리 기판에 도포액을 도포하는 도포장치 및 그 방법에 관한 것으로, 위쪽 개구를 가지는 윗쪽과 이래쪽 개구를 가지는 바닥벽과, 위쪽 개구를 폐쇄하는 폐쇄부를 가지고 회전축을 중심으로 하여 회전가능한 회전용기와, 이 회전용기의 안에 승강 및 상기 회전축을 중심으로 하여 회전이 자유롭게 위치하고, 위에 피처리 기판을 지지하는 회전 얹어놓는대와, 피처리 기판위에 도포액을 도포하는 도포액 공급수단과, 상기 회전용기의 폐쇄부에 설치되고, 회전용기의 내면에 세정액을 뿜어 칠하기 위한 세정액 공급수단과, 상기 회전 얹어놓는대와 회전용기의 바닥벽과의 사이에, 상기 아래쪽 개구를 둘러싸도록 설치되고, 회전 얹어놓는대와 회전용기의 바닥벽과의 사이를 시일가능한 시일부재와, 상기 회전용기와 회전 얹어놓는대 를, 이들이 함께 회전하도록 접속하는 수단과, 상기 회전용기와 회전 얹어놓는대를 회전시키는 수단을 구비하는 도포장치를 제공할 수가 있어 구조가 간단하고, 회전 얹어놓는대와 회전용기와의 사이의 시일부가 마모되는 일이 없는 특징이 있다.

公开(公告)号：KR1019960009054A

公开(公告)日：1996-03-22

申请号：KR1019950024425

申请日：1995-08-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  모토다기미오 ,  세키구치겐지 ,  오모리츠타에

IPC: H01L21/312 ,  H01L21/027 ,  G03F7/06

Abstract: 처리용기 내에 수용된 기판을, 처리용기와 함께 회전시키면서, 상기 기판의 면위에 도포액을 공급하여 도포막을 형성하는 도포막 형성방법은, 기판의 면위에 용제를 도포하는 공정과, 기판에 도포액을 공급하는 공정과, 기판 및 처리용기를 제1의 회전수로 회전시켜서, 도포액을 기판의 면위에서 확산시키는 공정과, 처리용기를 뚜껑체로 폐쇄하고, 기판을 처리용기내에 봉입하는 공정과, 뚜껑체가 구비된 처리용기 및 기판을 제2의 회전수로 회전시켜서, 도포막의 막두께를 조정하는 공정을 가진다.

公开(公告)号：KR1019950015707A

公开(公告)日：1995-06-17

申请号：KR1019940030418

申请日：1994-11-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 사카모토야스히로 ,  아키모토마사미 ,  다데야마기요히사 ,  기다무라신지

IPC: H01L21/68

Abstract: 피처리체를 반송가능하게 구성된 기판 반송기구의 아암에 피처리체의 가장자리부를 복수개소로 지지하는 복수의 네일을 설치함과 동시에 이들 각 네일의 바깥쪽 윗쪽에 피처리체 가장자리 근처의 아래면에 맞닿고, 이들을 지지하는 적어도 한개 이상의 돌기형상의 흡착부를 설치하고 있다, 따라서, 피처리체는 처리공정마다 주변부 지지수단인가 또는 진공흡착수단인가의 어느쪽인가 선택되어 소망의 반송을 할 수 있다, 더구나, 아암의 동작범위를 제어변경함으로써, 아암을 교환하는 일 없이 대응할 수 있다, 따라서, 각 처리기구에서의 피처리체의 주고받기를 원활하게 하고 효율좋게 일련에 처리를 할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019950012620A

公开(公告)日：1995-05-16

申请号：KR1019940028108

申请日：1994-10-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 가와카미야스노리 ,  후쿠다다카히데 ,  후지모토아키히로 ,  다케쿠마다카시 ,  난부미쓰히로 ,  이이다나루아키 ,  고토히데아키 ,  다테야마마사노리 ,  요시모토유지 ,  이시모토도모코 ,  야스에가시히데타미

IPC: H01L21/302

Abstract: 본 발명은, 낱장처리에 의하여 피처리체에 처리액을 도포하는 도포처리부로부터 피처리체를 피처리체 유지부재로 옮기는 제1의 이송수단 및 복수의 피처리체 유지부재르 부착 및 이탈가능하게 얹어놓음과 함께 복수의 피처리체 유지수단을 동시에 이동하는 이동수단을 가지는 인터페이스부와, 이동수단에 얹어놓인 피처리체 유지수단과, 도포처리가 행해진 복수의 피처리체에 배치처리체 의하여 열처리를 행하는 열처리부에 옮기는 제2의 이송수단을 가지는 열처리부를 구비하는 기판처리장치를 제공한다.

