公开(公告)号：KR20100039311A

公开(公告)日：2010-04-15

申请号：KR20100017706

申请日：2010-02-26

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： DE JONG ANTHONIUS MARTINUS COR ,  STAVENGA MARCO KOERT ,  JANSEN BAUKE ,  BEEREN RAYMOND GERARDUS MARIUS ,  HOEKERD KORNELIS TIJMEN ,  JANSEN HANS ,  WANTEN PETER FRANCISCUS ,  CUIJPERS JOHANNES WILHELMUS JACOBUS LEONARDUS

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02 ,  H01L21/302

CPC classification number: G03F7/70925 ,  B08B3/12 ,  G03F7/70341 ,  G03F9/7096 ,  H01L21/02041

Abstract: PURPOSE: A cleaning device, a lithography device, and a method for cleaning the lithography device are provided to efficiently clean an immersion lithographic projection apparatus using a megasonic wave through liquid. CONSTITUTION: A megasonic transducer(20) cleans the surface of an immersion lithographic projection apparatus. A liquid supply system supplies liquid between the megasonic transducer and the surface to be cleaned. A cleaning solution outlet provides a space for discharging a liquid solution(30) formed on the surface of the megasonic transducer.

Abstract translation: 目的：提供一种清洁装置，光刻装置和用于清洁光刻装置的方法，以有效地清洗使用超声波通过液体的浸没式光刻投影装置。 构成：超声波换能器（20）清洁浸没式光刻投影装置的表面。 液体供应系统在兆声传感器和要清洁的表面之间提供液体。 清洁溶液出口提供用于排出形成在兆声换能器表面上的液体溶液（30）的空间。

公开(公告)号：KR20210008044A

公开(公告)日：2021-01-20

申请号：KR20207035295

申请日：2019-06-04

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： WANG YONGXIN ,  DONG ZHONGHUA ,  LAI RUI LING ,  KANAI KENICHI

IPC: H01J37/244 ,  G01T1/24 ,  H01J37/28 ,  H01J37/285 ,  H01L31/08

Abstract: 검출기에는감지요소어레이가제공될수 있다. 검출기는어레이를포함하는반도체기판, 및검출기에입사되는하전입자의개수를카운트하도록구성된회로를포함할수 있다. 검출기의회로는복수의감지요소로부터의출력을처리하고어레이의감지요소상의하전입자도착이벤트에응답하여카운터를증분시키도록구성될수 있다. 다양한카운팅모드가사용될수 있다. 카운팅은에너지범위를기초로할 수있다. 특정에너지범위에서하전입자의개수가카운트될수 있고, 감지요소에서오버플로우(overflow)에직면할때 오버플로우플래그(flag)가설정될수 있다. 회로는각각의감지요소에서발생하는각각의하전입자도착이벤트의타임스탬프를결정하도록구성될수 있다. 감지요소의크기는하전입자카운팅을가능하게하는기준에기초하여결정될수 있다.

公开(公告)号：KR20210007971A

公开(公告)日：2021-01-20

申请号：KR20207031906

申请日：2019-04-12

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： DE GRAAF DENNIS ,  BEAUDRY RICHARD ,  BIRON MAXIME ,  JANSSEN PAUL ,  KATER THIJS ,  KORNELSEN KEVIN ,  KUIJKEN MICHAEL ALFRED JOSEPHUS ,  KUNTZEL JAN HENDRIK WILLEM ,  MARTEL STEPHANE ,  NASALEVICH MAXIM ALEKSANDROVICH ,  SALMASO GUIDO ,  VAN ZWOL PIETER JAN

IPC: G03F1/62 ,  G03F1/22 ,  G03F7/20

Abstract: 한면의마스크및 반대면의적어도하나의층을포함한웨이퍼가설명되며, 마스크는적어도하나의층이실질적으로없는반대면의적어도일부분위에놓이는적어도하나의스크라이브라인을포함한다. 또한, 한면의마스크및 반대면의적어도하나의층을포함한웨이퍼를제공하는단계, 마스크에서스크라이브라인을정의하는단계, 및적어도부분적으로스크라이브라인위에놓이는적어도하나의층의부분을선택적으로제거하는단계를포함하는펠리클제조방법, 및펠리클코어를제공하는단계, 및비-산화환경에서펠리클코어의적어도하나의면으로부터적어도일부재료를제거하는단계를포함하는펠리클제조방법이설명된다. 여하한의실시형태에서, 펠리클은금속질화물층을포함할수 있다.

