公开(公告)号：KR1020110128766A

公开(公告)日：2011-11-30

申请号：KR1020110106232

申请日：2011-10-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키 ,  키무라요시오 ,  우에다이세이 ,  이토히카루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/00 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/0273

Abstract: PURPOSE: A coating and developing apparatus and a substrate processing apparatus are provided to save a space by forming a reflection preventing layer on the top and bottom of a resist film. CONSTITUTION: A substrate(W) is carried by a carrier and is received in the processing block. The coating film including the resist film is formed in the processing block. The substrate is exposed by light through an interface which is connected to the opposite side of the carrier block against a corresponding processing block and is carried. The substrate, which returns through an interface block(S3) after being exposed by light, is developed in the processing block and received in the carrier block. The processing block includes a laminated unit block for forming a plurality of coating films and a laminated unit block for developing and processing.

Abstract translation: 目的：通过在抗蚀膜的顶部和底部形成反射防止层来提供涂覆和显影装置和基板处理装置以节省空间。 构成：衬底（W）由载体承载并被接收在处理块中。 在处理块中形成包括抗蚀剂膜的涂膜。 衬底通过接口暴露，该接口与载体块的相反侧相对于相应的处理块连接并被承载。 在光被曝光之后通过界面块（S3）返回的衬底在处理块中显影并被接收在载体块中。 处理块包括用于形成多个涂膜的层压单元块和用于显影和加工的层压单元块。

公开(公告)号：KR101061913B1

公开(公告)日：2011-09-02

申请号：KR1020070074479

申请日：2007-07-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토가즈히사 ,  가네코사토시 ,  아키모토마사미 ,  도시마다카유키 ,  이토노리히로

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/08

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67173

Abstract: 액 처리 시스템은 기판(W)에 처리액을 공급하여 액 처리를 행하는 복수의 액 처리 유닛(22)이 수평으로 배치된 액 처리부(21b)와, 액 처리부의 복수의 액 처리 유닛으로 공급하는 처리액을 저장하는 처리액 저장부(21h)와, 처리액 저장부로부터 복수의 액 처리 유닛으로 처리액을 유도하는 공급 배관을 갖는 배관 유닛(21f)과, 액 처리부, 처리액 저장부 및 배관 유닛을 수용하는 공통의 케이스(21)를 구비한다. 처리액 저장부, 배관 유닛 및 액 처리부는 아래쪽에서부터 이러한 순서로 배치되며, 배관 유닛의 공급 배관은 복수의 액 처리 유닛의 배열 방향을 따라 수평으로 연장되는 수평 배관부(70a)를 가지며, 수평 배관부로부터 액 처리 유닛으로 처리액이 각각 도입된다.

Abstract translation: 液体处理系统包括：液体处理单元21b，其中水平布置有用于向基板W供给处理液并进行液体处理的多个液体处理单元22; 用于储存液体的处理液储存部分21h，具有用于将处理液从处理液储存部分引导至多个液体处理单元的供应管道的管道单元21f， 还有一个普通的情况（21）用于容纳它。 处理液储存部，配管单元，并且液体处理部从在该顺序的底部设置，配管单元的供给管具有沿着所述多个液体处理单元的排列方向，水平管道水平延伸的水平配管部（70a）上 处理液体被引入到液体处理单元中。

公开(公告)号：KR1020080010325A

公开(公告)日：2008-01-30

申请号：KR1020070074479

申请日：2007-07-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토가즈히사 ,  가네코사토시 ,  아키모토마사미 ,  도시마다카유키 ,  이토노리히로

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/08

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67173

Abstract: A liquid treatment system is provided to save a space through miniaturization and perform a uniform treatment by suppressing the unevenness of a pipe. A liquid treatment system includes a liquid treating part(21b), a treatment liquid storing part(21h), and a pipe unit(21f). The liquid treating unit includes a plurality of liquid treating units(22) for treating liquid by supplying the liquid to a substrate. The treatment liquid storing part stores the treatment liquid supplied to the plurality of liquid treating units of the liquid treating part. The pipe unit is provided with a supply pipe for introducing the treatment liquid to the plurality of liquid treating units from the treatment liquid storing part. The treatment liquid storing part, the pipe unit, and the liquid treating part are laminated in a common case sequentially from the bottom. The supply pipe of the pipe unit is provided with a horizontal pipe portion extending horizontally in the arrangement direction of the plurality of liquid treating units. The treatment liquid is introduced into the liquid treating units from the horizontal pipe portion.

