Abstract:
The invention relates to a light-emitting diode chip comprising a series of layers (10) provided with at least one n-type conductivity layer. Said light-emitting diode chip comprises a reflective layer (5) that is connected in a conductive manner to the n-type conductivity layer (31). At least one transparent dielectric layer (4) is arranged between the n-type conductivity layer and the reflective layer.
Abstract:
A method for producing a light-emitting semiconductor component is specified, wherein a light-emitting semiconductor chip (2) is arranged on a mounting area (10) of a carrier (1), wherein the semiconductor chip (2) is electrically connected to electrical contact regions (11, 12) on the mounting area (10), and wherein an encapsulation layer (3) is applied to the semiconductor chip (2) by means of atomic layer deposition, wherein all surfaces of the semiconductor chip (2) which are free after mounting and electrical connection are covered with an encapsulation layer (3). Furthermore, a light-emitting semiconductor component is specified.
Abstract:
The invention relates to an optoelectronic semiconductor chip (10), which comprises a semiconductor body (1) made of semiconductor material, a p-contact layer (21a) and an n-contact layer (2). The semiconductor body (1) comprises an active layer (1a) provided for generating radiation. The semiconductor body has a p-side (1c) and an n-side (1b), between which the active layer (1a) is arranged. The p-contact layer (21a) is provided for electrical contacting of the p-side (1c). The n-contact layer (2) is provided for electrical contacting of the n-side (1b). The n-contact layer (2) contains a TCO layer (2a) and a mirror layer (2b), wherein the TCO layer (2a) is arranged between the n-side (1b) of the semiconductor body (1) and the mirror layer (2b).
Abstract:
A radiation-emitting component is provided, comprising a layer stack based on a semiconductor material, said layer stack having an active layer sequence (A, C1, C2) for producing electromagnetic radiation, characterized in that - on a last layer (C2) of the layer stack in the radiation direction (e) a plurality of metal surfaces (M) are applied, - the metal surfaces (M) have different dimensions (a1, a2) in a first direction (d1) and in a second direction (d2) different from the first, and - the metal surfaces (M) are disposed periodically in the first direction (d1) and periodically in the second direction (d2).
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Modul für eine Videowand mit lichtemittierenden Bauelementen, die auf einem Substrat angeordnet sind, wobei für jedes Bauelement eine Ansteuerschaltung zur selektiven Ansteuerung des Bauelementes auf dem Substrat vorgesehen ist, wobei Zeilenleitungen und Spaltenleitungen vorgesehen sind, wobei jede Ansteuerschaltung mit einer Zeilenleitung und mit einer Spaltenleitung verbunden ist, wobei jede Ansteuerschaltung mit Stromversorgungsleitungen verbunden ist, wobei das Substrat Durchkontaktierungen aufweist, um die Zeilenleitungen und die Spaltenleitungen auf eine Rückseite des Substrates zu führen. Die Erfindung betrifft des Weiteren eine Anordnung mit wenigstens zwei Modulen und Verfahren zum Herstellen einer Anordnung mit wenigstens zwei Modulen.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Verkapselung eines optoelektronischen Bauelements angegeben, wobei das Verfahren die folgenden Schritte aufweist: – Bereitstellen einer Oberfläche (6), die verkapselt werden soll, – Erzeugen von reaktiven Sauerstoffgruppen (8) und/oder reaktiven Hydroxygruppen auf dieser Oberfläche (6), und – Aufbringen einer Passivierungsschicht (9) auf diese Oberfläche (6) mittels Atomlagenabscheidung. Ferner wird ein Leuchtdioden-Chip (1) bereitgestellt.
Abstract:
Es wird eine optoelektronischer Halbleiterchip (1) mit einer Halbleiterschichtenfolge (2, 2') angegeben, die einen ersten Halbleiterbereich (3) eines ersten Leitfähigkeitstyps und einen zweiten Halbleiterbereich (4) eines zweiten Leitfähigkeitstyps und eine aktive Zone mit einem pn-Übergang (5) aufweist, die zwischen dem ersten Halbleiterbereich (3) und dem zweiten Halbleiterbereich (4) ausgebildet ist. Die Halbleiterschichtenfolge (2) ist auf einem Träger (8) angeordnet ist. Der Halbleiterchip (1) weist weiterhin einen ersten Kontakt auf, der zum elektrischen Anschließen des ersten Halbleiterbereichs (3) vorgesehen ist, und einen von dem ersten Kontakt verschiedenen zweiten Kontakt, der zum elektrischen Anschließen des zweiten Halbleiterbereichs (4) vorgesehen ist. Außerdem umfasst der Halbleiterchip (1) ein parallel zu dem pn-Übergang (5) geschaltetes erstes kapazitives elektrisches Element mit einem ersten dielektrischen Element, das dazu geeignet ist, bei Überspannung in Sperrrichtung des pn-Übergangs (5) zumindest einen Teil der Ladung aufzunehmen.
Abstract:
Es wird ein optoelektronischer Halbleiterchip (10) angegeben, der einen Halbleiterkörper (1) aus Halbleitermaterial, eine p-Kontaktschicht (21a) und eine n-Kontaktschicht (2) umfasst. Der Halbleiterkörper (1) weist eine zur Strahlungserzeugung vorgesehene aktive Schicht (1a) auf. Der Halbleiterkörper weist eine p-Seite (1c) und eine n-Seite (1b) auf, zwischen denen die aktive Schicht (1a) angeordnet ist. Die p-Kontaktschicht (21a) ist zur elektrischen Kontaktierung der p-Seite (1c) vorgesehen. Die n-Kontaktschicht (2) ist zur elektrischen Kontaktierung der n-Seite (1b) vorgesehen und enthält eine TCO-Schicht (2a).