公开(公告)号：KR100109290B1

公开(公告)日：1996-12-16

申请号：KR1019890017642

申请日：1989-11-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  테루큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  기무라요시오 ,  히라카와오사무 ,  아나리노리유키 ,  타테야마마사노리 ,  사카모토야스히로

IPC: H01L21/68

公开(公告)号：KR1019960024699A

公开(公告)日：1996-07-20

申请号：KR1019950059477

申请日：1995-12-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하세베게이조 ,  이이노히로유키 ,  셈바노리오 ,  기무라요시오

IPC: G03F7/26

Abstract: 본 발명은, 피처리체에 처리액을 공급하여 레지스트 처리를 행하는 레지스트 처리장치로서, 피처리체에 처리액을 공급하는 처리액공급노즐과, 이 처리액 공급노즐에 처리액을 송출하는 처리액 송출수단과, 이 처리액 송출수단과 상기 처리액 공급 노즐 사이에 설치된 처리액유로와, 이 처리액유로의 도중에 설치되어 처리액을 탈기하는 처리액 탈기기구를 구비하고, 처리액 탈기기구는, 밀폐용기와, 밀폐용기내에 처리액을 도입하는 도입구와, 밀폐용기내에 설치된 기액분리기능을 가진 부재와, 밀폐용기내를 배기함에 의해, 기액분리기능을 가진 부재를 통해서 상기 처리액을 탈기하여 처리액으로부터 기체를 분리하는 배기수단과, 상기 기액분리기능을 가진 부재에 의해서 기체가 분리된 처리액을 상기 처리액 공급노즐을 향해 송출하는 송출구를 진 레지스트처리장치를 제공한다.

公开(公告)号：KR1019900008641A

公开(公告)日：1990-06-03

申请号：KR1019890017642

申请日：1989-11-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  테루큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  기무라요시오 ,  히라카와오사무 ,  아나리노리유키 ,  타테야마마사노리 ,  사카모토야스히로

IPC: H01L21/68

公开(公告)号：KR1020090027697A

公开(公告)日：2009-03-17

申请号：KR1020087032212

申请日：2007-06-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카시마쓰네나가 ,  이나도미히로아키 ,  기무라요시오

IPC: F16K27/00 ,  B05C11/08 ,  H01L21/027 ,  B05C13/02

CPC classification number: F16K27/003 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67178 ,  G03F7/70758

Abstract: A gas supply unit has a connection block with a rectangular solid shape, and a solenoid valve block made up of solenoid valves and a speed controller block made up of speed controllers are connected to one side face of the connection block. In the connection block, there are formed first flow paths and second flow paths.The first flow paths are for connection between each solenoid valve and each speed controller that correspond to each other, and the second flow paths are communicated to the other side face from the speed controllers. In the output side of the second flow paths that is on the other side face are provided connection ports. Gas supply tubes communicated with gas pressure-type drive sections are connected to the connection ports via a multi-connector. The gas supply unit can stabilize quality of a gas supply facility for supplying gas to gas pressure-type drive sections used for substrate processing device.

Abstract translation: 气体供给单元具有矩形固体形状的连接块，并且由电磁阀构成的电磁阀块和由速度控制器构成的速度控制器块连接到连接块的一个侧面。 在连接块中形成有第一流路和第二流路。第一流路用于在每个电磁阀与彼此对应的每个速度控制器之间连接，并且第二流动路径与 速度控制器。 在另一侧面上的第二流路的输出侧设有连接口。 与气体压力型驱动部连通的气体供给管通过多连接器与连接口连接。 气体供给单元能够稳定用于向用于基板处理装置的气体压力型驱动部供给气体的气体供给装置的质量。

公开(公告)号：KR100811964B1

公开(公告)日：2008-03-10

申请号：KR1020010059540

申请日：2001-09-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오가타구니에 ,  니시무코고키 ,  도미타히로시 ,  기무라요시오 ,  우에무라료이치 ,  다나카미치오

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67253 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6715

Abstract: 도포유닛과 현상유닛을 구비한 도포/현상장치에 노광장치를 접속하고 이들의 처리를 제어하는 제어부를 갖춘 레지스트 패턴 형성장치에 있어서, 레지스트 도포전의 바탕막의 반사율, 레지스트 도포후의 레지스트 막두께, 현상후의 현상선폭, 바탕막과 레지스트 패턴의 얼라인먼트 상태, 현상결함 등을 검사부 등으로 측정한다. 이 측정 데이터를 제어부에 송신하고, 제어부에서는 레지스트 막두께나 현상선폭 등 각 측정항목의 측정 데이터에 의거하여 측정 데이터에 대응하는 보정 파라미터가 선택되어 당해 보정 파라미터의 보정이 이루어진다. 이 때문에 보정작업이 용이하게 되고 오퍼레이터의 부담이 경감되는 동시에 적절한 보정을 할 수 있다.

公开(公告)号：KR100575310B1

公开(公告)日：2006-05-02

申请号：KR1020000012720

申请日：2000-03-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도시마다카유키 ,  오모리쓰타에 ,  기무라요시오

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03D5/04 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/38 ,  Y10S134/902

Abstract: 레지스트막 위에 감광기(感光基)를 갖는 용액을 도포하고, 그 위에 현상액을 도포하여, 감광기를 갖는 용액의 전면(全面)을 일괄(一括)적으로 노광(露光)한다. 레지스트막의 현상은, 감광기를 갖는 용액의 도포막이 현상액에 용해되면서 부터 일괄적으로 진행하여, 기판면내(面內)에 있어서의 현상개시의 시간차가 발생하지 않음으로써 균일하게 현상할 수 있기 때문에, 기판면내의 선폭균일성(線幅均一性, CD値均一性)을 향상시킬 수 있다.

