公开(公告)号：KR1019960030343A

公开(公告)日：1996-08-17

申请号：KR1019960001149

申请日：1996-01-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요네미즈아키라 ,  아키모토마사미

IPC: H01L21/304

Abstract: 기판으로서의 반도체 웨이퍼(W)를 세정하는 세정장치(20)는, 웨이퍼(W)의 주연부를 보호하는 보호기구(30)와, 이 보호기구(30)에 의해 보호된 웨이퍼(W)를 회전시키는 회전수단으로서의 모터(40)와, 보호기구(30)로 보호된 웨이퍼(W)의 적어도 일면측에 설치된 세정부(31)를 구비한다. 이 세정부(31)는, 웨이퍼(W)에 대해 당접가능하게 설치된 적어도 하나의 세정부재(51)를 가지며, 이 세정부재(51)는, 웨이퍼(W)에 당접한 상태에서 모터(40)에 의해 회전하는 기판의 회전을 따라 회전가능하다.

公开(公告)号：KR1019960030309A

公开(公告)日：1996-08-17

申请号：KR1019960000326

申请日：1996-01-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오까무라고오지 ,  아키모토마사미

IPC: H01L21/027

Abstract: 인터페이스부에 있어서, 노광처리장치로부터 반출된 상기 기판을 받아들이고, 이어서, 기판반송수단에 의해 인터페이스부로부터 기판을 열처리부까지 반송하고, 열처리부에 있어서, 기판에 열처리를 수행한다. 그 다음, 기판 반송수단에 의해 열처리부로부터 냉각처리부까지 반송하고, 냉각처리부에 있어서 기판을 냉각한다. 냉각처리종료후, 기판 반송수단에 의해 냉각처리부로부터 현상처리부까지 반송하고, 현상처리부에 있어서 기판상의 레지스트막을 현상한다. 이 레지스트처리에 있어서, 노광처리장치에서의 처리 소요시간을 토대로 열처리부에서의 처리 소요시간을 변경한다. 열처리부에서의 처리 소요시간은, 노광처리장치에서의 처리 소요시간과 같게 한다. 열처리부에서의 처리 소요시간의 변경은, 열처리부에서의 전대기 시간의 연장 또는 단축에 의해 수행된다.

公开(公告)号：KR1019960015840A

公开(公告)日：1996-05-22

申请号：KR1019950034071

申请日：1995-10-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 우에다잇세이 ,  아키모토마사미 ,  구도히로유키

IPC: H01L21/68

Abstract: 복수의 처리위치에서 피반송기판의 받음 및 받아넘김을 하며, 이들 처리위치 사이에서 피반송기판을 반송하는 반송장치는, 장치본체와; 동일평면 내의 서로 다른 위치에서 기판을 지지하는 복수의 지지부를 가지며, 장치본체에 이동가능하게 설치되어 피반송기판을 지지하고 반송하는 반송부재와; 반송부재에 대한 상기 기판의 받고 받아넘김 동작을 하기 위해 반송부재를 이동하는 이동기구와; 반송부재의 위치를, 상기 각 지지부로 상기 기판의 받음 및 받아넘김을 하기 위한 복수의 위치 사이에서 전환하는 전환기구를 구비한다.

公开(公告)号：KR1019960002497A

公开(公告)日：1996-01-26

申请号：KR1019950018716

申请日：1995-06-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  기무라요시오 ,  하세베게이죠 ,  나가시마신지 ,  셈바노리오 ,  이이다나루아키 ,  하라다고지 ,  우에다잇세이 ,  고니시노부오

IPC: H01L21/02

Abstract: 본 발명은, 복수매의 피처리체를 수용한 적어도 하나의 카세트를 얹어 놓는 카세트 스테이션과, 피처리체에 처리를 복수의 처리실 및 처리실에 피처리체를 반입하고, 처리실로 부터 피처리체를 반출하는 피처리체 반송수단을 포함하는 처리 스테이션과, 카세트 스테이션과 처리 스테이션과의 사이에서 피처리체를 주고 받는 제1의 피처리체 주고 받기 수단과, 피처리체를 대기시키는 피처리체 대기영역 및 처리 스테이션과의 사이에서 피처리체의 주고 받기를 하는 제2의 피처리체 주고받기 수단을 포함하는 인텨페이스부를 가지며, 처리 스테이션에 있어서의 처리실이 피처리체 반송수단의 둘레에 배치되어 있고, 피처리체 반송수단은 연직방향으로 거의 평행한 회전축을 가지며, 회전축을 따라서 연직방향으로 승강가능하며, 회전축에 대하여 회전가 능한 기판처리 시스템을 제공한다.

