公开(公告)号：KR1020010021000A

公开(公告)日：2001-03-15

申请号：KR1020000033210

申请日：2000-06-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오타요시하루 ,  다테야마기요히사 ,  아라키신이치로 ,  이와사키다쓰야 ,  아나이노리유키 ,  이와쓰하루오

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: A substrate transfer device is provided to reduce as little as possible the space needed for cleaning of the transfer area of a glass substrate in the substrate transfer device. CONSTITUTION: With a glass substrate, which is provided as a treatment object and supported in the interior of a housing box(50) formed into a box type, air flow to flow from the sides of the surfaces, which is opposed to the formed surface of a substrate gateway(51) of the gateway(51) to the outside through the gateway(51) is formed by blast fans(49). Because of this, even though the gateway(51) is always open, particles floating outside of the box(50) will not infiltrate into the box(50). Accordingly, the need for keeping the transfer area of the glass substrate in a clean environment is eliminated, and the forming cost of the clean environment can be reduced. Moreover, since the gateway(51) is always open and an opening and shutting mechanism for opening and shutting the gateway(51) is not provided, delivery of the substrate can be performed rapidly.

Abstract translation: 目的：提供一种衬底转移装置，以尽可能少地减少用于清洁衬底转移装置中的玻璃衬底的转移区域所需的空间。 构成：作为处理对象而设置并被支撑在形成为箱型的容纳箱（50）的内部的玻璃基板，从与形成表面相对的表面侧流动的空气流 通过网关（51）将网关（51）的基板网关（51）连接到外部，由鼓风扇（49）形成。 因此，即使网关（51）总是打开，浮动在箱体（50）外面的颗粒将不会渗透到箱体（50）中。 因此，消除了将玻璃基板的转印面保持在清洁环境中的需要，能够降低清洁环境的成形成本。 此外，因为网关51始终是打开的，并且不设置用于打开和关闭网关51的打开和关闭机构，所以可以快速地执行基板的传送。

公开(公告)号：KR100267618B1

公开(公告)日：2000-10-16

申请号：KR1019950023817

申请日：1995-08-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  노무라마사후미 ,  도모에다다카유키

IPC: H01L21/02

CPC classification number: B05C11/1039 ,  B05C5/0208 ,  B05C11/08 ,  G03F7/3021 ,  Y10S134/902

Abstract: 피처리체를 현상액으로 현상하는 현상액 처리장치는, 피처리체를 회전 가능하게 유지하는 유지부재와, 피처리체에 현상액을 공급하는 현상액 공급노즐과, 피처리체로 공급된 현상액을 흡인하는 현상액 흡인노즐과, 현상액 공급노즐을 피처리체 위쪽으로 이동시키는 현상액 공급노즐 이동기구와, 현상액 흡인노즐을 피처리체 위쪽으로 이동시키는 현상액 흡인노즐 이동기구를 구비하고, 현상액공급노즐을 이동시켜서 현상액을 피처리체에 공급한 후, 현상액 흡인노즐을 이동시켜서 피처리체상의 현상액을 흡인한다.

公开(公告)号：KR100230692B1

公开(公告)日：1999-11-15

申请号：KR1019940008171

申请日：1994-04-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  마쓰시타미치아키

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67028 ,  B08B11/02 ,  Y10S134/902 ,  Y10T279/18

Abstract: 반도체 웨이퍼의 세정장치에는, 회전반을 가지는 스핀척이 배치된다.
회전반을 지지하는 샤프트에는, 웨이퍼의 이면에 공급되는 보호가스의 공급로가 형성된다. 샤프트의 단부를 덮도록 원추형상의 가동부재가 배치되며, 보호가스 공급압력에 따라서 상하로 이동가능하게 되어 있다. 가동부재의 외면에는, 회전반에 지지되고 또 반경방향으로 뻗는 3개의 왕복아암의 내단이 스프링 탄력상태로 맞닿는다. 회전반 상에는, 웨이퍼의 바깥 테두리를 따르는 등간격으로 3개소에 고정핀이 설치되며, 고정핀 사이에 요동레버가 배치된다. 요동레버의 일단은 왕복아암의 외단에 접속되고, 타단에는 웨이퍼의 바깥 테두리에 맞닿는 핀이 배치된다. 보호가스가 공급되면, 가동부재가 윗 쪽의 작동위치로 이동하고, 왕복아암이 가동부재에 눌리어 바깥방향으로 이동한다. 이것에 의하여 요동레버가 작동하여 핀을 웨이퍼의 바깥 테두리에 맞닿고 3개의 핀 사이에 웨이퍼를 집어서 클램프한다.