公开(公告)号：KR1019950007012A

公开(公告)日：1995-03-21

申请号：KR1019940019357

申请日：1994-08-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 구로다고오키

IPC: H01L21/304

Abstract: 반도체 웨이퍼의 세정시스템은, 처리베셀을 가지는 약액세정부를 구비한다. 처리베셀내에는 50매의 웨이퍼를 한번에 유지하기 위한 홀더가 설치된다. 홀더에는 웨이퍼의 주연부를 수용하는 50개의 홈이 형성된다. 50개의 웨이퍼는 한 쌍의 개폐아암을 구비하는 척에 의하여 일괄하여 홀더에 대하여 접수된다. 각 아암에는 웨이퍼의 가장자리부를 수용하는 50개의 홈이 형성된다. 웨이퍼를 접수하기 위한 상대위치 기준으로부터 척과 홀더와의 상대 위치의 어긋남을 수정하기 위하여 양 끝 단부에 촬상부를 구비한다. 각 촬상부는 척의 홈과 이것에 대응하는 홈을 동시에 촬상한다. 촬상된 양홈은 모니터상의 동일좌표내에 중첩되어 표시된다. 촬상된 양홈의 상의 어긋남을 수정하도록 척과 홀더를 상대적으로 움직이고, 상대 위치기준으로부터 현상대위치의 어긋남을 수정한다.

公开(公告)号：KR1019940018927A

公开(公告)日：1994-08-19

申请号：KR1019940001584

申请日：1994-01-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 하라다고지 ,  사토다카미 ,  아나이노리유키 ,  노무라마사후미 ,  오모리쓰다에

IPC: H01L21/304

公开(公告)号：KR1019940017973A

公开(公告)日：1994-07-27

申请号：KR1019930029478

申请日：1993-12-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 가미카와유지

IPC: H01L21/304

Abstract: IPA증기를 웨이퍼에 접속시켜, 웨이퍼로부터 부착액을 제거하는 기판 건조장치로서, IPA를 저류하는 조와, 이 조내의 IPA를 공급하는 공급기구와, 조내의 IPA를 배출하는 배출기구와, 조내의 IPA내의 웨이퍼를 침적시키는 승강보트와, 조의 외부바닥면에 접촉가능하게 설치되고, 열 전달에 의하여, 조내의 IPA를 가열하는 가열블록과, IPA와 냉각수와의 사이에서 열교환하도록 조내의 설치되고, 배출되기 위한 IPA를 냉각수에 의하여 냉각하는 순행시스템을 가진다.

公开(公告)号：KR1019940016548A

公开(公告)日：1994-07-23

申请号：KR1019930030041

申请日：1993-12-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 요코미조겐지 ,  다시마지하야 ,  무카이에이이치 ,  혼다요시유키 ,  하라무라나오히코 ,  무라카미신야 ,  쵸노야스히로

IPC: H01L21/304

Abstract: 기판 세정 장치는, 여러개의 기판을 세정하기 위한 세정액이 수용된 처리탱크와, 이 처리탱크내에 여러개의 기판을 서로 평행하게 유지하는 보트와, 처리탱크의 저부에 뚫린 액공급구와, 이 액공급구에 통하게 되어 액공급구를 통하여 처리탱크내에 세정액을 공급하는 액공급 시스템과, 보트에 유지된 여러개의 기판과 상기 액공급구와의 사이에 설치되고, 세정액을 통류시키기 위한 여러개의 구멍을 가지는 정류판을 가진다. 이들 여러개의 구멍은 기판의 배열을 따라서 직렬로 나란한 여러개의 열(列)을 형성하고, 각 열의 구멍은 기판에 대하여 1개 걸러서 위치하며, 또, 그 옆열의 구멍과 위치가 어긋나도록 배열되어 있다.