公开(公告)号：KR1019930006859A

公开(公告)日：1993-04-22

申请号：KR1019920017074

申请日：1992-09-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  후지모토아키히로 ,  이와쓰하루오

IPC: H01L21/31

Abstract: 피도포체를 유지하여 회전하는 회전유지수단과, 이 회전유지수단을 둘러싸도록 설치되고 상기 피도포체에 공급된 도포액(L2)의 흩날림을 방지하기 위한 용기를 가지는 도포장치에 있어서, 회전유지수단에 설치되고, 또 상기 용기에 부착한 도포액을 세정하기 위한 세정액이 공급되는 세정용 치구를 구비하며, 이 세정용 치구는 상기 세정액을 저유할 수 있는 저유부를 가짐과 동시에, 상기 회전유지수단의 회전에 의하여 상기 저유부에 저유한 세정액을 상기 용기를 향하여 토출하는 토출구멍(36)을 가지는 것을 특징으로 하는 도포장치에 관한 것이다. 이것에 의하여 소량의 세정액으로 균일하고 단시간에 효율좋게 용기의 내부에 부착한 도포액의 세정을 행할 수 있게 된다.

公开(公告)号：KR1020150050416A

公开(公告)日：2015-05-08

申请号：KR1020140147230

申请日：2014-10-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  도우키유이치 ,  아키모토마사미 ,  이노우에시게히사

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/683 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B08B1/04 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  Y10S134/902

Abstract: 미스트의발생을억제하면서처리액을컵을향하여배출하는것이가능한액 처리장치를제공한다. 처리액공급부(40)로부터, 회전하는기판(W)에처리액을공급하여액 처리를행하는액 처리장치에있어서, 연직축둘레로회전가능하게구성된기판유지부(31)는, 기판(W)을수평으로흡착유지하기위한유지면(311)을구비한다. 가이드부(34)는, 기판유지부(31)와일체로형성되며, 그기판유지부(31)에유지된기판(W)의주위에배치되고, 기판(W)의주연부의상면의높이와동일하거나, 이높이보다낮은높이위치에마련되며, 기판(W)의상면을흘러온 처리액을안내하기위한안내면(347)을구비한다. 회전컵(35)은, 기판유지부(31)와함께일체적으로회전하며, 기판유지부(31)의외방에마련된컵(50a∼50c)을향하여, 가이드부(34)와의사이에서처리액을안내한다.

Abstract translation: 提供了一种液体处理装置，其将防止产生雾的处理液体排出到杯子。 在从处理液供给部（40）向处理液供给处理液并进行液体处理的液体处理装置中，能够围绕纵轴旋转的基板保持部（31）具有保持面（ 311），用于水平地吸附基板（W）。 引导部（34）与基板保持部（31）一体化并且被配置在由基板保持部（31）保持的基板（W）的周围。 引导部的高度与基板（W）的周边部的上侧的高度相同或者低于基板的周边部的高度。 引导部分包括用于引导从基板（W）的上侧泄漏的处理液的引导表面（347）。 旋转杯（35）与基板保持部（31）一起旋转。 旋转杯将处理液引导到在引导部分（34）和旋转杯之间的间隙中准备到基板保持部分（31）外部的杯（50a-50c）。

公开(公告)号：KR1020110131146A

公开(公告)日：2011-12-06

申请号：KR1020110106340

申请日：2011-10-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키 ,  키무라요시오 ,  우에다이세이 ,  이토히카루

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/16

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/00 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/6719 ,  G03F7/16 ,  H01L21/0274

Abstract: PURPOSE: A coating and developing apparatus is provided to reduce the occupied area of a process block by arranging unit blocks while laminating a unit block for spreading drug solution for a reflection preventing film on a substrate and a unit block for spreading resist liquid. CONSTITUTION: A carrier block(S1) includes a placement board(21) which mounts a carrier(20) and a transfer arm(C). A process block(S2), which surrounds a frame body(24), is connected with the inside of the carrier block. The processing block is composed by vertically arranging five unit blocks. A main arm(A4) is arranged in a carrier range(R1). A shelf unit(U5) is arranged in a location where being accessed to the transfer arm and the main arm in a wafer accepting range(R2).

Abstract translation: 目的：提供一种涂覆和显影装置，用于通过布置单元块来降低处理块的占用面积，同时层压用于将基板上的反射防止膜的药物溶液铺展的单位块和用于铺展抗蚀剂液体的单位块。 构成：载体块（S1）包括安装载体（20）和传送臂（C）的放置板（21）。 围绕框体（24）的处理块（S2）与承载块的内部连接。 处理块由垂直排列的五个单位块构成。 主臂（A4）布置在载体范围（R1）中。 搁板单元（U5）布置在在晶片接受范围（R2）中被访问到传送臂和主臂的位置。

公开(公告)号：KR100776890B1

公开(公告)日：2007-11-19

申请号：KR1020060012371

申请日：2006-02-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시신이치 ,  나카시마츠네나가 ,  에노키다스구루 ,  아키모토마사미 ,  마츠오카노부아키

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67178 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/67754 ,  Y10S414/135

