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公开(公告)号:KR1019990014227A
公开(公告)日:1999-02-25
申请号:KR1019980030267
申请日:1998-07-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68
Abstract: 본 발명은, 예를들면 웨이퍼 상에 레지스트를 도포하고, 현상하는 도포현상처리시스템에 적용되는 반송장치 및 이 반송장치를 갖는 처리장치에 관한 것이다. 종래 반송장치에는 타이밍 밸트보다도 감속용 밸트쪽이 열화의 진행이 빠르게 되기 때문에, 쉽게 끊어지고, 감속용 밸트가 1본이기 때문에, 이 감속용 밸트가 끊어지게 되면 보지부가 떨어지는 문제점이 있었다.
본 발명은 기판을 보지하는 보지부와, 구동풀리와 종동풀리와의 사이에 상기 제 1무단밸트가 놓여지고, 상기 보지부가 상기 제 1무단밸트에 설치된 제 1반송기구와, 회전출력축을 갖는 구동원, 상기 구동풀리에 고정된 감속용 풀리 및 복수의 제 2무단밸트를 갖으며, 상기 회전출력축과 상기 감속용 풀리와의 사이에 복수의 상기 제 2무단밸트가 놓여진 제 2반송기구와, 상기 제 2무단밸트의 상태를 검출하는 제 1검출수단을 구비하는 반송장치 및 상기의 반송장치가 구비된 처리장치를 제공하여, 상기 복수의 제 2무단밸트 중, 하나가 절단이나 신장되어도 보지부가 떨어지는 것을 방지할 수 있고, 상태가 악화된 제 2무단밸트를 검출하기 위한 수단을 갖고 있기 때문에, 상태가 악화된 상기 제 2무단밸트에 대해 신속한 조치를 취할 수 있는 효과가 있는 복� �의 반송밸트를 갖는 반송장치 및 처리장치를 제시하고 있다.-
公开(公告)号:KR1019970060443A
公开(公告)日:1997-08-12
申请号:KR1019970001966
申请日:1997-01-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68
Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
반도체 웨이퍼나 LCD기판 등의 피처리체에 대해서 도포·현상을 하는 처리장치.
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
안에 공급된 청정공기의 분위기 변동이 작은 처리장치와, 피처리체를 반송하는 반송체를 승강할 때에 발생한 파티클이 처리 유니트에 확산하는 것을 방지할 수 있는 처리장치와, 각 처리 유니트에 대해서 항상 청정공기를 보내는 것이 가능한 처리장치를 제공하고자 하다.
3. 발명의 해결방법의 요지
처리장치는, 피처리체에 일련의 처리를 실시하는 복수의 처리 유니트가 연직방향을 따라서 다단으로 배치되어 이루어지는 복수의 처리 유니트 그룹, 이들 복수의 처리 유니트 그룹 사이에 피처리체에 반송공간이 규정되고, 피처리체 반송공간을 연직방향으로 이동가능하고 상기 각 처리 유니트에 대해서 피처리체의 받아넘김이 가능한 반송부재를 가지는, 피처리체를 반송하기 위한 반송기구를 구비하고 있다. 이 처리장치는, 또한 피처리체 반송 공간에 다운플로우를 형성하는 기구와, 다운플로우의 풍량을 제어하는 기구와, 피처리체 공간의 압력을 제어하는 기구수단을 구비하고, 이들에 의해 피처리체 반송공간의 분위기 변동을 완화한다.