Abstract translation: 提供液体处理系统以通过小型化来节省空间，并通过抑制管的不均匀性来进行均匀的处理。 液体处理系统包括液体处理部（21b），处理液储存部（21h）和管单元（21f）。 液体处理单元包括多个用于通过将液体供应到基底来处理液体的液体处理单元（22）。 处理液储存部存储供给到液体处理部的多个液体处理单元的处理液。 管单元设置有用于将处理液从处理液储存部引入到多个液体处理单元的供给管。 处理液储存部，管单元和液处理部从底部依次层叠成共同的壳体。 管单元的供给管设置有沿多个液体处理单元的排列方向水平延伸的水平管部。 处理液从水平管部引入液体处理单元。

公开(公告)号：KR1020070016999A

公开(公告)日：2007-02-08

申请号：KR1020060073074

申请日：2006-08-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 키타노타카히로 ,  아키모토마사미 ,  니시키도슈우이치 ,  쿠마가이다이

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/3064 ,  B08B3/02 ,  G03F7/3057 ,  G03F7/70916 ,  H01L21/67051

Abstract: 본 발명은 현상처리장치 및 현상처리방법에 관한 것으로서 처리 용기내에 처리 용기부의 사이에 기판 수수가 행해지는 기판 수수부와 기판의 현상이 행해지는 현상 처리부가 나열하여 설치되고 또한 기판 수수부와 현상 처리부의 사이를 기판의 외측면을 양측으로부터 파지한 상태로 기판을 반송하는 반송 기구가 설치되고 있다. 기판 수수부와 상기 현상 처리부의 사이로서 기판을 반송하는 반송로의 윗쪽에는 기판에 현상액을 공급하는 현상액 공급 노즐과 기판에 기체를 분사하는 기체분사 노즐이 설치되고 현상 처리부에는 기판에 세정액을 공급하는 세정액공급 노즐이 설치되고 있다. 본 발명에 의하면 기판의 외측면을 파지한 상태로 기판이 반송되므로 더러움이 퍼지는 경우가 없고 처리 용기내의 파티클의 발생을 억제할 수 있는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR100680439B1

公开(公告)日：2007-02-08

申请号：KR1020000076972

申请日：2000-12-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기타노다카히로 ,  모리카와마사테루 ,  에사키유키히코 ,  이시자카노부카즈 ,  고가노리히사 ,  다케시타가즈히로 ,  오쿠마히로후미 ,  아키모토마사미

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715

Abstract: 본 발명의 막형성 장치에 있어서 토출노즐은 대략 통형상의 지지부재와, 지지부재의 기판측의 면에 지지되고, 또한, 기판측의 면을 폐쇄하는 박판 또는 박판부를 갖고, 이들의 박판 혹은 박판부에, 도포액을 토출하기 위한 토출구가 설치되어 있다. 레이저 가공, 펀치 등에 의해, 종래의 사출성형 가공에 의해서도 미소한 토출구를 박판 또는 박판부에 형성하는 것이 가능하다. 도포액의 토출량이나 기판상의 토출 영역을 보다 세밀하게 제어할 수 있다.
본 발명의 막 형성 장치는 토출노즐을 세정하는 세정장치를 갖고, 토출노즐의 토출구에 대하여 세정용의 세정액을 분출시키는 세정액 분출기구와, 토출구 부근의 분위기를 흡인하는 흡인기구를 갖는다. 토출구에 부착된 오염물은 종래에 비해 보다 완전하게 제거된다. 따라서, 토출구의 직경이 미소일지라도, 효과적으로 세정할 수 있다. 토출구로 분출된 세정액을 흡인기구에 의해 흡인하여 이것을 적절하게 배출할 수 있고, 세정액의 비산 또는 토출구 주변의 오염이 방지된다.