Abstract: 반송 기구에 의한 파티클의 비산이 억제되는 반도체 제조 장치를 제공한다.
반도체 제조 장치는, 횡방향으로 긴 반송용 통로를 따라 이동부가 이동하는 반송 기구와, 상기 반송용 통로를 따라 배치되어 반송 기구의 사이에서 기판의 전달이 실행됨과 함께 기판에 대하여 처리를 실행하는 복수의 처리 유닛과, 처리 유닛의 하부에 마련되어 반송용 통로측에 배기용의 개구부를 가지는 배기실과, 배기실에 접속되는 흡인 배기로와, 상기 배기실내 또는 상기 개구부에 임하는 위치에서, 반송용 통로를 따라 길게 마련되어, 상기 이동부를 가이드하는 가이드 부재를 구비하도록 반도체 제조 장치를 구성한다. 해당 배기실내를 흡인 배기함으로써 반송용 통로로부터 배기실로 향하는 흡인 기류가 발생하기 때문에, 가이드 부재를 이동부가 이동하여 파티클이 발생한 경우라도, 해당 파티클은 기류를 타고 배기실내로 유입하여 반송용 통로로부터 제거되기 때문에 파티클의 비산을 저감할 수 있다.

公开(公告)号：KR100739209B1

公开(公告)日：2007-07-13

申请号：KR1020070013949

申请日：2007-02-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 키타노타카히로 ,  모리카와마사테루 ,  에사키유키히코 ,  이시자카노부카즈 ,  코가노리히사 ,  타케시타카즈히로 ,  오오쿠마히로후미 ,  아키모토마사미

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/162 ,  Y10S134/902

Abstract: 본 발명은 도포막 형성장치 및 도포유니트에 관한 것으로서 기판에 도포액을 도포하여 도포막을 형성하는 도포막형성장치는 기판카세트재치부 도포유니트 현상유니트 전처리/후처리유니트 및 각 유니트간에서 기판을 반송하는 주반송기구를 구비한다. 일필휘지의 요령으로 기판상에 레지스트액을 도포하기 위하여 기판을 Y방향으로 간헐적으로 이동시키고 또한 도포액노즐을 X방향으로 이동시키는 도포부를 도포유니트내에 설치한다. 도포후의 기판을 감압하에서 건조시키기 위한 감압건조부를 도포유니트내에 설치하고 또한 기판주연부에 부착하고 있는 도포막을 제거하기 위하여 장치를 도포유니트내에 설치한다. 감압건조부가 도포유니트의 외측에 있는 경우 주반송기구의 암을 커버물로 덮고 상기의 안을 용제의 분위기로 하는 기술이 제시된다.
기판, 도포액, 도포막, 도포 유니트

Abstract translation: 本发明是一种用于通过在基板上涂布的涂布液形成的涂布膜的成膜装置涉及一种形成薄膜和涂层单元在基板盒之间传送衬底的装置安装部分涂敷单元显影单元前/后处理单元，并且每个单元 提供主要的运输机制。 为了涂覆在弯曲的刷子的一个行程中的Y方向上间歇地移动衬底，并且还在涂布单元，用于在X方向移动的涂敷液喷嘴提供的涂敷单元的方式在基板上的抗蚀剂溶液。 在涂布装置中设置减压干燥装置，用于在减压下干燥所涂布的基材，并将该装置安装在涂布装置中以去除附着在基材周围的涂膜。 当减压干燥单元位于涂布单元的外部时，主输送机构的臂被覆盖水覆盖，并且主输送机构的内部设定为溶剂气氛。

公开(公告)号：KR100618108B1

公开(公告)日：2006-08-30

申请号：KR1020000031750

申请日：2000-06-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미

IPC: H01L21/30

CPC classification number: H01L21/67109 ,  Y10S414/135

Abstract: 본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 가열처리장치와 도포처리장치, 현상장치와의 사이에 웨이퍼를 소정 온도로까지 냉각하는 냉각처리장치가 배치되어 있으며, 냉각처리장치 위에 프리냉각장치가 다단으로 설치되어 있고, 가열처리장치에서의 가열처리가 종료된 직후의 웨이퍼는 제 1 반송장치에 의해 먼저 프리냉각장치로 반송된 후, 제 3 반송장치에 의해 웨이퍼는 냉각처리장치로 반송되어 소정 온도로까지 냉각되며, 그 후 제 2 반송장치에 의해 레지스트 도포처리장치로 반송되어짐으로써, 기판의 오버 베이크(overbake)를 방지할 수 있는 기술이 제시된다.

Abstract translation: 基板处理装置技术领域本发明涉及基板处理装置，在加热处理装置，涂敷处理装置和显影装置之间配置有用于将晶片冷却到规定温度的冷却处理装置， 首先，在热处理装置中的热处理完成之后的晶片首先被第一输送装置输送到预冷却装置，晶片通过第三输送装置被输送到冷却处理装置， 然后通过二次转印装置转印到抗蚀剂涂布设备，由此防止基材过度烘烤。