公开(公告)号：KR100213992B1

公开(公告)日：1999-08-02

申请号：KR1019960015345

申请日：1996-05-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하마다도모코 ,  마쓰시타미치아키 ,  다테야마기요히사 ,  요네미즈아키라

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67046 ,  A46B13/04

Abstract: 세정장치는, 웨이퍼를 유지하고 또한 회전시키기 위한 스핀척과, 웨이퍼 표면을 문지르기 위한 브러시와, 브러시를 지지하는 아암을 가진다. 리니어 가이드를 통해서 아암에 서포트가 연결되고, 아암과 서포트와는 수평방향에서 일체적으로 이동함과 동시에, 수직방향에서 상대적으로 변위가능하게 된다. 아암과 서포트와의 사이에는 압축스프링이 배열설치되고, 이것은 아암과 서포트와의 수직방향에서의 상대적인 변위에 따라서 변형한다. 스핀척에 유지된 웨이퍼에 대하여 브러시가 접촉할 때, 압축스프링의 변형에 대응하여, 웨이퍼에 대한 브러시의 가하는 힘이 발생한다. 서포트의 수직방향의 하강량을 조정함으로써, 브러시의 가하는 힘이 설정된다.

公开(公告)号：KR1019990045032A

公开(公告)日：1999-06-25

申请号：KR1019980047283

申请日：1998-11-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사카이미쓰히로 ,  다테야마기요히사 ,  모토다기미오

IPC: H01L21/00

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
기판처리장치
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
기판처리시에 있어서는 덮개의 개폐를 신속히 행할 수 있고, 보수관리시에 있어서는 장치를 분해하지 않고 간편하고 안전하게 작업할 수 있는 기판처리장치를 제공함.
3. 발명의 해결방법의 요지
기판처리장치는, 기판재치대와, 상부 개구를 가지며, 상기 기판재치대를 둘러싸는 컵부와, 이 컵의 상부개구를 개폐하는 덮개와, 이 덮개를 지지하는 지지아암과, 이 지지아암을 직접 또는 간접으로 지지하는 제 1 피스톤과, 이 제 1 피스톤을 승강안내하는 제 1 실린더를 가진 제 1 승강기구와, 상기 지지아암을 직접 또는 간접으로 지지하는 제 2 피스톤과, 이 제 2 피스톤을 승강안내하는 제 2 실린더를 가진 제 2 승강기구와, 상기 제 1 및 제 2 실린더에 압력유체를 각각 공급하여, 상기 제 1 및 제 2 실린더로부터 압력유체를 각각 배기하는 구동회로와, 이 구동회로의 동작을 각각 제어하는 제어기구를 구비한다.
4. 발명의 중요한 용도
액정 디스플레이(LCD)용 유리기판과 같은 대형기판을 처리하기 위한 처리공간을 규정하는 컵과 덮개를 구비한 기판처리장치에 사용됨.

公开(公告)号：KR1019980071336A

公开(公告)日：1998-10-26

申请号：KR1019980004326

申请日：1998-02-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사

IPC: F25B1/00 ,  F25B39/00

Abstract: 온도가 높여진 피처리기판에 냉각매체를 직접 접촉시킴으로써 피처리기판을 급냉하여 온도레벨까지 온도를 급격히 강하시킨다. 그리고 그 피처리기판을 냉각소자 및 냉각수를 이용하여 냉각한다. 이에 따라 정확한 냉각온도제어가 가능하고, 효율좋게 피처리기판을 냉각할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019980064738A

公开(公告)日：1998-10-07

申请号：KR1019970074965

申请日：1997-12-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하시모토히로시 ,  다테야마기요히사 ,  야마구치기요미쓰 ,  마쓰다요시타카 ,  우치히라노리오 ,  사카이미쓰히로 ,  사토후미오