4. 발명의 중요한 용도
반도체 웨이퍼나 LCD기판 처리장치.-
公开(公告)号:KR101861135B1
公开(公告)日:2018-05-25
申请号:KR1020120149585
申请日:2012-12-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , B65G49/07 , B25J13/00
CPC classification number: G06F17/00 , B25J13/085 , H01L21/67288 , H01L21/68707
Abstract: 모터의회전구동력에의해피반송부품을탑재한피구동수단을이동시킴으로써피반송부품을반송할경우에, 반송시에발생한이상을검출할수 있는반송장치및 반송방법을제공하는것이다. 피반송부품을피구동수단에탑재하여반송하는반송장치로서, 모터의회전구동력에의해구동측풀리를회전시킴으로써, 상기구동측풀리에걸쳐진벨트를이동시키고, 상기벨트에연결된피구동수단을소정의방향으로이동시키는구동수단과, 피구동수단의반송상태를감시하는반송감시수단을가지고, 상기반송감시수단은, 피구동수단을이동시키는데필요한상기모터의토크값을검출하고, 검출한토크값에기초하여상기토크값의시간에대한토크미분값을산출하고, 산출한토크미분값을이용하여반송상태를구분하는것을특징으로하는반송장치에의해상기의과제가달성된다.
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公开(公告)号:KR101690223B1
公开(公告)日:2017-01-09
申请号:KR1020120025434
申请日:2012-03-13
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , B65G49/07 , B25J15/06
CPC classification number: H01L21/6838
Abstract: 부품점수가적고간소한구조임에도불구하고, 기판에휨 또는뒤틀림이있어도안정적으로진공흡착하여보지(保持)할수 있는기판보지장치를제공하는것이다. 흡인통로(31)를가지는반송암 본체(30)와, 기판을진공흡착하여보지하는흡착면(41)과흡인구(42)를가지는흡착부(44)와, 흡인구와연통하는흡인홀(45)이형성되는원통형상의장착부(43)를구비하는패드본체(40)와, 패드본체의장착부가이동가능하게삽입가능한삽입홀(51)과, 흡인홀과흡인통로에연통하는연통로(54)가형성되고, 반송암 본체(30)에대하여고정되는패드보지부재(50)와, 패드본체의장착부에형성되는원호형상의외주홈(46)과패드보지부재의삽입홀에형성되는원호형상의내주홈(55)의사이에개재되고, 탄성변형가능한원형단면의 O링(60)을구비한다.
Abstract translation: 一种基板保持装置,包括:具有吸入路径的传送臂主体; 包括具有吸入面的吸引部和通过真空吸附保持基板的吸入口的垫体,以及形成有与吸入口连通的吸入孔的圆筒状的安装部, 衬垫保持构件,其具有插入孔,所述垫体的安装部可松动地插入该插入孔中;以及连通路,其与所述吸入孔和所述吸入路连通,并固定到所述传送臂体; 以及形成在所述垫主体的安装部分中的弧形外周槽和形成在所述垫的插入孔中的弧形的内周槽之间的具有圆形横截面的可弹性变形的环形气密保持构件 控股成员
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公开(公告)号:KR2020140003992U
公开(公告)日:2014-06-30
申请号:KR2020130010095
申请日:2013-12-06
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , B25J15/00
CPC classification number: H01L21/67742 , B25J15/0019
Abstract: 본 발명은 기판 유지 아암에 부착되는 기판 유지 부재의 교환에 요하는 시간의 단축, 작업자간 차이의 시정 및 교환에 요하는 비용을 억제할 수 있는 기판 유지 부재를 제공하는 것을 목적으로 한다.
