Integrierte Schaltungstechnologie mit verschiedenen Bauelementepitaxialschichten und Verfahren zu dessen Herstellung

    公开(公告)号:DE102011054784B4

    公开(公告)日:2018-11-29

    申请号:DE102011054784

    申请日:2011-10-25

    Abstract: Halbleiterdie (10), umfassend:ein Substrat (12);ein erstes Bauelementgebiet (18) mit einer ersten Epitaxialschicht (14) auf dem Substrat (12) und einem oder mehreren, in der ersten Epitaxialschicht (14) des ersten Bauelementgebiets (18) ausgebildeten Halbleiterbauelementen von einem ersten Typ;ein von dem ersten Bauelementgebiet (18) beabstandetes zweites Bauelementgebiet (20) mit einer zweiten Epitaxialschicht (16) auf dem Substrat (12) und einem oder mehreren, in der zweiten Epitaxialschicht (16) des zweiten Bauelementgebiets (20) ausgebildeten Halbleiterbauelementen von einem zweiten Typ;wobei die erste Epitaxialschicht (14) von der zweiten Epitaxialschicht (16) verschieden ist,wobei die erste Epitaxialschicht (14) auf dem Substrat (12) und die zweite Epitaxialschicht (16) auf der ersten Epitaxialschicht (14) ausgebildet ist, undwobei die zweite Epitaxialschicht (16) eine andere Dotierkonzentration als die erste Epitaxialschicht (14) aufweist und/oder im zweiten Bauelementgebiet (20) eine größere Dicke als in dem ersten Bauelementgebiet (18) aufweist.

    Halbleiterbauelement und Verfahren zu dessen Herstellung

    公开(公告)号:DE102011056315B4

    公开(公告)日:2018-03-22

    申请号:DE102011056315

    申请日:2011-12-13

    Abstract: Halbleiterbauelement (100, 200, 300), umfassend: eine Umverdrahtungsschicht, die über einem Chip (110, 320) oder über einem Chip (320) und einem Fan-Out-Gebiet (310) angeordnet ist, wobei die Umverdrahtungsschicht eine erste Umverdrahtungsleitung (150, 151, 152, 153) umfasst; eine Isolationsschicht (160), die über der Umverdrahtungsschicht angeordnet ist, wobei die Isolationsschicht (160) eine auf einer Oberfläche des Halbleiterbauelements (100, 200, 300) angeordnete erste Öffnung aufweist, die einen ersten Pad-Bereich (170, 171, 172, 173) ausbildet; und eine erste Zwischenverbindung (180, 181, 182, 183), die sich in der ersten Öffnung und in Kontakt mit der ersten Umverdrahtungsleitung (150, 151, 152, 153) befindet, wobei die erste Umverdrahtungsleitung in dem ersten Pad-Bereich (170, 171, 172, 173) orthogonal zu einer von der ersten Öffnung zum Mittelpunkt der Oberfläche des Halbleiterbauelements verlaufenden ersten Richtung (AR, AR1, AR2, AR3) angeordnet ist, und wobei die erste Umverdrahtungsleitung (150, 151, 152, 153) indem ersten Pad-Bereich (170, 171, 172, 173) nicht parallel zu einer Kante des Halbleiterbauelements verläuft.

    Integrierte Antennen in einem Waferebenengehäuse und Herstellungsverfahren dafür

    公开(公告)号:DE102011085348B4

    公开(公告)日:2014-12-04

    申请号:DE102011085348

    申请日:2011-10-27

    Abstract: Halbleitermodul, das folgende Merkmale aufweist: eine gedruckte Schaltungsplatine (206–606); ein Gehäuse (204–604), das eine Integrierte-Schaltung-Vorrichtung (202–602) (IC-Vorrichtung), die in einen Gehäuseformverbund eingebettet ist, und eine oder mehrere integrierte Antennenstrukturen (208–608) aufweist, die mit der IC-Vorrichtung (202–602) gekoppelt sind und konfiguriert sind, um eine elektromagnetische Strahlung für eine drahtlose Übertragung zu erzeugen; und eine Bondverbindungsstruktur mit dreidimensionalen Verbindungsstrukturen (210–610), konfiguriert, um das Gehäuse (204–604) physisch mit der gedruckten Schaltungsplatine (206–606) zu verbinden; wobei die zumindest eine der integrierten Antennenstrukturen (208–608) in einer größeren Mitte-zu-Mitte-Distanz von der IC-Vorrichtung (202–602) angeordnet ist als jegliche der dreidimensionalen Verbindungsstrukturen (210–610).

    Ausrichtung eines rekonfigurierten Wafers

    公开(公告)号:DE102010015903B4

    公开(公告)日:2013-08-08

    申请号:DE102010015903

    申请日:2010-03-10

    Abstract: Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements, mit den folgenden Schritten: Platzieren mehrerer Chips (104) auf einen Träger (101); Platzieren von wenigstens einem Markierungselement (120) auf dem Träger (101) relativ zu den mehreren Chips (104); Aufbringen von Einkapselungsmaterial (107) auf die mehreren Chips (104), das Markierungselement (120) und den Träger (101) zur Bildung eines Einkapselungsarbeitsstücks, wobei das Einkapselungsarbeitsstück eine dem Träger zugewandte erste Hauptseite (108) und eine zweite Hauptseite gegenüber der ersten Hauptseite (109) aufweist; wobei das Markierungselement (120) auf der dem Träger zugewandten Seite mit einem Linienmuster (130) versehen ist; Entfernen des Trägers (101) von dem Einkapselungsarbeitsstück; wobei das Linienmuster (130) jeweils von der ersten Hauptseite (108) und von der zweiten Hauptseite (109) aus optisch detektierbar ist; und Detektieren der Markierungselemente (120) durch ein der zweiten Hauptseite zugewandtes optisches Erkennungssystem.

    Integrierte Antennen in einem Waferebenengehäuse

    公开(公告)号:DE102011085348A1

    公开(公告)日:2012-05-03

    申请号:DE102011085348

    申请日:2011-10-27

    Abstract: Hierin wird ein Halbleitermodul mit einer oder mehreren integrierten Antennen in einem einzelnen Gehäuse bereitgestellt, das eine Bondverbindungsstruktur mit einer Mehrzahl von individuellen Bondelementen aufweist, die auf einen relativ kleinen Bereich des Bodens eines Gehäuses begrenzt sind. Genauer gesagt weist das Halbleitermodul eine Bondverbindungsstruktur auf, die konfiguriert ist, um ein integriertes Gehäuse mit einer gedruckten Schaltungsplatine (PCB) zu verbinden, wobei die integrierten Antennenstrukturen in einer größeren Mitte-zu-Mitte-Distanz von der IC-Vorrichtung angeordnet sind als die dreidimensionalen Verbindungsstrukturen. Daher sind die Bondverbindungsstrukturen auf einen Verbindungsbereich begrenzt, der verursacht, dass sich ein Teil des Gehäuses, der die eine oder die mehreren Antennenstrukturen enthält, über die Bondverbindungsstruktur hinaus als eine freitragende Struktur erstreckt. Eine solche Bondverbindungsstruktur führt zu einem Gehäuse, das in Kontakt mit einer PCB an einem relativ kleinen Bereich ist, der die Last des Gehäuses stützt.

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