公开(公告)号：WO2013117518A3

公开(公告)日：2013-12-27

申请号：PCT/EP2013052154

申请日：2013-02-04

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： CADEE THEODORUS PETRUS MARIA ,  BANINE VADIM YEVGENYEVICH ,  ZAAL KOEN JACOBUS JOHANNES MARIA ,  BADIE RAMIN ,  SINGH HARMEET

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70725 ,  G03F7/70708 ,  G03F7/70733 ,  H01L21/6875

Abstract: A lithographic apparatus has a support (S) that is provided with burls (BR) for holding an object (W). The support has been fabricated with a lithographic manufacturing method, e.g., a MEMS- technology, so as to create burls whose orientations or positions are individually electrically controllable.

Abstract translation: 光刻设备具有支撑件（S），其具有用于保持物体（W）的孔（BR）。 已经使用光刻制造方法（例如MEMS技术）来制造支撑件，以便产生其取向或位置可单独电可控制的孔。

公开(公告)号：WO2013189827A2

公开(公告)日：2013-12-27

申请号：PCT/EP2013062259

申请日：2013-06-13

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： RIEPEN MICHEL ,  LABETSKI DZMITRY ,  MESTROM WILBERT ,  KAMPINGA WIM RONALD ,  NIEUWENKAMP JAN OKKE ,  BRINKERT JACOB ,  CASTELIJNS HENRICUS ,  TEN KATE NICOLAAS ,  SCHIMMEL HENDRIKUS ,  JANSEN HANS ,  PAULUSSEN DENNIS ,  VIRGO BRIAN ,  JILISEN REINIER ,  BADIE RAMIN ,  RIJPMA ALBERT ,  FRANKEN JOHANNES ,  VAN PUTTEN PETER ,  VAN DER STRAATEN GERRIT

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70983 ,  F15D1/0065 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70916 ,  G21K1/06 ,  G21K5/08 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008 ,  Y10T137/206

Abstract: A radiation source comprising a fuel source configured to deliver fuel to a location from which the fuel emits EUV radiation. The radiation source further comprises an immobile fuel debris receiving surface provided with a plurality of grooves. The grooves have orientations which are arranged to direct the flow of liquid fuel under the influence of gravity in one or more desired directions.

Abstract translation: 一种辐射源，包括燃料源，其构造成将燃料输送到燃料发射EUV辐射的位置。 辐射源还包括设置有多个凹槽的不动的燃料碎屑接收表面。 凹槽具有定向，其布置成在一个或多个所需方向上在重力的影响下引导液体燃料的流动。

公开(公告)号：NL2011741A

公开(公告)日：2014-06-04

申请号：NL2011741

申请日：2013-11-06

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： DIJKSMAN JOHAN ,  BADIE RAMIN ,  HULTERMANS RONALD ,  LABETSKI DZMITRY

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00

公开(公告)号：NL2011533A

公开(公告)日：2014-05-06

申请号：NL2011533

申请日：2013-10-01

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： GREEVENBROEK HENDRIKUS ,  BADIE RAMIN ,  BANINE VADIM ,  DIJKSMAN JOHAN ,  KEMPEN ANTONIUS ,  YAKUNIN ANDREI ,  WINKELS KOEN GERHARDUS

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00

公开(公告)号：NL2010965A

公开(公告)日：2013-12-24

申请号：NL2010965

申请日：2013-06-13

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： RIEPEN MICHEL ,  JANSEN HANS ,  KATE NICOLAAS ,  PAULUSSEN DENNIS ,  SCHIMMEL HENDRIKUS ,  LABETSKI DZMITRY ,  CASTELIJNS HENRICUS ,  MESTROM WILBERT ,  BADIE RAMIN ,  KAMPINGA WIM ,  NIEUWENKAMP JAN ,  BRINKERT JACOB ,  VIRGO BRAIN ,  JILISEN REINIER ,  RIJPMA ALBERT ,  FRANKEN JOHANNES ,  PUTTEN PETER ,  STRAATEN GERRIT

IPC: H01L21/02

公开(公告)号：NL2006913A

公开(公告)日：2012-01-17

申请号：NL2006913

申请日：2011-06-09

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： LAURENT THIBAULT ,  KUNNEN JOHAN ,  BADIE RAMIN ,  KUSTERS GERARDUS ,  KNARREN BASTIAAN ,  LAFARRE RAYMOND ,  STEFFENS KOEN ,  KANEKO TAKESHI ,  VOOGD ROBBERT JAN ,  CORCORAN GREGORY ,  BLOKS RUUD

IPC: G03F7/20