公开(公告)号：WO2013107686A2

公开(公告)日：2013-07-25

申请号：PCT/EP2013050406

申请日：2013-01-10

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： YAKUNIN ANDREI ,  BANINE VADIM ,  MOORS ROEL ,  VAN SCHOOT JAN ,  VERHAGEN MARTINUS ,  FRIJNS OLAV ,  KRIVTSUN VLADIMIR ,  SWINKELS GERARDUS ,  RIEPEN MICHEL ,  SCHIMMEL HENDRIKUS ,  MEDVEDEV VIACHESLAV

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70033 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70916 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/064 ,  H05G2/008

Abstract: A source-collector device is constructed and arranged to generate a radiation beam, The device includes a target unit constructed and arranged to present a target surface of plasma- forming material; a laser unit constructed and arranged to generate a beam of radiation directed onto the target surface so as to form a plasma from said plasma-forming material; a contaminant trap constructed and arranged to reduce propagation of particulate contaminants generated by the plasma; a radiation collector comprising a plurality of grazing-incidence reflectors arranged to collect radiation emitted by the plasma and form a beam therefrom; and a filter constructed and arranged to attenuate at least one wavelength range of the beam.

Abstract translation: 源极集电极器件被构造和布置成产生辐射束。该器件包括构造和布置成呈现等离子体形成材料的目标表面的靶单元; 激光单元，其被构造和布置成产生被引导到所述目标表面上的辐射束，以便形成来自所述等离子体形成材料的等离子体; 构造和布置以减少由等离子体产生的颗粒污染物的传播的污染物阱; 辐射收集器，包括多个放射入射反射器，其布置成收集由等离子体发射的辐射并从其形成光束; 以及被构造和布置成衰减所述光束的至少一个波长范围的滤光器。

公开(公告)号：NL2011759A

公开(公告)日：2014-01-13

申请号：NL2011759

申请日：2013-11-08

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： KLEEMANS NIEK ,  GLUSHKOV DENNIS ,  HULTERMANS RONALD ,  RENKENS BENEDICTUS ,  SWINKELS GERARDUS ,  VERSPEEK CHRISTIAAN

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00

公开(公告)号：NL2010306A

公开(公告)日：2013-04-09

申请号：NL2010306

申请日：2013-02-15

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： WIJCKMANS MAURICE ,  TEGENBOSCH HENRICUS ,  SWINKELS GERARDUS

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00

公开(公告)号：NL2009352A

公开(公告)日：2013-03-25

申请号：NL2009352

申请日：2012-08-23

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： SCHOOT JAN ,  BANINE VADIM ,  YAKUNIN ANDREI ,  KREUWEL HERMANUS ,  MOORS JOHANNES ,  FRIJNS OLAV WALDEMAR VLADIMIR ,  SWINKELS GERARDUS ,  STAMM UWE ,  VANDERHALLEN IVO

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00

公开(公告)号：NL2006604A

公开(公告)日：2011-06-09

申请号：NL2006604

申请日：2011-04-14

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： BANINE VADIM ,  BOEIJ WILHELMUS ,  DIJSSELDONK ANTONIUS ,  LOOPSTRA ERIK ,  MOORS ROEL ,  SCHOOT JAN ,  SWINKELS GERARDUS ,  YAKUNIN ANDREI

IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06

公开(公告)号：NL2005392A

公开(公告)日：2011-03-28

申请号：NL2005392

申请日：2010-09-24

Applicant: ASML NETHERLANDS BV ,  CYMER

Inventor： LOOPSTRA ERIK ,  BANINE VADIM ,  SWINKELS GERARDUS ,  PEKELDER SVEN ,  LABETSKI DZMITRY ,  STAMM UWE ,  PARTLO WILLIAM N

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00

公开(公告)号：NL2004977A

公开(公告)日：2010-08-12

申请号：NL2004977

申请日：2010-06-28

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： MESTROM WILBERT ,  LOOPSTRA ERIK ,  SWINKELS GERARDUS ,  BUURMAN ERIK

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00

公开(公告)号：NL2004968A

公开(公告)日：2010-08-02

申请号：NL2004968

申请日：2010-06-25

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： KEMPEN ANTONIUS ,  BRULS RICHARD ,  LOOPSTRA ERIK ,  MOORS JOHANNES ,  SWINKELS GERARDUS ,  MESTROM WILBERT

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00

公开(公告)号：NL2002838A1

公开(公告)日：2009-12-01

申请号：NL2002838

申请日：2009-05-05

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： BANINE VADIM ,  BOEIJ WILHELMUS DE ,  LOOPSTRA JOHANNES ,  SWINKELS GERARDUS ,  DIJSSELDONK ANTONIUS VAN ,  SCHOOT JAN VAN

IPC: H05G2/00 ,  G03F7/20

公开(公告)号：NL2011742A

公开(公告)日：2014-06-16

申请号：NL2011742

申请日：2013-11-06

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： MESTROM WILBERT ,  LABETSKI DZMITRY ,  SWINKELS GERARDUS

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00