Abstract translation: 将具有光敏基团的溶液涂覆在抗蚀剂膜上，并将显影剂涂覆在抗蚀剂膜上以使具有光敏基团的溶液的整个表面一次曝光。 由于抗蚀剂膜的现象，通过施加具有感光膜的溶液中，从溶解在显影剂中的批次进行时，它可以均匀地通过不的生成现象在基板平面（面内）的开始之间的时间差显影，在基板 可以改善平面中的线宽均匀性（线宽均匀性，CD值均匀性）。

公开(公告)号：KR100264109B1

公开(公告)日：2000-09-01

申请号：KR1019950018716

申请日：1995-06-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  기무라요시오 ,  하세베게이죠 ,  나가시마신지 ,  셈바노리오 ,  이이다나루아키 ,  하라다고지 ,  우에다잇세이 ,  고니시노부오

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184

Abstract: 본 발명은, 복수매의 피처리체를 수용한 적어도 하나의 카세트를 얹어놓는 카세트 스테이션과, 피처리체에 처리를 하는 복수의 처리실 및 처리실에 피처리체를 반입하고, 처리실로 부터 피처리체를 반출하는 피처리체 반송수단을 포함하는 처리스테이션과, 카세트 스테이션과 처리스테이션과의 사이에서 피처리체를 주고 받는 제1의 피처리체 주고 받기 수단과, 피처리체를 대기시키는 피처리체 대기영역 및 처리스테이션과의 사이에서 피처리체의 주고 받기를 하는 제2의 피처리체 주고 받기 수단을 포함하는 인터페이스부를 가지며, 처리스테이션에 있어서의 처리실이 피처리체 반송수단의 둘레에 배치되어 있고, 피처리체 반송수단은 연직방향으로 거의 평행한 회전축을 가지며, 회전축을 따라서 연직방향으로 승강가능하며, 회전축에 대하여 회전 가능한 기판처리시스템을 제공한다.

公开(公告)号：KR100224463B1

公开(公告)日：1999-10-15

申请号：KR1019960012023

申请日：1996-04-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기무라요시오 ,  모리타사토시 ,  마츠야마유지

IPC: H01L21/312

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05B14/00 ,  B05C11/08 ,  B05D1/005

Abstract: In the present invention, a waste solution and a exhaust gas are guided together from a drain cup DC into a storing means through common discharge means. Naturally, the gas-liquid separation is performed within the storing means in place of performing the gas-liquid separation within the drain cup DC. Therefore, the waste solution is not solidified within the drain cup so as to plug the common discharge means. Also, a predetermined waste solution is kept stored in the storing means included in the coating apparatus of the present invention, making it possible to permit the surface of the stored waste solution to absorb the mist, and the waste solution is prevented from being solidified within the storing means. Further, since a minimum amount of the exhaust gas is kept discharged even during non-operation of the coating apparatus by using an exhaust gas damper whose degree of opening can be controlled, the waste solution stored in the storing means is prevented from being solidified. Also, the waste solution evaporated within the storing means can be released to the outside.

公开(公告)号：KR100199681B1

公开(公告)日：1999-06-15

申请号：KR1019960000126

申请日：1996-01-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔야마유우지 ,  쓰네마쯔구니에 ,  후쿠다다카히데 ,  이즈미시니치로 ,  기무라요시오 ,  모리타사토시

IPC: H01L21/027

CPC classification number: C23C16/4482

Abstract: 처리제를 처리장치로 공급하는 장치는 액체 처리제를 저장하는 탱크와 탱크속에 구비되어 나선형 관에 의해 형성되는 열교환기를 가지고 있다. 질소가스(N
2 가스)가 탱크 속으로 도입되어 액체 처리제를 증발시킨다. 물은 열교환기의 하부에 연결된 유체 도입관으로부터 열교환기의 나선형관을 통해 열교환기의 상부에 연결된 유체 배출관으로 공급된다. 열교환기에서 물과 액체 처리제 사이의 열교환은 매우 효율적으로 수행된다. 전기를 사용하지 않아 안정성이 매우 높다.
버블링 공정에 의해 기체상태로 변화되는 액체 처리제의 온도는 효율적으로 제어되며, 탱크속에서 기화된 처리제의 농도는 안정화된다.

公开(公告)号：KR100164605B1

公开(公告)日：1999-02-01

申请号：KR1019920023980

申请日：1992-12-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 기무라요시오

IPC: H01L21/31

Abstract: 현상액 공급장치는, 현상액 공급노즐과, 웨이퍼를 지지하기 위한 회전척과, 공급노즐이 대기하기 위한 홀더를 구비한다. 공급노즐은, 반송부재에 의하여, 척상방의 공급위치와, 홀더상의 대기위치와의 사이를 반송한다. 공급노즐은, 현상액의 수납공간과 연결되어 통하는 여러 개의 구멍이 형성된 노즐팁을 가진다. 홀더는, 상기 구멍열을 따라서 연장되는 통을 가진다. 통은 노즐팁으로부터 떨어지는 현상액 방울과 접하여, 이것을 제거하도록 배치된다. 통의 저부에는 현상액을 배제하기 위한 여러 개의 구멍이 배열 형성된다.