Abstract translation: 在本发明的膜形成装置中的排放喷嘴被支撑在筒状的左右的支撑构件，并且所述构件的支撑基板侧，并且还的表面上，具有金属片或金属片的部分用于封闭所述基板的表面上，那些薄板或薄板的 设置用于排出涂布液的排出口。 激光加工，冲孔等，可以通过传统的注射成型工艺在薄板或薄板部分上形成微小的排出口。 可以精细地控制涂布液的排放量和衬底上的排放区域。

公开(公告)号：KR1020060088495A

公开(公告)日：2006-08-04

申请号：KR1020060009384

申请日：2006-01-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키 ,  키무라요시오 ,  우에다이세이 ,  이토히카루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67184 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715

Abstract: 본 발명은 도포 현상장치에 관한 것으로서 복수의 단위 블럭의 집합체로부터 되는 도포·현상 장치가 제공된다. 제 1의 단위 블럭 적층체와 제 2의 단위 블럭 적층체가 전후방향이 다른 위치에 배치된다. 노광 후의 현상 처리를 실시하는 현상 유니트를 포함한 복수의 처리 유니트 및 이들 유니트간의 기판의 반송을 실시하는 반송 수단을 구비한 현상용 단위 블럭이 최하단에 배치된다. 노광전의 도포 처리를 실시하는 도포 유니트를 포함한 복수의 처리 유니트 및 이들 유니트간의 기판의 반송을 실시하는 반송 수단을 구비한 도포용 단위 블럭은 현상용 단위 블럭 위에 배치된다. 도포용 단위 블럭은 제 1의 단위 블럭 적층체 및 제 2의 단위 블럭 적층체의 양쪽 모두에 배치된다. 반사 방지막과 레지스트막의 적층 위치 관계에 따라 도포·현상 장치내에 있어서 노광전의 웨이퍼나 경유하는 도포용 단위 블럭을 결정한다. 노광 후의 웨이퍼는 도포용 단위 블럭을 통과하는 일 없이 현상용 단위 블럭만을 통과하는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR100530699B1

公开(公告)日：2006-02-09

申请号：KR1019970043251

申请日：1997-08-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 우에다잇세이 ,  아키모토마사미 ,  이토가즈히코 ,  마쓰시타미치아키 ,  가네다마사토시 ,  마쓰야마유지

IPC: H05K13/00

Abstract: 기판처리장치는, 기판을 넣고 빼고 하기 위한 개구부(43)를 갖고, 이 개구부(43)에 붙이고 떼기 가능하게 부착된 덮개(44)를 가진 카세트가 재치되는 카세트 재치대(20)와,
이 카세트 재치대(20)의 카세트내에 수용된 기판을 처리하기 위한 처리부(G1)∼(G5)와,
카세트 재치대(20)의 카세트로부터 기판을 꺼내고, 처리부(G1)∼(G5)에 기판을 반송하고, 처리후의 기판을 카세트 재치대(20)의 카세트에 되돌리는 반송암기구(21)와,
이 반송암기구(21)와 카세트 재치대(20)와의 사이에 설치되고, 반송암기구(21)쪽의 분위기를 카세트 재치대(20)쪽의 분위기로부터 간막이하는 간막이부재(32),(60,)(49)와,
카세트 재치대상의 카세트의 개구부(43)와 마주보도록 간막이부재(60)에 형성되고, 반송암기구(21)에 의하여 카세트 재치대상의 카세트로부터 꺼내진 기판이 통과하고, 또한, 카세트 재치대상의 카세트로 되돌려지는 기판이 통과하는 통로(33a)와,
이 통로(33a)에 대하여 카세트 재치대상의 카세트의 개구부(43)를 접근시키거나 멀리하거나 하는 카세트 이동기구(80),(82)와,
카세트의 개구부(43)로부터 덮개(44)를 벗기거나 카세트의 개구부(43)에 덮개(44)를 부착하거나 하는 덮개 벗김기구(47)을 구비한다.