公开(公告)号：KR20200138728A

公开(公告)日：2020-12-10

申请号：KR20207026977

申请日：2019-03-20

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： ZHANG KEVIN WEIMIN ,  PURVIS MICHAEL ANTHONY ,  STINSON CORY ALAN

IPC: H05G2/00 ,  H01S3/00 ,  H01S3/23

Abstract: 시스템은, 수정된광빔을생성하기위해광빔과상호작용하도록구성된공간변조디바이스 - 수정된광빔은수정된광빔의전파방향에수직인방향을따라불균일한세기를갖는광의공간패턴을포함하고, 광의공간패턴은하나이상의광 성분을포함함 -; 및플라즈마상태에있을때 EUV 광을방출하는타겟재료를포함하는타겟을타겟영역에제공하도록구성된타겟공급시스템을포함한다. 타겟영역은수정된광빔내의하나이상의광 성분중 적어도일부가타겟의부분과상호작용하도록빔 경로와중첩된다.

公开(公告)号：KR20200138328A

公开(公告)日：2020-12-09

申请号：KR20207031052

申请日：2019-03-04

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： BASTANI VAHID ,  YPMA ALEXANDER

IPC: G03F7/20 ,  G05B19/418

Abstract: 제조프로세스의프로세스단계를거치는기판과연관된데이터를그룹화하기위한방법이개시된다. 이러한방법은, 프로세스단계의대상이되기전의기판과연관된제 1 데이터를획득하는단계, 및프로세스단계의대상이된 후의기판과연관된제 2 데이터의복수개의세트를획득하는단계를포함하고, 제 2 데이터의각각의세트는제 1 데이터의특성의상이한값과연관된다. 제 2 데이터의세트들사이의거리의척도를기술하는거리메트릭이결정되고; 상기거리메트릭의속성에기반하여제 2 데이터가그룹화된다.

公开(公告)号：KR20200134307A

公开(公告)日：2020-12-01

申请号：KR20207030833

申请日：2019-03-27

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： VAN DORST RINGO PETRUS CORNELIS ,  KRAMER GIJS ,  SMEETS BENJAMIN CUNNEGONDA HENRICUS ,  FRENCKEN MARK JOHANNES HERMANUS

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 본발명은스테이지장치를제공하고, 이스테이지장치는대상물지지부, 복수의지지부재및 제어유닛을포한한다. 대상물지지부는대상물을장착하기위한표면을포함한다. 이표면은평면내에서연장되어있다. 복수의지지부재는대상물을지지하기위한것이며, 그립퍼로부터대상물을받고또한대상물을표면에배치하며그리고/또는그 반대로도할 수있다. 지지부재는적어도평면에수직인제 1 방향으로움직일수 있다. 제어유닛은대상물의비평면형상에관한형상정보를받고또한지지부재의위치를제어하도록배치된다. 제어유닛은, 제 1 방향으로의대상물의공간점유를줄이도록위치를제어하여, 지지부재에의해지지되고있는대상물을형상정보에근거하여기울이도록배치된다.