IPC: H01L21/00

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
처리장치 및 처리방법
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
스핀척을 확대하지 않고서 수평적으로 평평한 기판면을 유지하면서 처리액으로 기판의 표면을 균일하게 처리하기 위한 장치 및, 회수된 처리액의 농도가 과도하게 낮아지는 것을 방지하고, 회수된 용액을 용이하게 재처리할 수 있는 처리방법을 제공함
3. 발명의 해결방법의 요지
개시된 장치는 유지수단, 지지수단, 처리액 공급수단, 승강수단 및 회전수단을 포함하여 구성되는 처리장치이다. 처리기판은 유지수단에 의하여 회전가능하게 유지된다. 유지수단의 둘레를 넘어서 연장되는 기판의 돌출부가 지지수단에 의하여 지지되어 기판의 앞면을 수평으로 평평하게 유지한다. 처리액은 처리액 공급수단으로부터 유지수단에 의하여 유지되고 지지수단에 의하여 지지된 기판의 앞면으로 공급된다. 유지수단에 의하여 유지된 기판은 지지수단에 대하여 승강수단으로 수직이동한다. 지지수단에 대하여 승강된 기판은 회전수단에 의하여 회전된다.
4. 발명의 중요한 용도
현상액과 같은 처리용액으로 LCD기판 또는 반도체웨이퍼와 같은 피처리기판의 표면을 처리하는데 사용됨.

公开(公告)号：KR1019980024865A

公开(公告)日：1998-07-06

申请号：KR1019970048207

申请日：1997-09-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사카이미쯔히로 ,  쯔가모또다게시 ,  혼다요이찌 ,  야마구찌기요미쯔 ,  모또다기미오 ,  마쯔다요시다가 ,  사다데쯔야 ,  다테야마기요히사 ,  사또후미오

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 물체가 처리되는 경우 외부로 유동하거나 외부로 비산하는 처리액을 회수하기 위한 용기와, 세정액을 상기 용기내로 공급함으로써 용기의 내부 벽 표면을 세정하기 위한 세정 수단과, 용기의 내부 벽 표면이 세정 수단에 의해 세정되는 경우 용기로부터 배출된 액체를 회수하고, 회수된 액체를 세정 수단으로 공급하기 위한 순환 시스템을 포함하는 처리 장치를 제공한다.

公开(公告)号：KR1019960030310A

公开(公告)日：1996-08-17

申请号：KR1019960001148

申请日：1996-01-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히로세오사무 ,  사다데스야 ,  다테야마기요히사

IPC: H01L21/027

Abstract: 작업물을 작업대의 상부표면과 간격을 가지고 대하도록 지지하는 작업대위에 설치된 복수개의 접촉부재와, 접촉부재에 의하여 지지되는 작업물의 온도정보를 출력하기 위한 온도감지소자와, 작업물을 냉각하기 위하여 작업대를 목표온도보다 낮은 온도로 냉각하는 제1냉각장치와, 제1냉각장치에 의하여 냉각된 작업물을 목표온도와 동일한 온도로 가열하는 제2냉각장치 및, 온도감지소자로부터 전송되는 온도정보에 기초하여 제1냉각장치에 의한 냉각처리와 제2냉각장치에 의한 가열처리 사이에 전환동작을 수행하는 대비회로에 의해서 구성되는 작업물을 목표온도로 냉각하기 위한 사진식각술처리를 위한 코팅현상설비내에서의 냉각기관 및 그 냉각방법.

公开(公告)号：KR1019960015710A

公开(公告)日：1996-05-22

申请号：KR1019950037308

申请日：1995-10-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  히로세오사무

IPC: H01L21/08

Abstract: 본 발명은, 피처리체를 얹어놓는 얹어놓는대와, 얹어놓는대를 개재하여 피처리체를 가열하는 가열수단과, 얹어놓는대 표면으로부터 돌출함으로써 피처리체와 얹어놓는대와의 사이에 간격을 마련하여서 피처리체를 지지하는 북수의 지지부재를 구비하고, 각 지지부재의 높이는, 피처리체의 표면의 처리중의 온도분포에 따라서 가변인 기판처리장치이다.
또, 본 발명은. 피처리체를 얹어놓는 얹어놓는대와, 얹어놓는대를 개재하여 피처리체를 가열하는 가열수단을 구비하고, 얹어놓는대의 표면은, 피처리체의 표면의 처리중의 온도분포에 따라서 다른 방사상태인 영역을 가지는 기판처리장치이다.