公开(公告)号：KR1020050083540A

公开(公告)日：2005-08-26

申请号：KR1020047007467

申请日：2002-12-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 테라다쇼이치 ,  요시타카나오토 ,  아키모토마사미

IPC: H01L21/027

CPC classification number: B23K26/0853 ,  B08B7/0042 ,  B23K26/146 ,  B23K26/147 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/681 ,  H01L21/6838 ,  H01L23/544 ,  H01L2924/0002 ,  H01L21/6704 ,  G03F7/30 ,  G03F7/422 ,  H01L2924/00

Abstract: A film removing device, comprising a substrate holding part (60) for holding a substrate having coated film, a laser beam source (63) for partially peeling off the coated film from the substrate by locally radiating laser beam at an alignment mark position (14) on the substrate placed on the substrate holding part, a fluid feed mechanism (113 to 116, 201, 202) having main nozzles (64, 172, 200) for feeding specified fluid to the alignment mark position, a collecting mechanism (90) having sucking ports (66a, 171, 193) for sucking, on the substrate, the specified fluid fed to the alignment mark position together with peeled film components, and guide members (65, 170, 191) for guiding the specified fluid jetted from the main nozzles to the alignment mark position and guiding the fluid to the sucking ports of the collecting mechanism so that the specified fluid and peeled film components do not diffuse nor leak to the periphery of the alignment mark position.

Abstract translation: 一种膜去除装置，包括用于保持具有涂膜的基板的基板保持部分（60），用于通过在对准标记位置（14）处局部照射激光束从基板部分地剥离涂膜的激光束源（63） ），具有用于将特定流体供给到对准标记位置的主喷嘴（64,172,200）的流体供给机构（113〜116,201,202），收集机构（90），位于基板保持部上的基板上， 具有吸引口（66a，171,193），用于在基板上吸引与剥离的膜部件一起供给到对准标记位置的指定流体，以及引导构件（65,170,191），用于引导从 主喷嘴到对准标记位置并将流体引导到收集机构的吸入口，使得指定的流体和剥离膜部件不会扩散或泄漏到对准标记位置的周边。

公开(公告)号：KR100414775B1

公开(公告)日：2004-02-14

申请号：KR1019970045377

申请日：1997-09-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 구도우히로유키 ,  아키모토마사미 ,  요네미즈아키라

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67173 ,  H01L21/67051 ,  Y10S134/902

Abstract: A processing apparatus of this invention has an openable window portion for transferring a target processing substrate, and an inlet port for introducing the outer atmosphere. Further, the processing apparatus includes a closed processing chamber for performing predetermined processing for the target processing substrate transferred via the window portion, an exhaust means for evacuating the interior of the processing chamber, and an opening/closing mechanism for closing the inlet port, and opening the inlet port when the pressure in the processing chamber is negative.

Abstract translation: 本发明的处理装置具有用于输送目标处理基板的可打开的窗口部分和用于引入外部大气的输入口。 另外，处理装置具备：封闭处理室，其对经由窗部移送来的被处理基板进行规定的处理;排气处理室内的排气单元;以及关闭入口的开闭机构;以及 当处理室中的压力为负时打开入口。

公开(公告)号：KR100357312B1

公开(公告)日：2003-01-24

申请号：KR1019960045242

申请日：1996-10-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미

IPC: B05B13/02

CPC classification number: B05C11/08 ,  B05B12/14 ,  G03F7/162

Abstract: A coating apparatus comprises a spin chuck for holding and rotating a substrate, a header unit movable along a linear line connecting a position just above a center-of-rotation of the substrate, to a home position of the unit, a plurality of nozzles included in the header unit for discharging coating liquids to the substrate held on the spin chuck, the first nozzles having their respective nozzle ports arranged in line along the linear line, and a plurality of coating liquid supply means for supplying the coating liquids to the first nozzles, respectively.

Abstract translation: 一种涂布设备包括用于保持和旋转基板的旋转卡盘，沿着连接基板旋转中心的正上方位置的直线移动到该单元的原始位置的集管单元，包括多个喷嘴 在用于将涂布液排出到保持在旋转卡盘上的基板的集管单元中，第一喷嘴具有沿直线排列成直线的各自的喷嘴口，以及多个涂布液供给装置，用于将涂布液供给到第一喷嘴 ， 分别。