-
公开(公告)号：DE102019117964A1
公开(公告)日：2020-07-23
申请号：DE102019117964
申请日：2019-07-03
Applicant: ASML NETHERLANDS BV , ZEISS CARL SMT GMBH
Inventor： WOLF ALEXANDER , GRUNER TORALF , SCHWAB MARKUS , HARTJES JOACHIM , CARL MICHAEL , BECKER MORITZ , BRULS RICHARD
Abstract: Die Erfindung betrifft eine Lithographieanlage, insbesondere eine EUV-Lithographieanlage (1), umfassend: ein Beleuchtungssystem (10) zur Beleuchtung einer Maske (M), ein Pellikel (P) zum Schutz der Maske (M), sowie ein Projektionssystem (20) zum Abbilden der Maske (M) auf ein Substrat (W). Die Lithographieanlage umfasst eine Überwachungseinrichtung (31) zur Überwachung eines Zustands des Pellikels (P), das an einem Maskentisch (MS) entweder an einer Belichtungsposition (EX) im Nutzstrahlengang (7, 8) der Lithographieanlage (1) oder an einer Inspektionsposition (IS) außerhalb des Nutzstrahlengangs (7, 8) gelagert ist. Die Überwachungseinrichtung (31) weist mindestens einen Detektor (31a-d) zur Erfassung mindestens einer vom Zustand des Pellikels (P) abhängigen Messgröße (38, Z) auf. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zum Überwachen eines Zustands eines Pellikels (P) in einer Lithographieanlage, insbesondere in einer EUV-Lithographieanlage (1).
-
公开(公告)号：NL2004968A
公开(公告)日：2010-08-02
申请号：NL2004968
申请日：2010-06-25
Applicant: ASML NETHERLANDS BV
Inventor： KEMPEN ANTONIUS , BRULS RICHARD , LOOPSTRA ERIK , MOORS JOHANNES , SWINKELS GERARDUS , MESTROM WILBERT
-
公开(公告)号：NL2003395A
公开(公告)日：2010-03-18
申请号：NL2003395
申请日：2009-08-26
Applicant: ASML NETHERLANDS BV
Inventor： BRUIJSTENS JEROEN , LEE MAURICE , TANASA GHEORGHE , NOORDAM LAMBERTUS DOMINICUS , BRULS RICHARD , JANSEN HANS , LANDHEER SIEBE , JORRITSMA LAURENTIUS , MEESTER ARNOUT , JANSEN BAUKE , THOMAS IVO , MIRANDA MARCIO
IPC: G03F7/20
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：NL2004540A
公开(公告)日：2010-11-18
申请号：NL2004540
申请日：2010-04-13
Applicant: ASML NETHERLANDS BV
Inventor： JANSEN BAUKE , BRULS RICHARD , JANSEN HANS , NET ANTONIUS , KRAMER PIETER , KUIJPER ANTHONIE , MARTENS ARJAN , CASIMIRI ERIC
IPC: G03F7/20
Abstract: A method of cleaning an immersion lithographic apparatus is disclosed in which a cleaner is added to immersion liquid for use during exposure of a substrate. The cleaner may be a combination of a soap and a solvent. The cleaner maybe present at a concentration of less than 300 ppb.
-
公开(公告)号：NL2003914A
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：NL2003914
申请日：2009-12-07
Applicant: ASML NETHERLANDS BV
Inventor： KNAAPEN THIJS , PELLENS RUDY , HOEVEN JAN , ANSTOTZ DAVID , BRANDS GERT-JAN , BADAM VIJAY , ZANDEN MARCUS , GROOT CASPER , BRULS RICHARD , DOMMELEN YOURI , JACOBS JOHANNES , KAMPHUIS MARTIJN , LIEBREGTS PAULUS , MAAS RUDOLF , STAVENGA MARCO , VERSPAGET COEN
IPC: G03F7/20
Abstract: A lithographic apparatus having a table including a target and/or a sensor and a liquid displacing device to displace liquid from the target and/or sensor using a localized gas flow is disclosed. The liquid displacement device may be positioned at various positions, e.g. mounted to a liquid handling device at an exposure station, adjacent or in a transfer path between the exposure station and a measurement station, at a load/unload station or adjacent a sensor.
-
公开(公告)号：NL2013493A
公开(公告)日：2015-04-20
申请号：NL2013493
申请日：2014-09-18
Applicant: ASML NETHERLANDS BV
Inventor： BRULS RICHARD , ZHAO CHUANGXIN , BALTUSSEN SANDER , BROMAN PAR , CRAUS CRISTIAN , GROENEWOLD JAN , LABETSKI DZMITRY , NADIR KERIM , SCHIMMEL HENDRIKUS , WÃ HLISCH CHRISTIAN
-
公开(公告)号：NL2005748A
公开(公告)日：2011-01-06
申请号：NL2005748
申请日：2010-11-24
Applicant: ASML NETHERLANDS BV
Inventor： LOOPSTRA ERIK , BANINE VADIM , BRULS RICHARD , IVANOV VLADIMIR , NEERHOF HENDRIK , YAKUNIN ANDREI , SCACCABAROZZI LUIGI
-
公开(公告)号：NL2003392A
公开(公告)日：2010-03-18
申请号：NL2003392
申请日：2009-08-25
Applicant: ASML NETHERLANDS BV
Inventor： BRUIJSTENS JEROEN , BRULS RICHARD , JANSEN HANS , LANDHEER SIEBE , MEESTER ARNOUT , THOMAS IVO , MIRANDA MARCIO , TANASA GHEORGHE
IPC: G03F7/20
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
8
records
(took 0.021 seconds)