公开(公告)号：KR20200125686A

公开(公告)日：2020-11-04

申请号：KR20207027989

申请日：2019-03-21

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： CHUANG CHUNG BIN ,  JACOBS SANDER SILVESTER ADELGONDUS MARIE

IPC: G03F7/20

Abstract: 기판상에제조된구조체의속성을결정하기위한방법및 장치에관한것으로서, 구조체의측정된퓨필이미지의픽셀로부터측정된특성을결정하는것 - 측정된특성은측정된퓨필이미지보다적은정보를포함함 -; 측정된특성에대응하고구조체의후보모델에기초하는초기시뮬레이션된특성을생성하는것; 측정된특성과시뮬레이션된특성간의차이가개략적임계치미만이될 때까지반복적인방법으로측정된특성을시뮬레이션된특성과비교하는것; 후보모델로서의개략적모델에기초하여초기시뮬레이션된퓨필이미지를생성하는것; 및측정된퓨필이미지의적어도일부와시뮬레이션된퓨필이미지의적어도일부간의차이가미세임계치미만이될 때까지반복적인방법으로측정된퓨필이미지의적어도일부를시뮬레이션된퓨필이미지의적어도일부와비교하는것에의해구조체의속성이결정된다.

公开(公告)号：KR20180072786A

公开(公告)日：2018-06-29

申请号：KR20187014403

申请日：2016-10-11

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： PETER MARIA ,  ABEGG ERIK ACHILLES ,  GIESBERS ADRIANUS JOHANNES MARIA ,  KLOOTWIJK JOHAN HENDRIK ,  NASALEVICH MAXIM ALEKSANDROVICH ,  VAN DEN EINDEN WILHELMUS THEODORUS ANTHONIUS JOHANNES ,  VAN DER ZANDE WILLEM JOAN ,  VAN ZWOL PIETER JAN ,  VERMEULEN JOHANNES PETRUS MARTINUS BERNARDUS ,  VLES DAVID FERDINAND ,  VOORTHUIJZEN WILLEM PIETER

IPC: G03F1/62 ,  G03F1/66 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70958 ,  G03F1/62 ,  G03F7/70983 ,  G21K2201/067

Abstract: 리소그래피장치를위한펠리클을제조하는방법들이개시된다. 일배치에서, 상기방법은기판의평탄한표면상에적어도하나의그래핀층을증착하는단계를포함한다. 상기기판은제1기판부및 제2기판부를포함한다. 상기방법은상기적어도하나의그래핀층으로부터프리스탠딩막을형성하기위해상기제1기판부를제거하는단계를더 포함한다. 상기프리스탠딩막은상기제2기판부에의해지지된다.

公开(公告)号：KR20180070658A

公开(公告)日：2018-06-26

申请号：KR20187013952

申请日：2016-09-26

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： VAN HAREN RICHARD JOHANNES FRANCISCUS ,  MOS EVERHARDUS CORNELIS ,  TEN BERGE PETER ,  WARDENIER PETER HANZEN ,  JENSEN ERIK ,  CEKLI HAKKI ERGUN

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70625 ,  G03F7/705

Abstract: 본발명은, 패터닝디바이스를포함하는패터닝프로세스에서패터닝에러에관한정보를획득하는단계; 상기패터닝에러정보에따라수정장치에의해상기패터닝에러를수정하여도입된시간주기에걸친비선형성을결정하는단계; 및상기결정된비선형성에기초하여수정장치와함께사용하기위한패터닝에러오프셋을컴퓨터시스템에의해결정하는단계를포함하는방법을제공한다

公开(公告)号：KR20180066209A

公开(公告)日：2018-06-18

申请号：KR20187013422

申请日：2016-09-21

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： WANG TE SHENG

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/66

CPC classification number: G03F7/70558 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70641 ,  H01L22/12

Abstract: 본명세서에서, 패터닝공정에의해생성된기판의부분으로부터패터닝공정의직접측정가능한처리파라미터의값을측정하는단계; 직접측정가능한처리파라미터와직접측정가능하지않은처리파라미터간의관계를얻는단계; 및직접측정가능한처리파라미터의값 및관계로부터직접측정가능하지않은처리파라미터의값을결정하는단계를포함하는방법이개시된다.