기판 유지 아암(11)의 일부를 구성하는 프레임부(100)에 부착되는 기판 유지 부재(12)는, 프레임부에 부착되는 토대부(20)와, 토대부(20) 상에 부착되는 가이드부(30)를 구비하고, 토대부(20)와 가이드부(30)는 서로 감합하는 토대부와 가이드부에 형성된 위치 결정 오목부(22)와 위치 결정 볼록부(32)를 통해 착탈 가능하게 연결된다.-
公开(公告)号:KR101061651B1
公开(公告)日:2011-09-01
申请号:KR1020070001565
申请日:2007-01-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: F27B17/0025 , F27B5/04 , F27D5/0037 , F27D15/02 , H01L21/67109 , H01L21/67748 , H01L21/67784 , Y10S414/139
Abstract: 본 발명은 가열장치 및 가열방법에 관한 것으로서 가열 장치 (2)에서는 냉각 플레이트 (3) 및 열판 (6)에 웨이퍼 (W)의 이동로에 따라서 웨이퍼 (W)의 이동로의 냉각 플레이트 (3) 측에 향하여 윗쪽 비스듬하게 기판 부상용의 기체를 토출출 구멍 (3a, 6a)를 형성하고 상기 토출구멍 (3a, 6a)로부터의 기체의 토출에 의해 웨이퍼 (W)가 가동하려고 하는 누르는 힘에 저항하여 누름 부재 (51)에 의해 웨이퍼 (W)의 이동시의 후방측을 눌러 기체의 토출 방향과는 반대측인 열판 (6) 측에 웨이퍼 (W)를 이동시키고 또 상기 토출구멍 (3a, 6a)로부터의 기체의 토출에 의해 웨이퍼 (W)의 이동시의 전방측이 누름 부재 (51)을 누르는, 그리고, 상기 누름 부재 (51)을 기체의 토출 방향과 동일한 방향인 냉각 플레이트 (3)측에 이동시키는 냉각 플레이트와 열판을 구비한 가열 장치에 있어서 기체에 의해 기판을 냉각 플레이트 및 열판으로부터 부상시켜 기판을 수평 방향으로 이동시키는 것으로, 냉각 플레이트판과의 사이에 기판을 이동시켜 가열 장치의 박형화를 도모하는 기술을 제공한다.
Abstract translation: 本发明根据在冷却板3上的晶片(W)的运动和加热板涉及的加热装置和加热方法的加热装置2,冷却板3,以将晶片(W)的移动(6) 形成用于气体的土壤饿孔(3α,6α)用于朝向对晶片(W)由气体的排出的挤压力的一侧斜上方基板部分从所述排出口(3α,6α)尝试操作 并从在晶片(W)的移动后侧的压和气体的排出方向被按压部件51移动在加热板(6)侧,并且还排出口(3α,6α)的相对侧上的晶片(W) 通过气体的放电移动晶片(W)的前侧按压按压构件的51,而且,对于在相同的冷却板3,方向和气体的排出方向侧的按压部件51移动 在具有冷却板和加热板的加热装置中 它被示出为向上通过气体从冷却板和热板移动在水平方向上的基板中出现的衬底,并且提供了一种技术,通过移动冷却板和板之间的衬底,以降低所述加热装置的厚度。
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公开(公告)号:KR1020100137372A
公开(公告)日:2010-12-30
申请号:KR1020100057144
申请日:2010-06-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , H01L21/02 , B65G49/07
CPC classification number: H01L21/67742 , G03B27/52 , H01L21/67748 , H01L21/67754
Abstract: PURPOSE: A substrate transferring unit, a substrate transferring method, a coating and developing unit, and a storage media are provided to improve the transferring speed of a substrate between a second module and a supporting unit. CONSTITUTION: A moving unit moves along a transferring path. A supporting unit supports a substrate. A plurality of substrates is stored in a carrier. The carrier is entered in a carrier block(C1). An interface block is arranged between a processing block(C2) and an exposing unit. The substrate is transferred from the processing block to the exposing unit in order to implement an exposing process with respect to the substrate.
Abstract translation: 目的:提供基板转印单元,基板转印方法,涂层和显影单元以及存储介质,以提高第二模块和支撑单元之间的基板的转印速度。 构成:移动单元沿着传送路径移动。 支撑单元支撑基板。 多个基板被存储在载体中。 载体进入载体块(C1)。 接口块布置在处理块(C2)和曝光单元之间。 衬底从处理块转移到曝光单元,以实现相对于衬底的曝光工艺。
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公开(公告)号:KR100698352B1
公开(公告)日:2007-03-23
申请号:KR1020060068647
申请日:2006-07-21
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor: 키타노준이치 , 마츠야마유지 , 키타노타카히로 , 카타노타카유키 , 마츠이히데후미 , 스즈키요 , 야마시타마사미 , 아오야마토루 , 이와키히로유키 , 시무라사토루 , 데구치마사토시 , 요시하라코우스케 , 이이다나루아키
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67178 , G03F7/70991 , H01L21/67017 , H01L21/6715 , H01L21/67161 , H01L21/67184 , H01L21/67742 , H01L21/67778 , Y10T29/41
Abstract: 도포현상 처리시스템에 있어서 경계판에 의해 나누어진 각 영역, 즉 카세트 스테이션, 처리 스테이션 및 인터페이스부의 상부에 각 영역 내로 불활성 기체를 공급하는 기체 공급부를 각각 설치한다. 상기 각 영역의 하부에는 각 영역 내의 분위기를 배기하기 위한 배기관을 설치한다. 각 기체 공급장치로 산소 등의 불순물이나 미립자를 포함하지 않는 불활성 기체를 각 영역 내로 공급하고 각 영역 내의 분위기를 배기관으로 배기함으로써 각 영역 내의 분위기를 청정한 상태로 유지한다.
Abstract translation: 提供一种气体供应单元,用于将惰性气体供应到由涂布和显影系统中的边界板划分的每个区域中,即在盒台,处理台和接口单元的上方。 在每个区域下方设置用于排出每个区域中的气氛的排气管。 将不含氧等杂质的惰性气体和不含颗粒的惰性气体供应到每个气体供应单元中,并且将每个区域中的气氛排出到排气管以保持每个区域中的气氛清洁。
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公开(公告)号:KR100251340B1
公开(公告)日:2000-04-15
申请号:KR1019960002585
申请日:1996-02-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68
CPC classification number: H01L21/6715 , H01L21/67781 , H01L21/68707
Abstract: 기판처리 장치는,
웨이퍼(W)가 반송되는 Y축 방향으로 늘어지는 공통의 통로와, 이 공통 통로의 양측에 다단계로 적층된 복수의 처리 유니트와, 이들의 처리 유니트에 웨이퍼 (W)를 반입/반출하기 위하여, 공통의 통로내를 Y축 방향으로 이동함과 동시에, Z축 주위에-
公开(公告)号:KR101705932B1
公开(公告)日:2017-02-10
申请号:KR1020130028548
申请日:2013-03-18
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 복수의기판을저장하는캐리어를캐리어블록에반입하고, 상기기판을처리블록에서처리하는기판처리장치에있어서, 높은처리량을얻는동시에당해기판처리장치의대형화를방지하는것이다. 캐리어로부터반입측기판임시적재모듈로기판의반송을행하고, 당해캐리어내의기판의불출이모두종료된후에반입측기판임시적재모듈로부터상기처리블록으로기판을반송하는제1 기판반송기구와, 반출측임시적재모듈에임시적재된기판의반송처의캐리어가제2 캐리어적재부에적재된후, 상기반출측임시적재모듈로부터당해캐리어로상기기판의반송을행하고, 당해캐리어가적재되어있지않을때에는상기반출측임시적재모듈로기판을반송하는제2 기판반송기구를구비하도록장치를구성한다.
Abstract translation: 要解决的问题:为了获得高通量并且防止基板处理装置在用于通过将用于将多个基板存储到载体块中的载体进行处理的处理块中的基板的处理中变大。解决方案: 该装置被构造成包括第一基板承载机构,用于将基板从载体承载到携带侧临时放置模块,并且在完成放电之后将基板从携带侧基板临时放置模块运送到处理块 载体中的基板和第二基板承载机构,用于将临时放置在进出侧临时放置模块中的基板的承载目的地的载体安装到载体中之后将载体从进出侧临时放置模块运送到载体 第二承载件安装部,并且当基板移动到承载侧临时放置模块时 e载体未安装。
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